[發明專利]基板清洗刷以及基板清洗裝置

有效

• 申請號: 201811397131.2
• 申請日: 2018-11-22
• 公開（公告）號: CN110076105B
• 公開（公告）日: 2022-02-18
• 發明（設計）人: 平岡伸康;矢野航;篠原敬;田中克典
• 申請（專利權）人: 株式會社斯庫林集團
• 主分類號: B08B1/00
• 分類號: B08B1/00;B08B1/04;B08B11/00;H01L21/67;A46B11/06
• 代理公司: 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205
• 代理人: 馬爽;臧建明

本發明提供一種基板清洗刷以及基板清洗裝置，能夠有效地進行刷的外周部的顆粒去除。對晶片(2)進行清洗的基板清洗刷(20)包括刷本體(21)、刷保持部(23)以及主流路形成體(25)。刷本體(21)含有具有液體可滲透的結構且抵接于基板的下表面。刷保持部(23)使刷本體(21)的上下方向(d1)的前端部于外側露出并且保持刷本體(21)。主流路形成體(25)具有主流路(251)及多個副流路(252)。主流路(251)形成為從外部供給的處理液可通過。多個副流路(252)從主流路(251)分叉并向刷本體(21)的與上下方向(d1)正交的寬度方向(d2)的外側延伸，并且與刷本體(21)的上表面相連。

技術領域

本發明涉及一種對基板進行清洗的基板清洗刷以及基板清洗裝置。成為處理對象的基板中，例如包括半導體基板、液晶顯示裝置用基板、有機電致發光(Electroluminescence，EL)顯示裝置等平板顯示器(Flat Panel Display，FPD)用基板、光盤用基板、磁盤用基板、光磁盤用基板、光掩模(photo mask)用基板、陶瓷基板、太陽電池用基板等。

背景技術

在半導體基板的制造工序中，有時為了將基板凈化而進行擦洗。擦洗中，對旋轉中的基板中心供給水等清洗液，通過使基板清洗刷的前端觸碰基板的表面而對基板的表面進行清洗。基板清洗刷中抵接于基板的刷本體例如具備多數個聚乙烯醇(Polyvinylalcohol，PVA)制海綿(sponge)狀物或聚丙烯(Polypropylene，PP)制毛。

在基板的清洗中，有時基板上的顆粒(particle)進入刷的纖維中，顆粒蓄積在刷中。因此，有縮短刷本體的使用期限等問題。而且，即便是未使用的刷本體，也有時在刷本體的內部原本便存在顆粒。

這樣，在刷本體的內部大多含有顆粒，但是此顆粒難以通過從外部進行清洗而掉落。因此，較理想為從刷本體噴出處理液。這種基板清洗刷例如記載在專利文獻1中。

專利文獻1中記載了將純水供給于刷的內部的技術、以及從刷的內部向外部噴出清洗液的技術。而且，專利文獻1中，在刷的內部形成有空間，通過連接于此空間的上部中心的管而供給于刷內。另外，表示了將供給于空間的處理液從刷的前端噴出的狀況。

[現有技術文獻]

[專利文獻]

[專利文獻1]日本專利特開2003-68695號公報

發明內容

[發明所要解決的問題]

但是，在如專利文獻1那樣不從刷的外周部噴出處理液的情況下，顆粒容易附著于刷的外周部。尤其刷的前端外緣部為與基板的未清洗部分接觸的部分，因此是來自基板的顆粒相對較容易附著的部分。因此，需求在刷的外周部良好地噴出處理液，由此去除顆粒的技術。

因此，本發明的目的在于提供一種有效進行刷的外周部的顆粒去除的技術。

[解決問題的技術手段]

為了解決所述問題，第一實施方式是一種對基板進行清洗的基板清洗刷，其包括：刷本體，具有上表面及下表面，下表面具有液體可滲透的結構并且抵接于所述基板；主流路形成體，具有從外部供給的處理液通過的主流路；以及多個副流路，從所述主流路分叉并向所述刷本體的與上下方向正交的寬度方向的外側延伸，并且可將所述處理液連通至所述刷本體的所述上表面。

第二實施方式為第一實施方式的基板清洗刷，且所述副流路的截面積小于所述主流路的截面積。

第三實施方式為第一實施方式或第二實施方式的基板清洗刷，且所述副流路向所述上下方向的下側及向所述寬度方向的外側延伸。

第四實施方式為第一實施方式至第三實施方式中任一個的基板清洗刷，且所述主流路形成體在與所述上表面相向的端部的中間部具有凸部，所述刷本體在所述上表面具有供壓入所述凸部的凹部。