[發明專利]光刻裝置、光刻方法、決定方法、存儲介質和物品制造方法

有效

• 申請號: 201811321731.0
• 申請日: 2018-11-08
• 公開（公告）號: CN109782548B
• 公開（公告）日: 2021-08-03
• 發明（設計）人: 間瀨友裕
• 申請（專利權）人: 佳能株式會社
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F9/00
• 代理公司: 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038
• 代理人: 宋巖

1.一種光刻裝置，其特征在于，所述光刻裝置在基板上形成圖案，所述基板包括第一基板和所述第一基板之后的第二基板，所述光刻裝置包括：

檢測單元，被配置為檢測分別設置在第一基板和第二基板上的多個壓射區域中的標記；

處理單元，被配置為在相對于第一基板執行的精細對準之后相對于第二基板執行預對準；和

控制單元，被配置為：

基于第一基板上的樣本壓射區域中的標記的檢測值來獲得第一基板上的多個壓射區域的第一布局，其中，樣本壓射區域中的標記的檢測值是在相對于第一基板執行的精細對準中獲得的，

生成檢測單元已經在相對于第一基板執行的精細對準中檢測了標記的第一基板上的樣本壓射區域的多個不同的組合，所生成的多個不同的組合中的每個組合由至少兩個樣本壓射區域構成，以及

基于所述第一布局，決定要用作檢測單元在相對于第二基板執行的預對準中檢測標記的第二基板上的樣本壓射區域的樣本壓射區域，所決定的樣本壓射區域對應于第一基板上的樣本壓射區域的所生成的多個不同的組合中的一個組合。

2.根據權利要求1所述的裝置，其中，所述控制單元被配置為獲得所述第一布局相對于已經在相對于第一基板執行的預對準中獲得的第一基板上的多個壓射區域的第二布局的評價值，并且將所生成的多個不同的組合之中的、包括在所獲得的評價值的可允許范圍內的組合中的樣本壓射區域決定為檢測單元在相對于第二基板執行的預對準中檢測標記的第二基板上的樣本壓射區域。

3.根據權利要求1所述的裝置，其中，所述控制單元被配置為從所生成的多個組合中的每一個組合中獲得所述第一布局與已經在相對于所述第一基板執行的預對準中獲得的所述第一基板上的多個壓射區域的第二布局之間的相關度，并將所生成的多個不同的組合之中的、表現出最高相關度的組合中包括的樣本壓射區域決定為檢測單元在相對于第二基板執行的預對準中檢測標記的第二基板上的樣本壓射區域。

4.根據權利要求1所述的裝置，還包括被配置為保持和移動基板的臺，

其中，所述控制單元還被配置為基于在相對于第二基板執行的預對準中檢測樣本壓射區域中的標記所需的所述臺的移動時間或移動距離來決定所述檢測單元在相對于所述第二基板執行的預對準中檢測標記的樣本壓射區域。

5.根據權利要求1所述的裝置，其中，所述控制單元還被配置為決定所述檢測單元在相對于所述第二基板執行的預對準中檢測標記的樣本壓射區域，使得所述檢測單元在相對于所述第二基板的精細對準中檢測標記的第一樣本壓射區域是檢測單元在相對于第二基板的預對準中檢測標記的最后的樣本壓射區域。

6.根據權利要求1所述的裝置，其中，所述檢測單元被配置為在預對準中以第一倍率檢測標記，并且在精細對準中以高于所述第一倍率的第二倍率檢測標記。

7.根據權利要求1所述的裝置，其中，檢測單元在預對準中檢測標記的樣本壓射區域的數量不小于2，并且

檢測單元在精細對準中檢測標記的樣本壓射區域的數量不小于檢測單元在預對準中檢測標記的樣本壓射區域的數量。

8.根據權利要求1所述的裝置，還包括：投影光學系統，被配置為將中間掩模的圖案投影到基板上。