[發明專利]一種滅弧裝置在審
| 申請號: | 201811375829.4 | 申請日: | 2018-11-19 |
| 公開(公告)號: | CN109216071A | 公開(公告)日: | 2019-01-15 |
| 發明(設計)人: | 戴丁志;李進;戴孟仕 | 申請(專利權)人: | 尼普頓電器(昆山)有限公司 |
| 主分類號: | H01H9/44 | 分類號: | H01H9/44;H01H9/34 |
| 代理公司: | 北京品源專利代理有限公司 11332 | 代理人: | 孟金喆 |
| 地址: | 215331 江蘇省蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 動接觸片 滅弧裝置 滅弧腔體 接觸點 滅弧柵 磁極 滅弧效果 柵格結構 內側壁 安裝空間 電弧切割 短弧 排布 斷開 連通 節約 | ||
本發明公開了一種滅弧裝置。該滅弧裝置包括滅弧腔體、至少一對磁極不同的磁體、兩個并排布置于滅弧腔體頂部上的靜接觸點和一活動內置于滅弧腔體中的動接觸片,至少一對磁極不同的磁體位于動接觸片的兩側,動接觸片分別能夠與兩個靜接觸點連通,或者動接觸片還分別能夠與兩個靜接觸點斷開。滅弧腔體的內側壁上還設置有至少一個滅弧柵,滅弧柵包括多個柵格結構,至少一個滅弧柵位于動接觸片的至少一端。通過內側壁上的柵格結構將電弧切割成短弧,從而提高了滅弧裝置的滅弧效果。并且可以實現在較小的空間內即可達到較好的滅弧效果,縮小滅弧裝置的體積,節約安裝空間。
技術領域
本發明實施例涉及滅弧技術領域,尤其涉及一種滅弧裝置。
背景技術
目前市面上高壓直流接觸器的滅弧方式都是單一的磁吹滅弧,即經過永磁體的磁場作用使電弧在洛倫茲力的作用下偏離接觸器觸點之間的軌道,從而切斷觸點之間的電弧,達到滅弧的作用。但是,在接觸器的滅弧腔體內,由于空間比較狹小,采用這種方式進行滅弧效果不是很好,特別是對于容量較大的接觸器,僅僅靠永磁體進行滅弧十分困難。而且受接觸器的滅弧腔體的空間限制,通過加大永磁體的體積進而提高滅弧效果很難實現,并且因滅弧裝置中的永磁體大多用的是稀土材料做成的釹鐵硼,當通過加大永磁體的體積提高滅弧效果時成本會增加。
發明內容
本發明提供一種滅弧裝置,在不增加成本的情況下提高滅弧裝置的滅弧效果,同時能夠減小滅弧裝置的體積。
本發明實施例提供了一種滅弧裝置,包括滅弧腔體、至少一對磁極不同的磁體、兩個并排布置于所述滅弧腔體頂部上的靜接觸點和一活動內置于所述滅弧腔體中的動接觸片,所述至少一對磁極不同的磁體位于所述動接觸片的兩側,所述動接觸片分別能夠與兩個所述靜接觸點連通,或者所述動接觸片還分別能夠與兩個所述靜接觸點斷開;
所述滅弧腔體的內側壁上還設置有至少一個滅弧柵,所述滅弧柵包括多個柵格結構;至少一個所述滅弧柵位于所述動接觸片的至少一端。
具體地,所述滅弧柵上的多個柵格結構等高。
具體地,所述滅弧柵上的多個柵格結構等間距設置。
具體地,所述滅弧柵覆蓋其所在的所滅弧腔體的內側壁。
具體地,所述滅弧腔體的內側壁上設置有兩個所述滅弧柵,兩個所述滅弧柵位于所述動接觸片的兩端。
具體地,所述滅弧腔體的內側壁上的兩個所述滅弧柵上的柵格結構沿兩個所述靜接觸點的連線的中線對稱設置。
具體地,所述磁極不同的磁體包括兩對,兩對所述磁極不同的磁體位于所述動接觸片的兩側。
具體地,所述滅弧柵的材料為吸熱材料。
具體地,所述滅弧柵采用的材料與所述滅弧腔體的內側壁采用的材料相同。
具體地,所述動接觸片與兩個所述靜接觸點沿所述滅弧腔體的頂部向下的方向相對布置。
本發明通過設置動接觸片與兩個靜接觸點斷開時產生的電弧可以在洛倫茲力的作用下向內側壁的方向運動,內側壁上設置有滅弧柵,滅弧柵包括柵格結構,柵格結構將電弧切割成短弧,從而使動接觸片與兩個靜接觸點之間的自由電子的速度下降,動接觸片與兩個靜接觸點之間的碰撞游離減少,降低了動接觸片與兩個靜接觸點之間的電導,從而提高了電弧的起弧電壓,或者在相同的電壓下,提高了滅弧裝置的滅弧效果。并且,柵格結構的滅弧效果好,在較小的空間內即可達到較好的滅弧效果,進而可以縮小滅弧裝置的體積,節約安裝空間。
附圖說明
圖1為本發明實施例提供的一種滅弧裝置的俯視結構示意圖;
圖2為本發明實施例提供的一種滅弧裝置的主視結構示意圖;
圖3為本發明實施例提供的另一種滅弧裝置的俯視結構示意圖;
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