[發(fā)明專利]一種真空蒸發(fā)鍍膜方法、混合物、制備光學(xué)薄膜的方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201811355439.0
• 申請日: 2018-11-14
• 公開（公告）號: CN111188013A
• 公開（公告）日: 2020-05-22
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 馬道遠(yuǎn)
• 申請（專利權(quán)）人: 深圳市融光納米科技有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C14/04;C23C14/06;C23C14/08
• 代理公司: 深圳市威世博知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 44280
• 代理人: 鐘子敏

本申請公開了一種真空蒸發(fā)鍍膜方法、混合物、制備光學(xué)薄膜的方法，所述方法包括：在真空蒸發(fā)設(shè)備中設(shè)置蒸鍍材料及熱傳導(dǎo)材料；對所述蒸鍍材料及熱傳導(dǎo)材料進(jìn)行加熱，以使得所述蒸鍍材料蒸發(fā)至待成膜區(qū)域成膜，所述熱傳導(dǎo)材料留置于所述真空蒸發(fā)設(shè)備中。通過上述方式，本申請能夠提高成膜表面的光潔度。

技術(shù)領(lǐng)域

本申請涉及鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種真空蒸發(fā)鍍膜方法、混合物、制備光學(xué)薄膜的方法。

背景技術(shù)

納米結(jié)構(gòu)色晶體是指光學(xué)薄膜顏料片，是由光學(xué)薄膜粉碎制成。光學(xué)薄膜一般在基板上形成，而為了提高生產(chǎn)效率，常常會(huì)在基板上制備多層光學(xué)薄膜，多層光學(xué)薄膜之間用犧牲層(或脫膜層)隔開，后期只需去除犧牲層即可獲得光學(xué)薄膜。

本申請的發(fā)明人在長期研究過程中發(fā)現(xiàn)，現(xiàn)有技術(shù)中形成犧牲層的方法一般為真空蒸發(fā)鍍膜方法，在蒸鍍材料蒸發(fā)過程中，往往會(huì)發(fā)生爆沸或者飛濺，使得所形成的犧牲層表面光潔度低，進(jìn)而影響后續(xù)在犧牲層表面形成的光學(xué)膜層的表面光潔度。

發(fā)明內(nèi)容

本申請主要解決的技術(shù)問題是提供一種真空蒸發(fā)鍍膜方法、混合物、制備光學(xué)薄膜的方法，能夠提高膜層表面光潔度。

為解決上述技術(shù)問題，本申請采用的一個(gè)技術(shù)方案是：提供一種真空蒸發(fā)鍍膜方法，所述方法包括：在真空蒸發(fā)設(shè)備中設(shè)置蒸鍍材料及熱傳導(dǎo)材料；對所述蒸鍍材料及熱傳導(dǎo)材料進(jìn)行加熱，以使得所述蒸鍍材料蒸發(fā)至待成膜區(qū)域成膜，所述熱傳導(dǎo)材料留置于所述真空蒸發(fā)設(shè)備中。

其中，所述熱傳導(dǎo)材料和所述蒸鍍材料的熔點(diǎn)在300℃～2500℃，且所述熱傳導(dǎo)材料的熔點(diǎn)大于所述蒸鍍材料的沸點(diǎn)。

其中，所述熱傳導(dǎo)材料與所述蒸鍍材料混合為一體，且兩者之間的質(zhì)量比為1:2～2:1。

其中，所述熱傳導(dǎo)材料和所述蒸鍍材料分別包括氯化鈉、碘化鈉、硫酸鈉、硫酸鉀、溴化鉀、溴化鈉、三氧化二鋁、碘化鋅、硝酸鈉中至少一種。

其中，所述熱傳導(dǎo)材料為三氧化二鋁、所述蒸鍍材料為氯化鈉；或者，所述熱傳導(dǎo)材料為三氧化二鋁、所述蒸鍍材料為硫酸鈉；所述熱傳導(dǎo)材料為三氧化二鋁、所述蒸鍍材料為溴化鈉；或者，所述熱傳導(dǎo)材料為三氧化二鋁、所述蒸鍍材料為氯化鈉和溴化鈉的混合物；或者，所述熱傳導(dǎo)材料為氯化鈉、所述蒸鍍材料為碘化鋅；或者，所述熱傳導(dǎo)材料為硫酸鈉、所述蒸鍍材料為硝酸鈉。

為解決上述技術(shù)問題，本申請采用的另一個(gè)技術(shù)方案是：提供一種真空蒸發(fā)鍍膜用混合物，所述混合物包括蒸鍍材料和熱傳導(dǎo)材料，在加熱條件下，所述熱傳導(dǎo)材料能夠?qū)崃烤鶆蚍€(wěn)定地傳導(dǎo)至所述蒸鍍材料，使所述蒸鍍材料蒸發(fā)至待成膜區(qū)域成犧牲層，而留下所述熱傳導(dǎo)材料。

其中，所述熱傳導(dǎo)材料和所述蒸鍍材料的熔點(diǎn)在300℃～2500℃，且所述熱傳導(dǎo)材料的熔點(diǎn)大于所述蒸鍍材料的沸點(diǎn)，所述熱傳導(dǎo)材料與所述蒸鍍材料混合為一體，且兩者之間的質(zhì)量比為1:2～2:1。

其中，所述熱傳導(dǎo)材料和所述蒸鍍材料分別包括氯化鈉、碘化鈉、硫酸鈉、硫酸鉀、溴化鉀、溴化鈉、三氧化二鋁、碘化鋅、硝酸鈉中至少一種。

其中，所述熱傳導(dǎo)材料為三氧化二鋁、所述蒸鍍材料為氯化鈉；或者，所述熱傳導(dǎo)材料為三氧化二鋁、所述蒸鍍材料為硫酸鈉；所述熱傳導(dǎo)材料為三氧化二鋁、所述蒸鍍材料為溴化鈉；或者，所述熱傳導(dǎo)材料為三氧化二鋁、所述蒸鍍材料為氯化鈉和溴化鈉的混合物；或者，所述熱傳導(dǎo)材料為氯化鈉、所述蒸鍍材料為碘化鋅；或者，所述熱傳導(dǎo)材料為硫酸鈉、所述蒸鍍材料為硝酸鈉。

為解決上述技術(shù)問題，本申請采用的又一個(gè)技術(shù)方案是：提供一種制備光學(xué)薄膜的方法，所述方法包括：提供基板；在所述基板一側(cè)利用上述任一實(shí)施例所述的真空蒸發(fā)鍍膜方法形成第一犧牲層，所述第一犧牲層由所述蒸鍍材料形成；在所述第一犧牲層遠(yuǎn)離所述基板一側(cè)形成第一光學(xué)薄膜；去除所述第一犧牲層以剝離得到所述第一光學(xué)薄膜。