[發明專利]一種超硬耐磨ITO玻璃

在審

• 申請號: 201811351728.3
• 申請日: 2018-11-14
• 公開（公告）號: CN109385611A
• 公開（公告）日: 2019-02-26
• 發明（設計）人: 汪劍飛;李飛;魏先釗;陳雄;梁興敦
• 申請（專利權）人: 東莞市銀泰豐光學科技有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/06;C23C14/08;C23C14/10;C23C14/12;C23C14/26
• 代理公司: 東莞市永橋知識產權代理事務所(普通合伙) 44400
• 代理人: 何新華

本發明提供了一種超硬耐磨ITO玻璃，包括玻璃基板，所述玻璃基板上依次設置有Si₃N₄層、ITO層、過渡層、疏水層。本發明提供的超硬耐磨ITO玻璃，在鍍上ITO層前，先在玻璃基板上鍍上一層Si₃N₄層，提高了ITO層的附著力，在表面設置一層疏水層，提高了玻璃的表面接觸角，從而提高玻璃表面的滑度，在ITO層與疏水層之間增加了一個過渡層，提高了玻璃的硬度、耐磨性能、以及耐酸堿腐蝕性能。

技術領域

本發明涉及玻璃技術領域，具體涉及一種超硬耐磨ITO玻璃。

背景技術

ITO(氧化銦錫)是一種N型氧化物半導體，由于其優良的導電性能和透光性能，通常噴涂在玻璃、塑料及電子顯示屏上，用作透明導電薄膜，同時能夠減少對人體有害的電子輻射及紫外輻射、紅外輻射。

普通的ITO玻璃，直接將ITO鍍在玻璃基板表面，ITO膜層直接與空氣接觸，由于ITO膜層的硬度低、耐磨性差、耐腐蝕性差，導致ITO膜層容易損壞，影響了其導電性能。為了解決這一問題，部分企業制作出一種ITO玻璃，先通過磁控濺射法濺射一層ITO膜層，然后在ITO膜層上再旋涂上一層疏水層，利用疏水層優良的疏水性能，保護ITO層。但是，利用旋轉陰極濺射沉積ITO層和疏水層，旋轉陰極容易破壞其真空環境，且需要將陰極不斷旋轉，制作出的ITO層凹凸不平，影響了ITO層的電學性能。

另外由于疏水層一般為氟的化合物，其與ITO沒有結合力，且耐磨性能和耐腐蝕性能較差，依然無法解決普通ITO玻璃的耐磨性差、耐腐蝕性差問題。

發明內容

針對以上問題，本發明提供一種超硬耐磨ITO玻璃，硬度高、耐磨性好、耐酸堿腐蝕性能好、導電性能優異。

為實現上述目的，本發明通過以下技術方案來解決：

一種超硬耐磨ITO玻璃，包括玻璃基板，所述玻璃基板上依次設置有Si₃N₄層、ITO層、過渡層、疏水層。

具體的，所述過渡層為Si₃N₄、SiO₂中的一種。

具體的，所述過渡層的厚度為0.5～3nm。

具體的，所述疏水層為聚四氟乙烯薄膜、乙烯-四氟乙烯共聚物薄膜中的一種。

具體的，所述疏水層的厚度為10～20μm。

具體的，所述Si₃N₄層的厚度為5～10nm。

具體的，所述ITO層的厚度為10～45nm。

具體的，所述超硬耐磨ITO玻璃的制備方法包括以下步驟：

S1清洗玻璃基板，干燥后將玻璃基板置于磁控濺射區；

S2中頻電源加抽真空陰極濺射沉積Si₃N₄層，采用Si₃N₄，濺射區域真空度-2.0×10³～-5.0×10³Pa；氣氛為：工作氣體為Ar，體積流量為450～650SCCM，反應氣體為N₂，體積流量為350～550SCCM；

S3高頻電源加抽真空陰極濺射沉積ITO層，采用純度為99.99％以上的ITO靶材，濺射區域真空度-2.0×10³～-5.0×10³Pa；氣氛為：工作氣體為Ar，體積流量為350～500SCCM，反應氣體為O₂，體積流量為120～150SCCM；濺射時玻璃基板的溫度為300～350℃；