[發明專利]一種面板版圖設計中加速曝光模擬的方法

在審

• 申請號: 201811339537.5
• 申請日: 2018-11-12
• 公開（公告）號: CN109508494A
• 公開（公告）日: 2019-03-22
• 發明（設計）人: 馬濤;馬海南;于士濤;白麗雙
• 申請（專利權）人: 北京華大九天軟件有限公司
• 主分類號: G06F17/50
• 分類號: G06F17/50
• 代理公司: 北京德崇智捷知識產權代理有限公司 11467
• 代理人: 王金雙

本發明提供一種面板版圖設計中加速曝光模擬的方法，包括以下步驟：1）調用cell，計算各mask的重復曝光區和位于重復曝光區內的圖形以及位于非重復曝光區內的圖形；2）計算所有mask在重復曝光區內的圖形經過曝光后的結果；3）合并mask位于非重復曝光區內的結果和重復曝光區內的結果。本發明解決自動曝光模擬過程中計算速度慢和結果文件大的兩個問題，從而加快“設計/修改?曝光模擬?分析”的循環，提升效率。

技術領域

本發明涉及面板設計技術領域，特別是面板版圖設計流程中的曝光模擬工具。

背景技術

在面板版圖設計中，需要對版圖進行曝光模擬以保障正確性。如果在曝光模擬結果中發現了錯誤，那么需要做出相應的修改，比如修改掩模板內容，或者修改掩模板的放置位置等。

現有的自動進行曝光模擬的方法可以節省人力、加快速度、提高準確度，然而如果曝光區域涉及到像素區，那么存在以下問題：(1)曝光模擬速度可能會很慢；(2)生成的文件可能會很大。這些問題給分析結果帶來了不便，從而限制了工程師進行快速設計和修改。

發明內容

為了解決現有技術存在的不足，本發明的目的在于提供一種面板版圖設計中加速曝光模擬的方法，解決自動曝光模擬過程中計算速度慢和結果文件大的兩個問題，從而加快“設計/修改-曝光模擬-分析”的循環，提升效率。

為實現上述目的，本發明提供的面板版圖設計中加速曝光模擬的方法，包括以下步驟：

1)調用cell，計算各mask的重復曝光區和位于重復曝光區內的圖形以及位于非重復曝光區內的圖形；

2)計算所有mask在重復曝光區內的圖形經過曝光后的結果；

3)合并mask位于非重復曝光區內的結果和重復曝光區內的結果。

進一步地，步驟1)所述cell，為版圖中實現具體功能的單元，包含layer的圖形或包含layer的圖形及對其它cell的引用。

更進一步地，在進行所述步驟1)至步驟3)過程中，保持和利用了cell間的調用關系，并且將cell間的調用關系保留在結果文件中。

為實現上述目的，本發明還提供一種計算機可讀存儲介質，其上存儲有計算機指令，所述計算機指令運行時執行上述的面板版圖設計中加速曝光模擬的方法的步驟。

本發明在進行曝光模擬過程中保持和利用了cell間的調用關系，提升了計算速度、縮小了結果文件，使得工程師能夠更快地迭代設計。

本發明的其它特征和優點將在隨后的說明書中闡述，并且，部分地從說明書中變得顯而易見，或者通過實施本發明而了解。

附圖說明

附圖用來提供對本發明的進一步理解，并且構成說明書的一部分，并與本發明的實施例一起，用于解釋本發明，并不構成對本發明的限制。在附圖中：

圖1為根據本發明的面板版圖設計中加速曝光模擬的方法的流程圖；

圖2為根據本發明的實施方式的cell的示意圖；

圖3為根據本發明的實施方式的示例版圖示意圖；

圖4(a)為根據現有技術計算得到的各mask的重復曝光區、非重復曝光區圖形和重復曝光區內的圖形示意圖；

圖4(b)為根據本發明的實施方式的各mask的重復曝光區、非重復曝光區圖形和重復曝光區內的圖形示意圖；

圖5(a)為根據現有技術的所有mask重復曝光區內圖形的曝光結果示意圖；

圖5(b)為根據本發明的實施方式的所有mask重復曝光區內圖形的曝光結果示意圖；