[發(fā)明專利]氣體傳輸系統(tǒng)

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201811384486.8
• 申請(qǐng)日: 2018-11-20
• 公開（公告）號(hào): CN111197698A
• 公開（公告）日: 2020-05-26
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 不公告發(fā)明人
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 長(zhǎng)鑫存儲(chǔ)技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): F17D1/04
• 分類號(hào): F17D1/04
• 代理公司: 北京律智知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11438
• 代理人: 袁禮君;闞梓瑄

本發(fā)明提供一種氣體傳輸系統(tǒng)，包括：氣體箱，具有儲(chǔ)存氣體的多個(gè)儲(chǔ)氣室；多個(gè)腔室；氣體傳輸管，一端與多個(gè)所述儲(chǔ)氣室連接，另一端與多個(gè)所述腔室連接，所述氣體傳輸管包括：多個(gè)第一氣體傳輸管，多個(gè)所述第一氣體傳輸管的一端與多個(gè)所述儲(chǔ)氣室一一對(duì)應(yīng)地連接；第二氣體傳輸管，所述第二氣體傳輸管的一端與多個(gè)所述第一氣體傳輸管的另一端連接，所述第二氣體傳輸管的另一端與多個(gè)所述腔室連接，所述第二氣體傳輸管的至少一部分的內(nèi)徑比所述第一氣體傳輸管的內(nèi)徑大。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及氣體傳輸領(lǐng)域。

背景技術(shù)

現(xiàn)有技術(shù)中，大部分的半導(dǎo)體設(shè)備具有氣體箱，氣體從氣體箱流出，并且在工藝腔室內(nèi)匯集并產(chǎn)生混合，參與到制程工藝中。如果是這樣，那么當(dāng)氣體在通入具有雙工藝腔式的機(jī)臺(tái)中時(shí)(Dual chamber Quarter chamber)，由于途徑管道的差異、混合度的差異會(huì)使得最終流入到相同機(jī)臺(tái)的不同反應(yīng)腔室的氣體比例和流量有很大的差異，導(dǎo)致每個(gè)反應(yīng)腔體內(nèi)的制程不穩(wěn)定，同一機(jī)臺(tái)得到的產(chǎn)品均一性較差?，F(xiàn)在已有的改善方法是通過控制一些工藝參數(shù)，例如調(diào)節(jié)射頻產(chǎn)生器的功率(RF power)，加熱器溫度(heater temperature)等來改善處理?xiàng)l件控制工藝的穩(wěn)定性，這樣就需要根據(jù)各個(gè)工藝腔室的氣體條件差異來區(qū)別進(jìn)行處理。這樣的結(jié)果，并非是在相同的設(shè)備上生產(chǎn)晶圓(wafer)的理想條件。在晶圓(Wafer)進(jìn)行工藝氣體處理的上表面上，會(huì)因?yàn)楣に嚽皇业沫h(huán)境不同，最終導(dǎo)致晶圓上表面上量測(cè)的工藝數(shù)據(jù)不同，也會(huì)對(duì)最終產(chǎn)品的良率產(chǎn)生影響。對(duì)于設(shè)備而言，因?yàn)椴考氖褂们闆r不同，導(dǎo)致設(shè)備故障率增加，使停機(jī)維修的時(shí)間增多。

在現(xiàn)有技術(shù)的中，如圖7所示，包括腔室100、第一氣體傳輸管110、第二氣體傳輸管120、第三氣體傳輸管130、第四氣體傳輸管140、腔室150。其中，第一氣體傳輸管至第四氣體傳輸管的內(nèi)徑的大小相同，其僅僅發(fā)揮氣體傳輸?shù)淖饔谩５?，氣體在流動(dòng)過程中，難以在相同內(nèi)徑尺寸的管道中進(jìn)行充分的混合，而且，如果一味地增加管徑的大小，那么成本會(huì)增加。在現(xiàn)有技術(shù)中，沒有考慮到氣體充分混合的問題，導(dǎo)致在工藝效果差等問題。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明為了解決上述問題而提出，提供一種氣體傳輸系統(tǒng)，能夠?qū)怏w進(jìn)行充分混合后供給給各個(gè)腔室。

為了解決上述問題，本發(fā)明提供一種氣體傳輸系統(tǒng)，包括：氣體箱，具有儲(chǔ)存氣體的多個(gè)儲(chǔ)氣室；多個(gè)腔室；氣體傳輸管，一端與多個(gè)所述儲(chǔ)氣室連接，另一端與多個(gè)所述腔室連接，

所述氣體傳輸管包括：

多個(gè)第一氣體傳輸管，多個(gè)所述第一氣體傳輸管的一端與多個(gè)所述儲(chǔ)氣室一一對(duì)應(yīng)地連接；

第二氣體傳輸管，所述第二氣體傳輸管的一端與多個(gè)所述第一氣體傳輸管的另一端連接，所述第二氣體傳輸管的另一端與多個(gè)所述腔室連接，

所述第二氣體傳輸管的至少一部分的內(nèi)徑比所述第一氣體傳輸管的內(nèi)徑大。

所述第二氣體傳輸管的第一長(zhǎng)度比第二長(zhǎng)度長(zhǎng)。

所述第二氣體傳輸管形成為螺旋形狀。

所述第二氣體傳輸管包括：

氣體混合管，所述氣體混合管的一端與多個(gè)所述第一氣體傳輸管的另一端連接；

多個(gè)氣體分配管，多個(gè)所述氣體分配管的每一個(gè)所述氣體分配管的一端與所述氣體混合管的另一端連接，每一個(gè)所述氣體分配管的另一端與多個(gè)所述腔室一一對(duì)應(yīng)地連接，

所述氣體混合管的內(nèi)徑比所述第一氣體傳輸管的內(nèi)徑和多個(gè)所述氣體分配管大。

所述氣體混合管的第三長(zhǎng)度比第四長(zhǎng)度長(zhǎng)。

所述氣體混合管形成為螺旋形狀。

所述氣體混合管包括：