[發明專利]光刻曝光系統在審
| 申請號： | 201811346136.2 | 申請日： | 2018-11-13 |
| 公開（公告）號： | CN109814340A | 公開（公告）日： | 2019-05-28 |
| 發明（設計）人： | 陳鑫封;張漢龍;陳立銳;劉柏村 | 申請（專利權）人： | 臺灣積體電路制造股份有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 隆天知識產權代理有限公司 72003 | 代理人： | 黃艷 |
| 地址： | 中國臺*** | 國省代碼： | 中國臺灣;71 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 噴嘴總成 液滴 光刻曝光系統 存儲構件 供應目標 燃料流過 引導目標 支撐件 燃料 耦接 激發 激光脈沖照射 移動支撐件 接收目標 目標燃料 輻射光 出口 | ||
【權利要求書】：
1.一種光刻曝光系統，包括：
一選擇機構；
多個噴嘴總成，耦接至該選擇機構，且所述噴嘴總成中的每一者配置以噴出一目標燃料的一液滴；
一存儲構件，配置以存儲該目標燃料，且該存儲構件具有一出口，其中，該選擇機構是配置以選擇性地且流體地連接該出口與所述噴嘴總成中的一者，以使該目標燃料從該存儲構件經由該出口被供應至連接該出口的所述噴嘴總成中的一者；以及
一激光產生器，配置以產生一激光脈沖以擊中該液滴。
下載完整專利技術內容需要扣除積分，VIP會員可以免費下載。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于臺灣積體電路制造股份有限公司，未經臺灣積體電路制造股份有限公司許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201811346136.2/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
