[發(fā)明專利]一種電磁屏蔽膜的制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811313412.5 | 申請日： | 2018-11-06 |
| 公開（公告）號： | CN109743872A | 公開（公告）日： | 2019-05-10 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 張文杰 | 申請（專利權(quán)）人： | 睿惢思工業(yè)科技（蘇州）有限公司 |
| 主分類號： | H05K9/00 | 分類號： | H05K9/00 |
| 代理公司： | 北京權(quán)智天下知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11638 | 代理人： | 王新愛 |
| 地址： | 215000 江蘇省蘇州市工業(yè)園*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 電磁屏蔽膜 導(dǎo)電網(wǎng)柵 暗化 制備 透明基底表面 化學(xué)反應(yīng) 網(wǎng)格狀凹槽 導(dǎo)電銀漿 氣體氛圍 均勻度 批量化 良率 固化 填充 制作 | ||
【權(quán)利要求書】：
1.一種電磁屏蔽膜的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：在透明基底表面制作凹槽結(jié)構(gòu)層，凹槽結(jié)構(gòu)層上分布有網(wǎng)格狀凹槽；將導(dǎo)電銀漿填充在網(wǎng)格狀凹槽內(nèi)固化形成導(dǎo)電網(wǎng)柵；利用氣體與導(dǎo)電網(wǎng)柵表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)形成暗化層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電磁屏蔽膜的制備方法，其特征在于：所述導(dǎo)電網(wǎng)柵的線寬度1～20um，厚度1～20um。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電磁屏蔽膜的制備方法，其特征在于：所述網(wǎng)格狀凹槽通過壓印制得。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電磁屏蔽膜的制備方法，其特征在于：所述氣體為氧氣與硫化氫混合物。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電磁屏蔽膜的制備方法，其特征在于：所述網(wǎng)格狀凹槽的圖形為六邊形、菱形或無規(guī)則形。
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