[發明專利]加熱裝置、蒸發源及蒸鍍裝置

在審

• 申請號: 201811362786.6
• 申請日: 2018-11-16
• 公開（公告）號: CN110656309A
• 公開（公告）日: 2020-01-07
• 發明（設計）人: 菅原由季
• 申請（專利權）人: 佳能特機株式會社
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24
• 代理公司: 11038 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所
• 代理人: 張寶榮

1.一種加熱裝置，所述加熱裝置具備：

加熱器，所述加熱器具有發熱體，并對坩堝進行加熱；及

反射器，所述反射器隔著所述加熱器而設置在所述坩堝的相反側，使來自所述加熱器的熱反射，

所述加熱裝置的特征在于，

在所述反射器局部性地設有熱輻射率比其他部位高的高熱輻射率部。

2.根據權利要求1所述的加熱裝置，其特征在于，

在使所述坩堝的壁面的溫度分布中的比平均溫度高的區域的至少一部分的溫度下降的位置設有所述高熱輻射率部。

3.根據權利要求1或2所述的加熱裝置，其特征在于，

在將所述坩堝的壁面的溫度分布中的比平均溫度高的區域沿所述坩堝的壁面的法線方向假想性地向所述反射器投影的情況下，在假想性地投影的區域的至少一部分設有所述高熱輻射率部。

4.根據權利要求1所述的加熱裝置，其特征在于，

所述高熱輻射率部是在所述反射器中的與所述加熱器相向的相向面側形成的表面處理部。

5.根據權利要求1所述的加熱裝置，其特征在于，

所述高熱輻射率部是在所述反射器中的與所述加熱器相向的相向面的背側形成的表面處理部。

6.根據權利要求4或5所述的加熱裝置，其特征在于，

所述表面處理部是基于噴鍍的處理部。

7.根據權利要求4或5所述的加熱裝置，其特征在于，

所述表面處理部是基于噴丸加工的處理部。

8.根據權利要求4或5所述的加熱裝置，其特征在于，

所述表面處理部是基于黑色鍍敷加工的處理部。

9.根據權利要求1或2所述的加熱裝置，其特征在于，

所述高熱輻射率部是形成有貫通所述反射器的兩面的多個貫通孔的部位。

10.一種蒸發源，所述蒸發源的特征在于，具備：

收容向基板蒸鍍的物質的材料的坩堝；及

對所述坩堝進行加熱的權利要求1～9中任一項所述的加熱裝置。

11.一種蒸鍍裝置，所述蒸鍍裝置的特征在于，具備：

權利要求10所述的蒸發源；及

將所述蒸發源配置于內部的腔室。