[發明專利]污染物來源解析方法在審
| 申請號: | 201811327588.6 | 申請日: | 2018-11-08 |
| 公開(公告)號: | CN111222216A | 公開(公告)日: | 2020-06-02 |
| 發明(設計)人: | 李波;肖安山;賈潤中 | 申請(專利權)人: | 中國石油化工股份有限公司;中國石油化工股份有限公司青島安全工程研究院 |
| 主分類號: | G06F30/20 | 分類號: | G06F30/20;G01N33/00 |
| 代理公司: | 北京潤平知識產權代理有限公司 11283 | 代理人: | 肖冰濱;王曉曉 |
| 地址: | 100728 北*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 污染物 來源 解析 方法 | ||
1.一種污染物來源解析方法,其特征在于,所述污染物來源解析方法包括:
以待解析區域為受體,確定受體的若干個目標排放源,并獲取若干個所述目標排放源的指紋譜;
獲取受體監測數據;
剔除所述受體監測數據中的未知源成分;以及
根據所述受體的所述目標排放源的指紋譜、剔除所述未知源成分的受體監測數據以及預先構建的化學質量平衡模型,得到污染物來源解析結果。
2.根據權利要求1所述的污染物來源解析方法,其特征在于,所述確定受體的若干個目標排放源并獲取若干個所述目標排放源的指紋譜包括:
建立所述受體周邊的污染物排放源清單,并確定所述污染物排放源清單上的所述污染物排放源的指紋譜;以及
分析出所述污染物排放源清單中能夠對所述受體造成污染的若干所述污染物排放源,即為若干目標排放源,并確定若干個所述目標排放源的指紋譜。
3.根據權利要求2所述的污染物來源解析方法,其特征在于,所述建立所述受體周邊的污染物排放源清單包括:在所述受體所屬企業生產場地范圍之內以一個或多個裝置作為一個排放源;在受體所屬企業生產場地范圍之外以一個企業作為一個排放源。
4.根據權利要求3所述的污染物來源解析方法,其特征在于,所述作為一個排放源的所述多個裝置的污染物排放特性相同和/或所述多個裝置的位置相鄰且不存在明顯界限。
5.根據權利要求1所述的污染物來源解析方法,其特征在于,所述剔除所述受體監測數據中的未知源成分之前,所述污染物來源解析方法還包括:
判斷所述目標排放源中是否存在共線性源;
在所述目標排放源中存在共線性源時,獲取所述受體監測數據的主成分,并判斷所述受體監測數據的主成分中是否存在未知源成分,
若所述受體監測數據的主成分中存在未知源成分,則剔除所述受體監測數據中的未知源成分。
6.根據權利要求5所述的污染物來源解析方法,其特征在于,所述判斷所述目標排放源中是否存在共線性源包括:
獲取所述受體的若干個所述目標排放源中每兩個所述目標排放源的指紋譜之間的第一相關系數,
若任意每兩個所述目標排放源的指紋譜之間的所述第一相關系數均小于第一預定值,則判定所述目標排放源中不存在共線性源;
反之,則判定所述目標排放源中存在共線性源。
7.根據權利要求6所述的污染物來源解析方法,其特征在于,所述獲取所述受體的若干個所述目標排放源中每兩個所述目標排放源的指紋譜之間的第一相關系數包括:
所述第一相關系數采用如下公式得到:
其中,ρXY表示排放源X和排放源Y的第一相關系數;
X、Y分別表示排放源X、Y的指紋譜;
Cov(X,Y)表示排放源X和排放源Y的指紋譜的協方差;
D(X)表示排放源X的指紋譜的方差;
D(Y)表示排放源Y的指紋譜的方差。
8.根據權利要求5所述的污染物來源解析方法,其特征在于,所述獲取所述受體監測數據的主成分并判斷所述受體監測數據的主成分中是否存在未知源成分包括:
利用主成分分析方法或正定矩陣因子分析方法獲取所述受體監測數據的主成分;以及
獲取所述受體監測數據的每一主成分與每一個所述目標排放源的指紋譜之間的第二相關系數以及所述受體監測數據的每一主成分與所述目標排放源的組合指紋譜之間的第三相關系數,
若所述受體監測數據的某一主成分的所述第二相關系數小于第二預定值且所述第三相關系數小于第三預定值則判定所述受體監測數據的該主成分為未知源成分;反之,則判定所述受體監測數據的主成分中不存在未知源成分。
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