[發(fā)明專利]一種電場測量裝置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201811315214.2
• 申請日: 2018-11-06
• 公開（公告）號: CN109406889A
• 公開（公告）日: 2019-03-01
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 邵濤;章程;白晗;邱錦濤
• 申請（專利權(quán)）人: 中國科學(xué)院電工研究所
• 主分類號: G01R29/12
• 分類號: G01R29/12
• 代理公司: 北京三聚陽光知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11250
• 代理人: 李博洋

1.一種電場測量裝置，其特征在于，包括：

信號源，用于提供電場測量信號；

激光器，用于在所述信號源的作用下產(chǎn)生第一激光信號；

第一聚光器件，用于對所述第一激光信號進(jìn)行聚光；

電場產(chǎn)生設(shè)備，設(shè)置在所述第一聚光器件對所述第一激光信號進(jìn)行聚光所產(chǎn)生的焦點處，用于在所述信號源的作用下產(chǎn)生介質(zhì)電場使得所述第一激光信號發(fā)生倍頻效應(yīng)轉(zhuǎn)變?yōu)榈诙す庑盘枺a(chǎn)生所述介質(zhì)電場的電場信號；

分光器件，用于分別將所述第一激光信號和所述第二激光信號分配到各自對應(yīng)的分光支路上；

測量設(shè)備，用于通過調(diào)整所述第一激光信號或所述第二激光信號與所述電場信號的時差得到所述第一激光信號或所述第二激光信號位于所述電場信號的波形區(qū)域的不同時刻的所述介質(zhì)電場的電場參數(shù)，并將所述電場參數(shù)進(jìn)行顯示。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電場測量裝置，其特征在于，還包括：

光功率計，用于測量所述第一激光信號的光功率；

第一濾光器件，位于所述電場產(chǎn)生設(shè)備與所述光功率計之間，用于對所述第一激光信號和所述第二激光信號進(jìn)行一次濾光，并將所述一次濾光后的所述第一激光信號傳輸給所述光功率計。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的電場測量裝置，其特征在于，還包括：

第二濾光器件，用于對所述一次濾光后的所述第一激光信號和所述第二激光信號進(jìn)行二次濾光；

光截止片，用于吸收所述二次濾光后的所述第一激光信號。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電場測量裝置，其特征在于，還包括：

第二聚光器件，用于對所述分光器件傳輸出的所述第二激光信號進(jìn)行聚光；

第三聚光器件，用于對所述第二聚光器件聚光后的所述第二激光信號進(jìn)行聚光。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的電場測量裝置，其特征在于，還包括：

光電倍增管，用于接收所述第三聚光器件傳輸出的所述第二激光信號，并將其傳輸給所述測量設(shè)備；

光電二極管，用于接收所述分光器件傳輸出的所述第一激光信號，并將其傳輸給所述測量設(shè)備。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的電場測量裝置，其特征在于，所述第一聚光器件、所述第二聚光器件和所述第三聚光器件為凸透鏡。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的電場測量裝置，其特征在于，所述測量設(shè)備為示波器。

8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的電場測量裝置，其特征在于，所述分光器件為棱鏡。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電場測量裝置，其特征在于，所述介質(zhì)電場為氣態(tài)電場或固態(tài)電場或液態(tài)電場。

10.根據(jù)權(quán)利要求1-9任一項所述的電場測量裝置，其特征在于，所述第一激光信號的波長為所述第二激光信號的波長的2倍。