[發(fā)明專利]靶材組件及其制造方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811319205.0 | 申請日: | 2018-11-07 |
| 公開(公告)號: | CN111155059A | 公開(公告)日: | 2020-05-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 姚力軍;潘杰;王學(xué)澤;廖培君 | 申請(專利權(quán))人: | 寧波江豐電子材料股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/34 | 分類號: | C23C14/34;B23P15/00 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227 | 代理人: | 吳敏 |
| 地址: | 315400 浙江省寧波*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 組件 及其 制造 方法 | ||
一種靶材組件及其制造方法,制造方法包括:提供靶材和背板,所述靶材具有靶材焊接面,所述背板具有背板焊接面;在所述靶材焊接面或所述背板焊接面上形成螺紋;形成所述螺紋后,將所述靶材焊接面與所述背板焊接面相貼合設(shè)置形成初始組件;對所述初始組件進(jìn)行焊接處理,以獲得靶材組件。利用所述制造方法形成的所述靶材組件中,所述靶材與所述背板貼合緊密,能夠避免在所述靶材焊接面及所述背板焊接面間形成縫隙,有助于提高所述靶材組件的焊接質(zhì)量。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種靶材組件及其制造方法。
背景技術(shù)
濺射鍍膜屬于物理氣相沉積方法制備薄膜的工藝之一,具體是指利用高能粒子轟擊靶材表面,使得靶材原子或分子獲得足夠的能量逸出,并沉積在基材或工件表面,從而形成薄膜。
在濺射鍍膜工藝中,靶材需與背板焊接在一起,構(gòu)成靶材組件,共同裝配至濺射基臺。所述背板具有良好的導(dǎo)電導(dǎo)熱性能,且還可以起到固定支撐作用。
濺射鍍膜過程中,靶材組件處于高溫環(huán)境中,為了對所述靶材組件進(jìn)行降溫,通常采用持續(xù)的高壓冷卻水沖擊所述背板。所述高壓冷卻水在靶材與背板間造成較大的壓力差,因此要求所述靶材與所述背板具有較強(qiáng)的焊接牢固度。
然而,現(xiàn)有技術(shù)制造的靶材組件的焊接質(zhì)量有待提高。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明解決的問題是提供一種靶材組件及其制造方法,能夠提高所述靶材與所述背板貼合的緊密度,避免在所述靶材焊接面及所述背板焊接面間形成縫隙,從而改善所述靶材組件的焊接質(zhì)量。
為解決上述問題,本發(fā)明提供一種靶材組件的制造方法,包括:提供靶材和背板,所述靶材具有靶材焊接面,所述背板具有背板焊接面;在所述靶材焊接面或所述背板焊接面上形成螺紋;形成所述螺紋后,將所述靶材焊接面與所述背板焊接面相貼合設(shè)置形成初始組件;對所述初始組件進(jìn)行焊接處理,以獲得靶材組件。
可選的,形成所述螺紋的工藝中,所述螺紋為平面螺紋。
可選的,形成所述螺紋的工藝中,所述螺紋由多個(gè)凸起構(gòu)成。
可選的,形成所述螺紋的工藝中,所述凸起的高度為0.5mm~0.65mm。
可選的,形成所述螺紋的工藝中,相鄰所述凸起的間距為0.7mm~0.95mm。
可選的,形成所述螺紋后,且在形成所述初始組件前,所述制造方法還包括:對所述靶材及所述背板進(jìn)行清洗處理;進(jìn)行清洗處理后,對所述靶材及所述背板進(jìn)行干燥處理。
可選的,所述靶材的材料為鋁或銅。
可選的,當(dāng)所述靶材的材料為鋁時(shí),所述清洗處理包括:提供酸洗液,將所述靶材浸泡于所述酸洗液中。
可選的,當(dāng)所述靶材的材料為銅時(shí),所述清洗處理包括:利用異丙醇溶液對所述靶材進(jìn)行超聲波清洗處理。
可選的,所述背板的材料為鋁合金或銅合金。
可選的,當(dāng)所述背板的材料為鋁合金時(shí),所述清洗處理包括:提供酸洗液,將所述背板浸泡于所述酸洗液中。
可選的,當(dāng)所述背板的材料為銅合金時(shí),所述清洗處理包括:利用異丙醇溶液對所述背板進(jìn)行超聲波清洗處理。
可選的,所述酸洗液為氫氟酸及硝酸的混合溶液,所述氫氟酸及硝酸的質(zhì)量百分比濃度總和為30%~60%。
可選的,所述氫氟酸及硝酸的質(zhì)量百分比濃度的比值為0.125~0.25。
可選的,采用熱等靜壓工藝對所述初始組件進(jìn)行焊接處理。
可選的,形成所述初始組件后,且進(jìn)行所述熱等靜壓工藝前,所述制造方法還包括:利用真空包套對所述初始組件進(jìn)行真空包裝。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





