[發明專利]蝕刻劑和通過利用該蝕刻劑制造顯示裝置的方法

有效

• 申請號: 201811389335.1
• 申請日: 2018-11-21
• 公開（公告）號: CN109811345B
• 公開（公告）日: 2023-04-07
• 發明（設計）人: 樸種熙;金基泰;金真錫;金范洙;金相泰;沈慶輔;南基龍;尹暎晉;林大成
• 申請（專利權）人: 三星顯示有限公司;東友精細化工有限公司
• 主分類號: C23F1/30
• 分類號: C23F1/30;C09K13/06;C23F1/16;H10K71/00;H10K50/805;H10K59/12
• 代理公司: 北京銘碩知識產權代理有限公司 11286
• 代理人: 劉燦強;薛義丹

提供一種蝕刻劑和通過利用該蝕刻劑制造顯示裝置的方法，所述蝕刻劑包括：基于蝕刻劑的總重量，大約1wt％至大約15wt％的硫化過氧化物、大約5wt％至大約10wt％的硝酸、大約20wt％至大約40wt％的有機酸、大約0.05wt％至大約5wt％的硝酸鐵、大約0.1wt％至大約5wt％的離子螯合劑以及大約0.1wt％至大約5wt％的緩蝕劑，其中，余量是去離子水。

本申請要求于2017年11月21日在韓國知識產權局提交的第10-2017-0155816號韓國專利申請的優先權和權益，所述韓國專利申請的全部內容通過引用包含于此。

技術領域

一個或更多個實施例涉及一種蝕刻劑和通過利用該蝕刻劑制造顯示裝置的方法。

背景技術

隨著已經開發了用于在視覺上表達各種電信號信息的顯示器，正在研究和開發具有諸如薄、輕質和低功耗的優異特性的各種平板顯示裝置。另外，有機發光顯示裝置由于其諸如視角寬、響應速度快以及其輕質和薄的特點，已經作為下一代顯示裝置而受到關注。

同時，隨著顯示裝置的顯示區域變得越來越大，包括在顯示裝置中的各種布線和電極必須由具有盡可能最低比電阻的材料形成。為此，包括在顯示裝置中的各種布線和電極可包括銀。然而，包括銀的布線或電極與位于布線或電極之上或之下的層或膜的結合強度會弱，因此，為了彌補這個問題，布線或電極可包括其中包括銀的膜和另一導電膜堆疊的多層膜。

可使用諸如包括蝕刻工藝的光刻工藝的圖案化工藝來形成顯示裝置中包括的各種布線和電極。在這種情況下，當布線或電極包括其中具有不同性質的膜堆疊的多層膜時，在通過使用同時蝕刻工藝來形成具有期望的特性的布線或電極時存在限制。另外，由于用于蝕刻布線的其它蝕刻劑包括磷酸，因此在蝕刻工藝期間由于磷酸而會發生對顯示裝置中的其它布線的損壞。此外，通過上述工藝，銀離子會被還原并沉淀，因此，由于銀顆粒，在布線或電極中會發生缺陷。為防止(或減少)銀顆粒的產生，可順序地蝕刻包括在多層膜中的包括銀的膜和另一導電膜。然而，在這種情況下，制造工藝的效率顯著下降。

發明內容

一個或更多個實施例包括蝕刻劑，該蝕刻劑不包括磷酸并能夠被用于同時(例如，并發地)蝕刻包括銀膜的多層膜。

一個或更多個實施例包括通過利用該蝕刻劑制造顯示裝置的方法。

實施例的另外的方面將在下面的描述中被部分地闡述，并且部分地，將通過描述而清楚，或者可以通過給出的實施例的實踐而了解。

根據一個或更多個實施例，蝕刻劑包括：基于蝕刻劑的總重量，大約1wt％至大約15wt％的硫化過氧化物；大約5wt％至大約10wt％的硝酸；大約20wt％至大約40wt％的有機酸；大約0.05wt％至大約5wt％的硝酸鐵；大約0.1wt％至大約5wt％的離子螯合劑；以及大約0.1wt％至大約5wt％的緩蝕劑，其中，余量是去離子水。

硫化過氧化物可包括過硫酸銨、過硫酸鈉、過硫酸鉀和過硫酸氫鉀制劑中的至少一種。

有機酸可包括乙酸、檸檬酸、酒石酸、蘋果酸、葡糖酸、乙醇酸和甲酸中的至少一種。

離子螯合劑可包括亞氨基二乙酸、青霉胺、氨三乙酸、乙二胺四乙酸、N-(2-羥乙基)乙二胺三乙酸、乙二醇-雙(β-氨基乙基醚)-N,N,N',N'-四乙酸、二亞乙基三胺五乙酸、1,2-雙(鄰氨基苯氧基)乙烷-N,N,N',N'-四乙酸和二巰基丁二酸中的至少一種。

緩蝕劑可包括咪唑、吡唑、苯并三唑、氨基四唑、甲基四唑、草酸和草酸鹽中的至少一種。

草酸鹽可以是草酸鈉、草酸鉀或草酸銨。

蝕刻劑可同時(例如，并發地)蝕刻銀膜以及位于銀膜上方和/或下方的導電膜。