[發(fā)明專利]一種電磁屏蔽膜的制備方法

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201811313412.5
• 申請(qǐng)日: 2018-11-06
• 公開（公告）號(hào): CN109743872A
• 公開（公告）日: 2019-05-10
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張文杰
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 睿惢思工業(yè)科技（蘇州）有限公司
• 主分類號(hào): H05K9/00
• 分類號(hào): H05K9/00
• 代理公司: 北京權(quán)智天下知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11638
• 代理人: 王新愛

本發(fā)明公開了一種電磁屏蔽膜的制備方法，包括在透明基底表面制作網(wǎng)格狀凹槽，并將導(dǎo)電銀漿填充凹槽內(nèi)固化形成導(dǎo)電網(wǎng)柵；利用氣體與導(dǎo)電網(wǎng)柵表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)形成暗化層。通過上述方式，本發(fā)明不僅降低了電磁屏蔽膜表面的可見度，而且只需將電磁屏蔽膜置于氣體氛圍中就可完成暗化，均勻度高，外觀良率高，且工藝簡(jiǎn)單，適合批量化。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及電磁屏蔽膜領(lǐng)域，特別是涉及一種電磁屏蔽膜的制備方法。

背景技術(shù)

隨著電子工業(yè)的發(fā)展和電子設(shè)備的廣泛應(yīng)用，電磁波輻射被認(rèn)為是繼水污染、噪音污染、空氣污染后的第四大公害。高頻電磁波不僅會(huì)導(dǎo)致電子器件的非正常運(yùn)轉(zhuǎn)，影響甚至破壞軍事設(shè)備的敏感器件，因而威脅到國家的軍事機(jī)密，而且還能影響到人們的正常生活，例如可能誘發(fā)某些疾病，如睡眠不足、頭暈、心血管疾病等。因此，電磁屏蔽材料的研究開發(fā)一直備受各國學(xué)術(shù)界和工業(yè)界的廣泛關(guān)注。

現(xiàn)有電磁屏蔽分別存在以下幾個(gè)問題：一，使用ITO透明薄膜，銦元素比較稀缺，價(jià)格昂貴，原材料成本太高；二，ITO薄膜比較脆，柔韌性較差，在彎曲60度以上就會(huì)斷裂破損；三，金屬或者合金多層(比如Ag,NiCr等)雖然導(dǎo)電性好，但是透過率低，而且沉積過程比較慢，真空工藝復(fù)雜，導(dǎo)致生產(chǎn)成本高；四，透明度比較低，而且不能夠任意調(diào)節(jié)。

中國發(fā)明專利CN201010533228.9，一種透明導(dǎo)電膜及其制作方法，描述了一種基于納米壓印和納米涂布的方法實(shí)現(xiàn)的透明導(dǎo)電膜，通過納米壓印形成溝槽，在溝槽中填充納米導(dǎo)電材料，再燒結(jié)使導(dǎo)電材料中的金屬顆粒聚集形成導(dǎo)電網(wǎng)柵結(jié)構(gòu)。該方案為了使導(dǎo)電性能最佳，可采用納米銀漿低溫?zé)Y(jié)形成網(wǎng)柵結(jié)構(gòu)，但導(dǎo)電銀呈黃色，光反射嚴(yán)重影響視覺外觀，并且裸露于空氣久會(huì)產(chǎn)生色變。

中國發(fā)明專利CN104571676A描述了一種網(wǎng)柵暗化的方法，通過在網(wǎng)柵上面添加碳黑、四氧化三鐵或氧化銅等降低導(dǎo)電層的可見度。但在涂覆暗化層時(shí)易出現(xiàn)不均勻或劃傷等不良現(xiàn)象，并且工藝步驟多，影響生產(chǎn)。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明主要解決的技術(shù)問題是提供一種電磁屏蔽膜的制備方法，能夠簡(jiǎn)單方便可批量化制備電磁屏蔽膜，且電磁屏蔽膜良率高。

為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明采用的一個(gè)技術(shù)方案是：提供一種電磁屏蔽膜的制備方法，包括以下步驟：在透明基底表面制作凹槽結(jié)構(gòu)層，凹槽結(jié)構(gòu)層上分布有網(wǎng)格狀凹槽；將導(dǎo)電銀漿填充在網(wǎng)格狀凹槽內(nèi)固化形成導(dǎo)電網(wǎng)柵；利用氣體與導(dǎo)電網(wǎng)柵表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)形成暗化層。

進(jìn)一步，所述導(dǎo)電網(wǎng)柵的線寬度1～20um，厚度1～20um。

進(jìn)一步，所述網(wǎng)格狀凹槽通過壓印制得。

進(jìn)一步，所述氣體為氧氣與硫化氫混合物。

進(jìn)一步，所述網(wǎng)格狀凹槽的圖形為六邊形、菱形或無規(guī)則形。

本發(fā)明的有益效果是：本發(fā)明不僅降低了電磁屏蔽膜表面的可見度，而且只需將電磁屏蔽膜置于氣體氛圍中就可完成暗化，均勻度高，外觀良率高，且工藝簡(jiǎn)單，適合批量化。

附圖說明

圖1是本發(fā)明一種電磁屏蔽膜的制備方法的流程；

圖2是所示一種電磁屏蔽膜的制備方法制得的電磁屏蔽膜的剖視結(jié)構(gòu)示意圖。

附圖中各部件的標(biāo)記如下：1、基底；2、凹槽結(jié)構(gòu)層；3、導(dǎo)電網(wǎng)柵；4、暗化層。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的較佳實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)闡述，以使本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)和特征能更易于被本領(lǐng)域技術(shù)人員理解，從而對(duì)本發(fā)明的保護(hù)范圍做出更為清楚明確的界定。

請(qǐng)參閱圖1和圖2，本發(fā)明實(shí)施例包括：