[發(fā)明專利]一種超硬耐磨ITO玻璃

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201811351728.3
• 申請日: 2018-11-14
• 公開（公告）號: CN109385611A
• 公開（公告）日: 2019-02-26
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 汪劍飛;李飛;魏先釗;陳雄;梁興敦
• 申請（專利權(quán)）人: 東莞市銀泰豐光學(xué)科技有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/06;C23C14/08;C23C14/10;C23C14/12;C23C14/26
• 代理公司: 東莞市永橋知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 44400
• 代理人: 何新華

1.一種超硬耐磨ITO玻璃，其特征在于，包括玻璃基板(1)，所述玻璃基板(1)上依次設(shè)置有Si₃N₄層(2)、ITO層(3)、過渡層(4)、疏水層(5)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種超硬耐磨ITO玻璃，其特征在于，所述過渡層(4)為Si₃N₄、SiO₂中的一種。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種超硬耐磨ITO玻璃，其特征在于，所述過渡層(4)的厚度為0.5～3nm。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種超硬耐磨ITO玻璃，其特征在于，所述疏水層(5)為聚四氟乙烯薄膜、乙烯-四氟乙烯共聚物薄膜中的一種。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種超硬耐磨ITO玻璃，其特征在于，所述疏水層(5)的厚度為10～20μm。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種超硬耐磨ITO玻璃，其特征在于，所述Si₃N₄層(2)的厚度為5～10nm。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種超硬耐磨ITO玻璃，其特征在于，所述ITO層(3)的厚度為10～45nm。

8.根據(jù)權(quán)利要求1～7任一所述的一種超硬耐磨ITO玻璃，其特征在于，所述超硬耐磨ITO玻璃的制備方法包括以下步驟：

S1清洗玻璃基板(1)，干燥后將玻璃基板(1)置于磁控濺射區(qū)；

S2中頻電源加抽真空陰極濺射沉積Si₃N₄層(2)，采用Si₃N₄，濺射區(qū)域真空度-2.0×10³～-5.0×10³Pa；氣氛為：工作氣體為Ar，體積流量為450～650SCCM，反應(yīng)氣體為N₂，體積流量為350～550SCCM；

S3高頻電源加抽真空陰極濺射沉積ITO層(3)，采用純度為99.99％以上的ITO靶材，濺射區(qū)域真空度3～10Pa；氣氛為：工作氣體為Ar，體積流量為350～500SCCM，反應(yīng)氣體為O₂，體積流量為120～150SCCM；濺射時玻璃基板(1)的溫度為300～350℃；

S4中頻電源加抽真空陰極濺射沉積過渡層(4)，采用Si₃N₄或SiO₂，濺射區(qū)域真空度-2.0×10³～-5.0×10³Pa；氣氛為：工作氣體為Ar，體積流量為100～150SCCM，反應(yīng)氣體為O₂，體積流量為150～350SCCM；

S5將玻璃基板(1)置于電阻式蒸發(fā)區(qū)，采用聚四氟乙烯薄膜料或乙烯-四氟乙烯共聚物薄膜料，蒸發(fā)沉積疏水層(5)，蒸發(fā)時真空度為-2.0×10³～-5.0×10³Pa。