[發(fā)明專利]一種真空蒸發(fā)鍍膜方法、混合物、制備光學薄膜的方法

在審

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• 申請日: 2018-11-14
• 公開（公告）號: CN111188013A
• 公開（公告）日: 2020-05-22
• 發(fā)明（設計）人: 馬道遠
• 申請（專利權）人: 深圳市融光納米科技有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C14/04;C23C14/06;C23C14/08
• 代理公司: 深圳市威世博知識產(chǎn)權代理事務所(普通合伙) 44280
• 代理人: 鐘子敏

1.一種真空蒸發(fā)鍍膜方法，其特征在于，所述方法包括：

在真空蒸發(fā)設備中設置蒸鍍材料及熱傳導材料；

對所述蒸鍍材料及熱傳導材料進行加熱，以使得所述蒸鍍材料蒸發(fā)至待成膜區(qū)域成膜，所述熱傳導材料留置于所述真空蒸發(fā)設備中。

2.根據(jù)權利要求1所述的方法，其特征在于，所述熱傳導材料和所述蒸鍍材料的熔點在300℃～2500℃，且所述熱傳導材料的熔點大于所述蒸鍍材料的沸點。

3.根據(jù)權利要求1所述的方法，其特征在于，所述熱傳導材料與所述蒸鍍材料混合為一體，且兩者之間的質量比為1:2～2:1。

4.根據(jù)權利要求1所述的方法，其特征在于，所述熱傳導材料和所述蒸鍍材料分別包括氯化鈉、碘化鈉、硫酸鈉、硫酸鉀、溴化鉀、溴化鈉、三氧化二鋁、碘化鋅、硝酸鈉中至少一種。

5.根據(jù)權利要求4所述的方法，其特征在于，

所述熱傳導材料為三氧化二鋁、所述蒸鍍材料為氯化鈉；或者，

所述熱傳導材料為三氧化二鋁、所述蒸鍍材料為硫酸鈉；

所述熱傳導材料為三氧化二鋁、所述蒸鍍材料為溴化鈉；或者，

所述熱傳導材料為三氧化二鋁、所述蒸鍍材料為氯化鈉和溴化鈉的混合物；或者，

所述熱傳導材料為氯化鈉、所述蒸鍍材料為碘化鋅；或者，

所述熱傳導材料為硫酸鈉、所述蒸鍍材料為硝酸鈉。

6.一種真空蒸發(fā)鍍膜用混合物，其特征在于，所述混合物包括蒸鍍材料和熱傳導材料，在加熱條件下，所述熱傳導材料能夠將熱量均勻穩(wěn)定地傳導至所述蒸鍍材料，使所述蒸鍍材料蒸發(fā)至待成膜區(qū)域成犧牲層，而留下所述熱傳導材料。

7.根據(jù)權利要求6所述的混合物，其特征在于，所述熱傳導材料和所述蒸鍍材料的熔點在300℃～2500℃，且所述熱傳導材料的熔點大于所述蒸鍍材料的沸點，所述熱傳導材料與所述蒸鍍材料混合為一體，且兩者之間的質量比為1:2～2:1。

8.根據(jù)權利要求6所述的混合物，其特征在于，所述熱傳導材料和所述蒸鍍材料分別包括氯化鈉、碘化鈉、硫酸鈉、硫酸鉀、溴化鉀、溴化鈉、三氧化二鋁、碘化鋅、硝酸鈉中至少一種。

9.根據(jù)權利要求6所述的混合物，其特征在于，

所述熱傳導材料為三氧化二鋁、所述蒸鍍材料為氯化鈉；或者，

所述熱傳導材料為三氧化二鋁、所述蒸鍍材料為硫酸鈉；

所述熱傳導材料為三氧化二鋁、所述蒸鍍材料為溴化鈉；或者，

所述熱傳導材料為三氧化二鋁、所述蒸鍍材料為氯化鈉和溴化鈉的混合物；或者，

所述熱傳導材料為氯化鈉、所述蒸鍍材料為碘化鋅；或者，

所述熱傳導材料為硫酸鈉、所述蒸鍍材料為硝酸鈉。

10.一種制備光學薄膜的方法，其特征在于，所述方法包括：

提供基板；

在所述基板一側利用上述權利要求1-5任一項所述的真空蒸發(fā)鍍膜方法形成第一犧牲層，所述第一犧牲層由所述蒸鍍材料形成；

在所述第一犧牲層遠離所述基板一側形成第一光學薄膜；

去除所述第一犧牲層以剝離得到所述第一光學薄膜。