[發明專利]陣列基板及其制作方法和顯示面板在審
| 申請號: | 201811338420.5 | 申請日: | 2018-11-12 |
| 公開(公告)號: | CN109270731A | 公開(公告)日: | 2019-01-25 |
| 發明(設計)人: | 周天奇 | 申請(專利權)人: | 成都中電熊貓顯示科技有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1335 | 分類號: | G02F1/1335;G02F1/1362 |
| 代理公司: | 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205 | 代理人: | 文小莉;劉芳 |
| 地址: | 610200 四川省成*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 薄膜晶體管層 陣列基板 彩色濾光層 像素電極層 色阻單元 顯示面板 像素區域 制作 基板 非像素區域 彩膜基板 陣列排布 間隔物 省略 漏極 制備 生產成本 覆蓋 | ||
1.一種陣列基板的制作方法,其特征在于,所述方法包括:
在基板上的非像素區域上形成薄膜晶體管層;
在所述基板的像素區域上以及所述薄膜晶體管層上形成彩色濾光層,且位于所述像素區域上的所述彩色濾光層形成多個呈陣列排布的色阻單元,位于所述薄膜晶體管層上的所述彩色濾光層形成間隔物;
在所述色阻單元上覆蓋像素電極層,且所述像素電極層與所述薄膜晶體管層的漏極通過過孔相連。
2.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述薄膜晶體管層上形成彩色濾光層,包括:
在所述薄膜晶體管層上形成R濾光層、G濾光層和B濾光層中的至少一層以形成所述間隔物。
3.根據權利要求2所述的方法,其特征在于,所述在所述基板的像素區域上以及所述薄膜晶體管層上形成彩色濾光層,包括:
在所述基板的像素區域上以及所述薄膜晶體管層上形成第一彩色濾光層,且位于所述薄膜晶體管層上的所述第一彩色濾光層形成所述間隔物;
在所述基板的像素區域上形成第二彩色濾光層;
在所述基板的像素區域上形成第三彩色濾光層,且所述像素區域上的所述第一彩色濾光層、所述第二彩色濾光層和所述第三彩色濾光層形成所述色阻單元,其中,所述第一彩色濾光層、所述第二彩色濾光層和所述第三彩色濾光層分別為R濾光層、G濾光層和B濾光層中互不相同的其中一種。
4.根據權利要求2所述的方法,其特征在于,所述在所述基板的像素區域上以及所述薄膜晶體管層上形成彩色濾光層,包括:
在所述基板的像素區域上以及所述薄膜晶體管層上形成第一彩色濾光層;
在所述基板的像素區域上以及所述薄膜晶體管層上的所述第一彩色濾光層上均形成第二彩色濾光層,且所述薄膜晶體管層上的第一彩色濾光層和所述第二彩色濾光層堆疊形成所述間隔物;
在所述基板的像素區域上形成第三彩色濾光層,且所述像素區域上的所述第一彩色濾光層、所述第二彩色濾光層和所述第三彩色濾光層形成所述色阻單元,其中,所述第一彩色濾光層、所述第二彩色濾光層和所述第三彩色濾光層分別為R濾光層、G濾光層和B濾光層中互不相同的其中一種。
5.根據權利要求2所述的方法,其特征在于,所述在所述基板的像素區域上以及所述薄膜晶體管層上形成彩色濾光層,包括:
在所述基板的像素區域上以及所述薄膜晶體管層上形成第一彩色濾光層;
在所述基板的像素區域上以及所述薄膜晶體管層上的所述第一彩色濾光層上均形成第二彩色濾光層;
在所述基板的像素區域上以及所述薄膜晶體管層上的所述第二彩色濾光層上均形成第三彩色濾光層,且所述像素區域上的所述第一彩色濾光層、所述第二彩色濾光層和所述第三彩色濾光層形成所述色阻單元,所述薄膜晶體管層上的所述第一彩色濾光層、所述第二彩色濾光層和所述第三彩色濾光層堆疊形成所述間隔物,其中,所述第一彩色濾光層、所述第二彩色濾光層和所述第三彩色濾光層分別為R濾光層、G濾光層和B濾光層中互不相同的其中一種。
6.根據權利要求1-5任一所述的方法,其特征在于,所述在所述色阻單元上覆蓋像素電極層之前,還包括:
在所述色阻單元上形成保護層;
所述在所述色阻單元上覆蓋像素電極層,包括:
在所述保護層上覆蓋所述像素電極層。
7.根據權利要求1-5任一所述的方法,其特征在于,所述在基板上的非像素區域上形成薄膜晶體管層,包括:
在所述基板上形成柵極層;
在形成了所述柵極層的所述基板上覆蓋柵極絕緣層;
所述柵極絕緣層上形成有源層;
在形成了所述有源層的所述柵極絕緣層上形成源漏極層;
在所述源漏極層、所述有源層和所述柵極絕緣層上覆蓋阻隔層;
所述在基板的像素區域上以及所述薄膜晶體管層上形成彩色濾光層,包括:
在所述源漏極層上的所述阻隔層以及所述基板的像素區對應的所述阻隔層上形成彩色濾光層,且所述基板的像素區對應的所述阻隔層上覆蓋的所述彩色濾光層形成色阻單元,所述源漏極層對應的所述阻隔層上覆蓋的所述彩色濾光層形成所述間隔物。
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