[發明專利]一種光刻膠及光刻膠圖案的制作方法在審
| 申請號: | 201811351459.0 | 申請日: | 2018-11-14 |
| 公開(公告)號: | CN109270791A | 公開(公告)日: | 2019-01-25 |
| 發明(設計)人: | 劉明;左岳平;孟秋華;王純陽;方飛 | 申請(專利權)人: | 京東方科技集團股份有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/004 | 分類號: | G03F7/004;G03F7/00 |
| 代理公司: | 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光刻膠 光刻膠圖案 感光單元 制作 光刻膠技術 大誤差 光照量 坡度角 | ||
1.一種光刻膠,其特征在于,包括:
多個感光單元,每個所述感光單元均具有磁性。
2.根據權利要求1所述的光刻膠,其特征在于,所述感光單元通過感光材料與磁性離子發生化學反應形成。
3.根據權利要求1所述的光刻膠,其特征在于,所述感光單元通過感光材料包裹磁性材料形成。
4.根據權利要求3所述的光刻膠,其特征在于,所述磁性材料為磁性納米顆粒。
5.根據權利要求4所述的光刻膠,其特征在于,所述磁性納米顆粒為納米微球或量子點微球。
6.根據權利要求2所述的光刻膠,其特征在于,所述磁性離子為鐵離子或鎳離子。
7.一種光刻膠圖案的制作方法,其特征在于,所述制作方法包括:
在基底上涂覆如權利要求1至6中任意一項所述的光刻膠;
向所述光刻膠添加磁場,以使所述光刻膠底部的感光單元的含量大于所述光刻膠頂部的感光單元的含量;
對所述光刻膠進行曝光和顯影,以形成所述光刻膠圖案。
8.根據權利要求7所述的光刻膠圖案的制作方法,其特征在于,所述向所述光刻膠添加磁場具體為:
在形成有所述光刻膠的基底的下方或上方設置磁力件,利用所述磁力件控制所述光刻膠中的感光單元的分布。
9.根據權利要求8所述的光刻膠圖案的制作方法,其特征在于,所述磁力件為磁鐵。
10.根據權利要求7所述的光刻膠圖案的制作方法,其特征在于,在基底上涂覆所述光刻膠后,所述制作方法還包括:
對所述光刻膠進行前烘處理;
所述向所述光刻膠添加磁場具體為:
在對所述光刻膠進行前烘處理之前向所述光刻膠添加磁場,或在對所述光刻膠進行前烘處理的過程中向所述光刻膠添加磁場。
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