[發明專利]基板清洗刷以及基板清洗裝置

有效

• 申請號: 201811397131.2
• 申請日: 2018-11-22
• 公開（公告）號: CN110076105B
• 公開（公告）日: 2022-02-18
• 發明（設計）人: 平岡伸康;矢野航;篠原敬;田中克典
• 申請（專利權）人: 株式會社斯庫林集團
• 主分類號: B08B1/00
• 分類號: B08B1/00;B08B1/04;B08B11/00;H01L21/67;A46B11/06
• 代理公司: 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205
• 代理人: 馬爽;臧建明

1.一種基板清洗刷，對基板進行清洗，其特征在于，包括：

刷本體，具有上表面及下表面，所述下表面具有液體能滲透的結構并且抵接于所述基板；

主流路形成體，具有從外部供給的處理液通過的主流路；以及

多個副流路，從所述主流路分叉并向所述刷本體中與上下方向正交的寬度方向的外側延伸，并且能將所述處理液連通至所述刷本體的所述上表面，

所述主流路形成體具有與所述刷本體的所述上表面相向的相向面，

所述主流路形成體的所述相向面與所述刷本體的所述上表面之間形成環狀流路，且

所述多個副流路在所述主流路與所述環狀流路之間連通所述主流路及所述環狀流路。

2.根據權利要求1所述的基板清洗刷，其特征在于，

所述副流路的截面積小于所述主流路的截面積。

3.根據權利要求1或2所述的基板清洗刷，其特征在于，

所述副流路向所述上下方向的下側及向所述寬度方向的外側延伸。

4.根據權利要求1或2所述的基板清洗刷，其特征在于，

所述主流路形成體在與所述上表面相向的端部的中間部具有凸部，

所述刷本體在所述上表面具有供壓入所述凸部的凹部。

5.根據權利要求1或2所述的基板清洗刷，其特征在于，

所述主流路形成體及所述刷本體繞著沿所述上下方向延伸的旋轉軸線而具有旋轉對稱性。

6.根據權利要求5所述的基板清洗刷，其特征在于，

所述主流路形成于所述旋轉軸線的位置。

7.根據權利要求5所述的基板清洗刷，其特征在于，

所述多個副流路包含：

第一副流路，能在以所述旋轉軸線為中心的第一半徑的圓周上的位置，將所述處理液連通至所述刷本體的所述上表面；以及

第二副流路，能在以所述旋轉軸線為中心且與所述第一半徑不同的第二半徑的圓周上的位置，將所述處理液連通至所述刷本體的所述上表面。

8.根據權利要求1或2所述的基板清洗刷，其特征在于，

在所述刷本體的寬度方向的中間部，形成有沿所述上下方向貫穿所述刷本體的貫通孔。

9.根據權利要求1或2所述的基板清洗刷，其特征在于，

所述多個副流路形成于所述主流路形成體的內部，

所述多個副流路各自連接于多個噴出口，所述多個噴出口形成于所述主流路形成體的與所述刷本體的所述上表面相向的所述相向面。

10.根據權利要求9所述的基板清洗刷，其特征在于，

所述多個噴出口設于在所述上下方向上與所述刷本體的上表面重疊的位置。

11.根據權利要求9所述的基板清洗刷，其特征在于，

所述多個噴出口在所述主流路形成體的所述相向面形成有凹狀槽，

在所述凹狀槽的內側形成有所述多個噴出口。

12.根據權利要求11所述的基板清洗刷，其特征在于，

所述凹狀槽形成為沿所述寬度方向擴展的環狀。

13.根據權利要求7所述的基板清洗刷，其特征在于，

所述第一副流路的截面積與所述第二副流路的截面積不同。

14.一種基板清洗裝置，對基板進行清洗，其特征在于，包括：

基板保持部，保持基板；

如權利要求1至13中任一項所述的基板清洗刷；

處理液供給部，向所述基板清洗刷供給處理液；以及

旋轉機構，使所述基板清洗刷旋轉。