[發明專利]一種滅弧裝置在審
| 申請號： | 201811375829.4 | 申請日： | 2018-11-19 |
| 公開（公告）號： | CN109216071A | 公開（公告）日： | 2019-01-15 |
| 發明（設計）人： | 戴丁志;李進;戴孟仕 | 申請（專利權）人： | 尼普頓電器（昆山）有限公司 |
| 主分類號： | H01H9/44 | 分類號： | H01H9/44;H01H9/34 |
| 代理公司： | 北京品源專利代理有限公司 11332 | 代理人： | 孟金喆 |
| 地址： | 215331 江蘇省蘇*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 動接觸片 滅弧裝置 滅弧腔體 接觸點 滅弧柵 磁極 滅弧效果 柵格結構 內側壁 安裝空間 電弧切割 短弧 排布 斷開 連通 節約 | ||
1.一種滅弧裝置，包括滅弧腔體、至少一對磁極不同的磁體、兩個并排布置于所述滅弧腔體頂部上的靜接觸點和一活動內置于所述滅弧腔體中的動接觸片，所述至少一對磁極不同的磁體位于所述動接觸片的兩側，所述動接觸片分別能夠與兩個所述靜接觸點連通，或者所述動接觸片還分別能夠與兩個所述靜接觸點斷開；其特征在于，
所述滅弧腔體的內側壁上還設置有至少一個滅弧柵，所述滅弧柵包括多個柵格結構；至少一個所述滅弧柵位于所述動接觸片的至少一端。
2.根據權利要求1所述的滅弧裝置，其特征在于，所述滅弧柵上的多個柵格結構等高。
3.根據權利要求1所述的滅弧裝置，其特征在于，所述滅弧柵上的多個柵格結構等間距設置。
4.根據權利要求1所述的滅弧裝置，其特征在于，所述滅弧柵覆蓋其所在的所滅弧腔體的內側壁。
5.根據權利要求1所述的滅弧裝置，其特征在于，所述滅弧腔體的內側壁上設置有兩個所述滅弧柵，兩個所述滅弧柵位于所述動接觸片的兩端。
6.根據權利要求5所述的滅弧裝置，其特征在于，所述滅弧腔體的內側壁上的兩個所述滅弧柵上的柵格結構沿兩個所述靜接觸點的連線的中線對稱設置。
7.根據權利要求5所述的滅弧裝置，其特征在于，所述磁極不同的磁體包括兩對，兩對所述磁極不同的磁體位于所述動接觸片的兩側。
8.根據權利要求1所述的滅弧裝置，其特征在于，所述滅弧柵的材料為吸熱材料。
9.根據權利要求1所述的滅弧裝置，其特征在于，所述滅弧柵采用的材料與所述滅弧腔體的內側壁采用的材料相同。
10.根據權利要求1所述的滅弧裝置，其特征在于，所述動接觸片與兩個所述靜接觸點沿所述滅弧腔體的頂部向下的方向相對布置。
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