[發明專利]一種面板版圖設計中加速曝光模擬的方法在審
| 申請號: | 201811339537.5 | 申請日: | 2018-11-12 |
| 公開(公告)號: | CN109508494A | 公開(公告)日: | 2019-03-22 |
| 發明(設計)人: | 馬濤;馬海南;于士濤;白麗雙 | 申請(專利權)人: | 北京華大九天軟件有限公司 |
| 主分類號: | G06F17/50 | 分類號: | G06F17/50 |
| 代理公司: | 北京德崇智捷知識產權代理有限公司 11467 | 代理人: | 王金雙 |
| 地址: | 100102 北京*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 重復曝光 曝光 版圖設計 非重復 結果文件 模擬過程 自動曝光 調用 合并 分析 | ||
1.一種面板版圖設計中加速曝光模擬的方法,其特征在于,包括以下步驟:
1)調用cell,計算各mask的重復曝光區和位于重復曝光區內的圖形以及位于非重復曝光區內的圖形;
2)計算所有mask在重復曝光區內的圖形經過曝光后的結果;
3)合并mask位于非重復曝光區內的結果和重復曝光區內的結果。
2.根據權利要求1所述的面板版圖設計中加速曝光模擬的方法,其特征在于,步驟1)所述cell,為版圖中實現具體功能的單元,包含layer的圖形或包含layer的圖形及對其它cell的引用。
3.根據權利要求1所述的面板版圖設計中加速曝光模擬的方法,其特征在于,在進行所述步驟1)至步驟3)過程中,保持和利用了cell間的調用關系,并且將cell間的調用關系保留在結果文件中。
4.一種計算機可讀存儲介質,其上存儲有計算機指令,其特征在于,所述計算機指令運行時執行權利要求1至3任一項所述的面板版圖設計中加速曝光模擬的方法的步驟。
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