[發(fā)明專利]一種高濃度霜脲氰廢水的處理工藝在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811316569.3 | 申請日： | 2018-11-07 |
| 公開（公告）號： | CN109293116A | 公開（公告）日： | 2019-02-01 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 孫承林;李先如;唐葉紅;衛(wèi)皇曌;劉景光 | 申請（專利權(quán)）人： | 蘇州工業(yè)園區(qū)承葉環(huán)境科技有限公司 |
| 主分類號： | C02F9/10 | 分類號： | C02F9/10;C02F101/30 |
| 代理公司： | 蘇州翔遠(yuǎn)專利代理事務(wù)所(普通合伙) 32251 | 代理人： | 劉計(jì)成 |
| 地址： | 215000 江蘇省蘇州市工業(yè)*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 反應(yīng)塔 廢水緩沖槽 霜脲氰 氣液分離處理 均相催化劑 氣液分離罐 廢水 處理工藝 分離罐 出口 多效蒸發(fā)器 多效蒸發(fā) 后續(xù)處理 混合加熱 可生化性 設(shè)備投入 循環(huán)利用 廢水池 冷凝水 稀釋 進(jìn)水 母液 加熱 配制 送入 節(jié)約 支出 環(huán)保 | ||
1.一種高濃度霜脲氰廢水的處理工藝，所述廢水COD>55000mg/L，鹽度>3.5％，pH<7.0，其特征在于：所述工藝包括下列步驟：
第一步：在廢水池中加入均相催化劑后混合均勻并將其混合液加熱，所述均相催化劑的加入量按金屬離子計(jì)為50～1000mg/L；
第二步：將廢水池中的液體通入第一反應(yīng)塔，所述第一反應(yīng)塔內(nèi)裝填惰性填料，反應(yīng)溫度為180～300℃，反應(yīng)壓力2.0～9.0MPa，液時空速0.5～3.0h-1，所述第一反應(yīng)塔內(nèi)單程COD削減量為20000～40000mg/L；
第三步：待第一反應(yīng)塔內(nèi)的氧化反應(yīng)結(jié)束后，將第一反應(yīng)塔內(nèi)的液體通入第一氣液分離罐進(jìn)行氣液分離處理；
第四步：將第一氣液分離罐的第一出口通入第一廢水緩沖槽，第二出口通入第二廢水緩沖槽，所述第一廢水緩沖槽的出口與所述廢水槽的出口相連通，所述第一廢水緩沖槽的出口、廢水池的出口以及所述第一氣液分離罐的第一出口、第二出口均設(shè)置有閥門；
第五步：將所述第二廢水緩沖槽的出口通入多效蒸發(fā)器；
第六步：待多效蒸發(fā)器處理完成，將其冷凝水加熱后送入第二反應(yīng)塔，所述第一反應(yīng)塔內(nèi)裝填多相催化劑，反應(yīng)溫度為180～300℃，反應(yīng)壓力2.0～9.0MPa，液時空速0.5～3.0h-1，所述第二反應(yīng)塔內(nèi)COD削減量為15000～30000mg/L；
第七步：待第二反應(yīng)塔內(nèi)的氧化反應(yīng)結(jié)束后，將第二反應(yīng)塔內(nèi)的液體通入第二分離罐進(jìn)行氣液分離處理；
第八步：將第二分離罐的出口通入第三廢水緩沖槽，處理完成。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高濃度霜脲氰廢水的處理工藝，其特征在于：所述第一步與所述第六步中的加熱方式采用換熱器加熱。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高濃度霜脲氰廢水的處理工藝，其特征在于：所述第一氣液分離罐與所述第二氣液分離罐均設(shè)置有尾氣處理裝置。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高濃度霜脲氰廢水的處理工藝，其特征在于：所述第四步中的所述的閥門均為電控閥門。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高濃度霜脲氰廢水的處理工藝，其特征在于：所述第一廢水緩沖槽設(shè)置有水位檢測傳感器。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高濃度霜脲氰廢水的處理工藝，其特征在于：所述均相催化劑為硫酸鐵、硝酸鐵、硫酸銅、硝酸銅、硫酸錳、硝酸錳、硫酸鈷、硝酸鈷、硫酸鋅、硝酸鋅、硫酸鎳、硝酸鎳中的一種或幾種組合，加入量按金屬離子計(jì)為50～1000mg/L。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種高濃度霜脲氰廢水的處理工藝，其特征在于：所述惰性填料為活性炭、二氧化鈦、二氧化鋯、三氧化二鋁、二氧化硅、分子篩和海綿鈦中的一種或多種組合。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種高濃度霜脲氰廢水的處理工藝，其特征在于：所述多相催化劑為貴金屬負(fù)載型催化劑，其載體為活性炭、二氧化鈦、二氧化鋯、三氧化二鋁、二氧化硅和分子篩中的一種或多種組合，其活性組分為釕、銠、鈀、銀、鉑、鈰、鑭、釹中的一種或多種組合。
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