[發(fā)明專利]污染物來(lái)源解析方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201811327588.6
• 申請(qǐng)日: 2018-11-08
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN111222216A
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-06-02
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李波;肖安山;賈潤(rùn)中
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中國(guó)石油化工股份有限公司;中國(guó)石油化工股份有限公司青島安全工程研究院
• 主分類號(hào): G06F30/20
• 分類號(hào): G06F30/20;G01N33/00
• 代理公司: 北京潤(rùn)平知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11283
• 代理人: 肖冰濱;王曉曉

本發(fā)明公開(kāi)了一種污染物來(lái)源解析方法，包括：以待解析區(qū)域?yàn)槭荏w，確定受體的若干個(gè)目標(biāo)排放源，并獲取若干個(gè)目標(biāo)排放源的指紋譜；獲取受體監(jiān)測(cè)數(shù)據(jù)；剔除受體監(jiān)測(cè)數(shù)據(jù)中的未知源成分；以及根據(jù)受體的目標(biāo)排放源的指紋譜、剔除未知源成分的受體監(jiān)測(cè)數(shù)據(jù)以及預(yù)先構(gòu)建的化學(xué)質(zhì)量平衡模型，得到污染物來(lái)源解析結(jié)果。通過(guò)建立污染物排放源清單以及確定清單中的受體目標(biāo)排放源，提高了溯源解析的針對(duì)性及定位精度并考慮了企業(yè)生產(chǎn)場(chǎng)地的邊界交叉污染問(wèn)題，同時(shí)設(shè)計(jì)了合理可行的污染物來(lái)源解析流程以及共線性源、未知源成分的判定方法，在一定程度上解決了共線性問(wèn)題，提高了對(duì)污染物來(lái)源的定位的準(zhǔn)確度和定量解析的精確度。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及大氣污染防治領(lǐng)域，具體地涉及一種污染物來(lái)源解析方法。

背景技術(shù)

了解重點(diǎn)區(qū)域大氣污染物排放特性，定性定量地闡明特征污染物的來(lái)源及其貢獻(xiàn)，是科學(xué)合理建立大氣污染防治長(zhǎng)效機(jī)制的重要條件。

目前常見(jiàn)的污染物來(lái)源解析辦法，通常僅考慮受體位置污染狀況，未對(duì)周邊可能對(duì)受體位置產(chǎn)生影響的排放源摸底排查。另外，常用的因子分析作為受體源解析技術(shù)雖然做出了成分分析，但分析出的成分因子僅具有數(shù)學(xué)意義，其物理意義難以表述。

因此，現(xiàn)有技術(shù)中對(duì)污染物來(lái)源進(jìn)行分析時(shí)存在企業(yè)邊界交叉污染區(qū)域的污染物來(lái)源不明確、定位不精確、解析結(jié)果不準(zhǔn)確等問(wèn)題。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明實(shí)施例的目的是提供一種污染物來(lái)源解析方法，以解決上述技術(shù)問(wèn)題，至少部分地解決上述問(wèn)題。

本發(fā)明實(shí)施例提供的污染物來(lái)源解析方法，包括：確定受體的若干個(gè)目標(biāo)排放源，并獲取若干個(gè)所述目標(biāo)排放源的指紋譜；獲取受體監(jiān)測(cè)數(shù)據(jù)；剔除所述受體監(jiān)測(cè)數(shù)據(jù)中的未知源成分；以及根據(jù)所述受體的所述目標(biāo)排放源的指紋譜、剔除所述未知源成分的受體監(jiān)測(cè)數(shù)據(jù)以及預(yù)先構(gòu)建的化學(xué)質(zhì)量平衡模型，得到污染物來(lái)源解析結(jié)果。

可選的，所述確定受體的若干個(gè)目標(biāo)排放源并獲取若干個(gè)所述目標(biāo)排放源的指紋譜包括：建立所述受體周邊的污染物排放源清單，并確定所述污染物排放源清單上的所述污染物排放源的指紋譜；以及分析出所述污染物排放源清單中能夠?qū)λ鍪荏w造成污染的若干所述污染物排放源，即若干目標(biāo)排放源，并確定若干個(gè)所述目標(biāo)排放源的指紋譜。

可選的，所述建立受體周邊的污染物排放源清單包括：在所述受體所屬企業(yè)生產(chǎn)場(chǎng)地范圍之內(nèi)以一個(gè)或多個(gè)裝置作為一個(gè)排放源；在受體所屬企業(yè)生產(chǎn)場(chǎng)地范圍之外以一個(gè)企業(yè)作為一個(gè)排放源。

可選的，所述作為一個(gè)排放源的所述多個(gè)裝置的污染物排放特性相同和 /或所述多個(gè)裝置的位置相鄰且不存在明顯界限。

可選的，所述剔除所述受體監(jiān)測(cè)數(shù)據(jù)中的未知源成分之前，所述污染物來(lái)源解析方法還包括：判斷所述目標(biāo)排放源中是否存在共線性源；在所述目標(biāo)排放源中存在共線性源時(shí)，獲取所述受體監(jiān)測(cè)數(shù)據(jù)的主成分，并判斷所述受體監(jiān)測(cè)數(shù)據(jù)的主成分中是否存在未知源成分，若所述受體監(jiān)測(cè)數(shù)據(jù)的主成分中存在未知源成分，則剔除所述受體監(jiān)測(cè)數(shù)據(jù)中的未知源成分。

可選的，所述判斷所述目標(biāo)排放源中是否存在共線性源包括：獲取所述受體的若干個(gè)所述目標(biāo)排放源中每?jī)蓚€(gè)所述目標(biāo)排放源的指紋譜之間的第一相關(guān)系數(shù)，若任意每?jī)蓚€(gè)所述目標(biāo)排放源的指紋譜之間的所述第一相關(guān)系數(shù)均小于第一預(yù)定值，則判定所述目標(biāo)排放源中不存在共線性源；反之，則判定所述目標(biāo)排放源中存在共線性源。

可選的，所述獲取所述受體位置的若干個(gè)所述目標(biāo)排放源中每?jī)蓚€(gè)所述目標(biāo)排放源的指紋譜之間的第一相關(guān)系數(shù)包括：所述第一相關(guān)系數(shù)采用如下公式得到：其中，ρ_XY表示排放源X和排放源Y的第一相關(guān)系數(shù)，X、Y分別表示排放源X、Y的指紋譜，Cov(X，Y)表示排放源X和排放源Y的指紋譜的協(xié)方差，D(X)表示排放源X的指紋譜的方差，D(Y)表示排放源Y的指紋譜的方差。