[發(fā)明專利]陣列基板及其制作方法和顯示面板在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201811338420.5 | 申請(qǐng)日： | 2018-11-12 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN109270731A | 公開(kāi)（公告）日： | 2019-01-25 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 周天奇 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 成都中電熊貓顯示科技有限公司 |
| 主分類號(hào)： | G02F1/1335 | 分類號(hào)： | G02F1/1335;G02F1/1362 |
| 代理公司： | 北京同立鈞成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11205 | 代理人： | 文小莉;劉芳 |
| 地址： | 610200 四川省成*** | 國(guó)省代碼： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 薄膜晶體管層 陣列基板 彩色濾光層 像素電極層 色阻單元 顯示面板 像素區(qū)域 制作 基板 非像素區(qū)域 彩膜基板 陣列排布 間隔物 省略 漏極 制備 生產(chǎn)成本 覆蓋 | ||
本發(fā)明提供一種陣列基板及其制作方法和顯示面板，所述方法包括：在基板上的非像素區(qū)域上形成薄膜晶體管層；在所述基板的像素區(qū)域上以及所述薄膜晶體管層上形成彩色濾光層，且位于所述像素區(qū)域上的所述彩色濾光層形成多個(gè)呈陣列排布的色阻單元，位于所述薄膜晶體管層上的所述彩色濾光層形成間隔物；在所述色阻單元上覆蓋像素電極層，且所述像素電極層與所述薄膜晶體管層的漏極通過(guò)過(guò)孔相連，本發(fā)明提供的陣列基板的制作方法實(shí)現(xiàn)了省略PS工序的目的，解決了現(xiàn)有的PS制備使得陣列基板或彩膜基板的制作工序增多以及生產(chǎn)成本增加的技術(shù)問(wèn)題。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種陣列基板及其制作方法和顯示面板。
背景技術(shù)
液晶顯示器(Liquid Crystal Display，LCD)是目前市場(chǎng)上應(yīng)用最為廣泛的顯示產(chǎn)品，其中，液晶顯示器主要包括液晶顯示面板和背光模塊，其中，液晶顯示面板主要包括陣列基板、彩膜基板以及填充在陣列(array)基板和彩膜(color filter，簡(jiǎn)稱：CF)基板之間的液晶，其中，為了維系兩個(gè)基板間的間距，在CF基板和array基板間設(shè)置間隔物(photospacer，簡(jiǎn)稱：PS)。
目前，間隔物(PS)的設(shè)置方式主要有兩種：一種在CF基板朝向所述陣列基板一面上形成PS，具體為，在CF基板的公共電極上形成PS上，另一種是在陣列(array)基板朝向CF基板的一面上設(shè)置PS，具體在陣列基板的像素像素電極上形成PS。
然而，上述兩種設(shè)置方式中均需獨(dú)立工序形成PS，這樣使得CF基板或陣列基板的制備工序增多，從而增加了生產(chǎn)成本。
發(fā)明內(nèi)容
針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中的上述缺陷，本發(fā)明提供了一種陣列基板及其制作方法和顯示面板，以解決現(xiàn)有的PS制備使得陣列基板或彩膜基板的制作工序增多以及生產(chǎn)成本增加的技術(shù)問(wèn)題。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供一種陣列基板的制作方法，所述方法包括：在基板上的非像素區(qū)域上形成薄膜晶體管層；
在所述基板的像素區(qū)域上以及所述薄膜晶體管層上形成彩色濾光層，且位于所述像素區(qū)域上的所述彩色濾光層形成多個(gè)呈陣列排布的色阻單元，位于所述薄膜晶體管層上的所述彩色濾光層形成間隔物；
在所述色阻單元上覆蓋像素電極層，且所述像素電極層與所述薄膜晶體管層的漏極通過(guò)過(guò)孔相連。
本實(shí)施例提供的陣列基板的制作方法，通過(guò)在所述基板的像素區(qū)域上以及所述薄膜晶體管層上形成彩色濾光層，且位于所述像素區(qū)域上的所述彩色濾光層形成多個(gè)呈陣列排布的色阻單元，位于所述薄膜晶體管層上的所述彩色濾光層形成間隔物，這樣在形成色阻單元的同時(shí)形成間隔物，避免了PS工序的單獨(dú)設(shè)置，從而減少了陣列基板制作過(guò)程中的工序，從而使得陣列基板的生產(chǎn)成本降低，同時(shí)，由于不需要額外設(shè)置PS工序，所以也達(dá)到節(jié)省了生產(chǎn)周期的目的，因此，本實(shí)施例提供的陣列基板的制作方法，解決了現(xiàn)有PS制備使得陣列基板或彩膜基板的制備工序增加以及生產(chǎn)成本增加的問(wèn)題。
在本發(fā)明的具體實(shí)施方式中，可選的，所述薄膜晶體管層上形成彩色濾光層，包括：
在所述薄膜晶體管層上形成R濾光層、G濾光層和B濾光層中的至少一層以形成所述間隔物。
在本發(fā)明的具體實(shí)施方式中，可選的，所述在所述基板的像素區(qū)域上以及所述薄膜晶體管層上形成彩色濾光層，包括：
在所述基板的像素區(qū)域上以及所述薄膜晶體管層上形成第一彩色濾光層，且位于所述薄膜晶體管層上的所述第一彩色濾光層形成所述間隔物；
在所述基板的像素區(qū)域上形成第二彩色濾光層；
在所述基板的像素區(qū)域上形成第三彩色濾光層，且所述像素區(qū)域上的所述第一彩色濾光層、所述第二彩色濾光層和所述第三彩色濾光層形成所述色阻單元，其中，所述第一彩色濾光層、所述第二彩色濾光層和所述第三彩色濾光層分別為R濾光層、G濾光層和B濾光層中互不相同的其中一種。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置，例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào)，上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過(guò)改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來(lái)修改的；用于上述操作的技術(shù)或工藝；變頻；非線性光學(xué)；光學(xué)
G02F1-00 控制來(lái)自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置，例如，轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制；非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制，即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的
