[發(fā)明專利]加熱裝置、蒸發(fā)源及蒸鍍裝置

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201811362786.6
• 申請(qǐng)日: 2018-11-16
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN110656309A
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-01-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 菅原由季
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 佳能特機(jī)株式會(huì)社
• 主分類號(hào): C23C14/24
• 分類號(hào): C23C14/24
• 代理公司: 11038 中國(guó)國(guó)際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所
• 代理人: 張寶榮

本發(fā)明提供一種能夠?qū)崿F(xiàn)坩堝的溫度分布的均勻化的提高的加熱裝置、蒸發(fā)源及蒸鍍裝置。加熱裝置具備：具有發(fā)熱體(331b)并對(duì)坩堝(321)進(jìn)行加熱的加熱器(331)；及隔著加熱器(331)而設(shè)置在坩堝(321)的相反側(cè)并使來(lái)自加熱器(331)的熱反射的第一反射器(341)，所述加熱裝置的特征在于，在第一反射器(341)局部性地設(shè)有熱輻射率比其他部位高的高熱輻射率部(341a)。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及在真空蒸鍍中使用的加熱裝置、蒸發(fā)源及蒸鍍裝置。

背景技術(shù)

在真空蒸鍍中，設(shè)有加熱裝置，該加熱裝置通過(guò)對(duì)收容有向基板蒸鍍的物質(zhì)的材料的坩堝進(jìn)行加熱，而用于使該材料蒸發(fā)或升華。當(dāng)通過(guò)加熱裝置加熱后的坩堝的溫度分布變得不均勻時(shí)，材料的一部分殘留，或者為了對(duì)全部的材料進(jìn)行加熱而需要額外的電力。因此，為了抑制坩堝的溫度分布的不均勻，以往，采取使加熱裝置具備的發(fā)熱體的密度根據(jù)位置而不同等對(duì)策。

然而，例如，在收容坩堝的殼體的形狀為細(xì)長(zhǎng)的情況下，輻射熱的熱交換根據(jù)殼體內(nèi)的位置而產(chǎn)生偏差，因此僅僅是上述對(duì)策的話，難以抑制坩堝的溫度分布的不均勻。

【在先技術(shù)文獻(xiàn)】

【專利文獻(xiàn)】

【專利文獻(xiàn)1】國(guó)際公開(kāi)第2006/075755號(hào)

發(fā)明內(nèi)容

【發(fā)明要解決的課題】

本發(fā)明的目的在于提供一種能夠提高坩堝中的溫度分布的均勻化的加熱裝置、蒸發(fā)源及蒸鍍裝置。

【用于解決課題的方案】

本發(fā)明為了解決上述課題而采用以下的方案。

即，本發(fā)明的加熱裝置具備：

加熱器，所述加熱器具有發(fā)熱體，并對(duì)坩堝進(jìn)行加熱；及

反射器，所述反射器隔著所述加熱器而設(shè)置在所述坩堝的相反側(cè)，使來(lái)自所述加熱器的熱反射，

所述加熱裝置的特征在于，

在所述反射器局部性地設(shè)有熱輻射率比其他部位高的高熱輻射率部。

本發(fā)明的蒸發(fā)源的特征在于，具備：

收容向基板蒸鍍的物質(zhì)的材料的坩堝；及

對(duì)所述坩堝進(jìn)行加熱的上述的加熱裝置。

本發(fā)明的蒸鍍裝置的特征在于，具備：

上述的蒸發(fā)源；及

將所述蒸發(fā)源配置于內(nèi)部的腔室。

【發(fā)明效果】

根據(jù)本發(fā)明，能夠?qū)崿F(xiàn)坩堝的溫度分布的均勻化的提高。

附圖說(shuō)明

圖1是本發(fā)明的實(shí)施例1的蒸鍍裝置的概略結(jié)構(gòu)圖。

圖2是本發(fā)明的實(shí)施例1的蒸發(fā)源的示意性的剖視圖。

圖3是關(guān)于加熱器及反射器與坩堝的溫度分布的關(guān)系的說(shuō)明圖。

圖4是表示本發(fā)明的實(shí)施例1的反射器的變形例的圖。

圖5是說(shuō)明熱輻射率與熱阻的關(guān)系的圖。

圖6是本發(fā)明的實(shí)施例2的反射器的概略結(jié)構(gòu)圖。

圖7是本發(fā)明的實(shí)施例3的蒸發(fā)源的示意性的剖視圖。

【附圖標(biāo)記說(shuō)明】