[發明專利]一種電場測量裝置

在審

• 申請號: 201811315214.2
• 申請日: 2018-11-06
• 公開（公告）號: CN109406889A
• 公開（公告）日: 2019-03-01
• 發明（設計）人: 邵濤;章程;白晗;邱錦濤
• 申請（專利權）人: 中國科學院電工研究所
• 主分類號: G01R29/12
• 分類號: G01R29/12
• 代理公司: 北京三聚陽光知識產權代理有限公司 11250
• 代理人: 李博洋

本發明公開一種電場測量裝置，包括：信號源，激光器，用于在信號源的作用下產生第一激光信號；第一聚光器件，電場產生設備，用于在信號源的作用下產生介質電場使得第一激光信號發生倍頻效應轉變為第二激光信號，并產生介質電場的電場信號；分光器件，用于分別將第一激光信號和第二激光信號分配到各自對應的分光支路上；測量設備，用于通過調整第一激光信號或第二激光信號與電場信號的時差得到第一激光信號或第二激光信號位于電場信號的波形區域的不同時刻的介質電場的電場參數，并將電場參數進行顯示。本發明利用激光器和電場產生設備在信號源的作用下產生二次諧波測量當前介質電場的電場參數，可以提高測量精度。

技術領域

本發明涉及電場測量技術領域，具體涉及一種電場測量裝置。

背景技術

電場是存在于電荷周圍能傳遞電荷與電荷之間相互作用的物理場。電場是高電壓技術中非常重要的參數，而對該電場測量裝置是測量電場參數的重要設備，在電力行業，通過電場測量裝置有利于電力系統狀態的監測、電力設備的維護以及有利于高壓輸電線路的絕緣距離的選擇。在電氣設備中，通過對電場的測量，可以有效判別設備的絕緣情況。因此，研究電場的測量以及測量電場的裝置具有重要意義。

目前現有技術中傳統的電場測量裝置一般使用電光晶體或雙電極傳感器或電容傳感器與測量介質直接進行接觸獲取測量參數，由于測量傳感器的電極與測量介質直接接觸，會受到測量傳感器本身所產生的電磁干擾，導致測量介質所在位置的電場發生畸變，影響測量精度。

發明內容

因此，本發明實施例要解決的技術問題在于現有技術中的電場測量裝置，其容易受到電磁干擾，導致測量精度較差。

為此，本發明實施例提供了如下技術方案：

本發明實施例提供一種電場測量裝置，包括：

信號源，用于提供電場測量信號；

激光器，用于在所述信號源的作用下產生第一激光信號；

第一聚光器件，用于對所述第一激光信號進行聚光；

電場產生設備，設置在所述第一聚光器件對所述第一激光信號進行聚光所產生的焦點處，用于在所述信號源的作用下產生介質電場使得所述第一激光信號發生倍頻效應轉變為第二激光信號，并產生所述介質電場的電場信號；

分光器件，用于分別將所述第一激光信號和所述第二激光信號分配到各自對應的分光支路上；

測量設備，用于通過調整所述第一激光信號或所述第二激光信號與所述電場信號的時差得到所述第一激光信號或所述第二激光信號位于所述電場信號的波形區域的不同時刻的所述介質電場的電場參數，并將所述電場參數進行顯示。

可選地，所述的電場測量裝置，還包括：

光功率計，用于測量所述第一激光信號的光功率；

第一濾光器件，位于所述電場產生設備與所述光功率計之間，用于對所述第一激光信號和所述第二激光信號進行一次濾光，并將所述一次濾光后的所述第一激光信號傳輸給所述光功率計。

可選地，所述的電場測量裝置，還包括：

第二濾光器件，用于對所述一次濾光后的所述第一激光信號和所述第二激光信號進行二次濾光；

光截止片，用于吸收所述二次濾光后的所述第一激光信號。

可選地，所述的電場測量裝置，還包括：

第二聚光器件，用于對所述分光器件傳輸出的所述第二激光信號進行聚光；

第三聚光器件，用于對所述第二聚光器件聚光后的所述第二激光信號進行聚光。

可選地，所述的電場測量裝置，還包括：