[發明專利]蒸鍍用金屬掩?；募捌渲圃旆椒?、蒸鍍用金屬掩模及其制造方法有效
| 申請號： | 201811311762.8 | 申請日： | 2016-07-15 |
| 公開（公告）號： | CN109440060B | 公開（公告）日： | 2021-06-29 |
| 發明（設計）人： | 田村純香;新納干大;藤戶大生;西辻清明;西剛廣;三上菜穗子 | 申請（專利權）人： | 凸版印刷株式會社 |
| 主分類號： | C23C14/04 | 分類號： | C23C14/04;C23C14/24;H01L51/56;C25D1/10;C23F1/02 |
| 代理公司： | 永新專利商標代理有限公司 72002 | 代理人： | 戚宏梅 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 蒸鍍用 金屬 基材 及其 制造 方法 | ||
1.一種蒸鍍用金屬掩?；?，其中，
包括含鎳金屬片，該含鎳金屬片具備表面以及與上述表面相反側的面即背面，
構成上述含鎳金屬片的材料為含有30質量％以上的鎳的鐵鎳合金，
上述表面以及上述背面的至少一方為抗蝕劑層所位于的對象面，
上述對象面的表面粗糙度Sa為0.019μm以下，并且，上述對象面的表面粗糙度Sz為0.308μm以下，
從鹵素燈射出的光相對于上述對象面的法線方向以45°±0.2°的入射角度入射到上述對象面的光的鏡面反射的反射率為53.0％以上97.0％以下，
在上述對象面中相互正交的兩個方向分別為上述光所入射的方向，上述兩個方向上的上述反射率之差為3.6％以下。
2.如權利要求1所述的蒸鍍用金屬掩?；模渲?，
上述含鎳金屬片為因瓦合金片。
3.一種蒸鍍用金屬掩模，其中，
包括由含鎳金屬片構成的掩模部，
構成上述含鎳金屬片的材料為含有30質量％以上的鎳的鐵鎳合金，
上述掩模部具備：
表面，包括表面開口；以及
背面，為與上述表面相反側的面，包括與上述表面開口連通的背面開口，
上述表面以及上述背面的至少一方為對象面，
上述對象面的表面粗糙度Sa為0.019μm以下，并且，上述對象面的表面粗糙度Sz為0.308μm以下，
從鹵素燈射出的光相對于上述對象面的法線方向以45°±0.2°的入射角度入射到上述對象面的光的鏡面反射的反射率為53.0％以上97.0％以下，
在上述對象面中相互正交的兩個方向分別為上述光所入射的方向，上述兩個方向上的上述反射率之差為3.6％以下。
4.如權利要求3所述的蒸鍍用金屬掩模，其中，
上述對象面至少包括上述表面，
上述表面開口是用于使蒸鍍粒子從上述表面開口朝向上述背面開口通過的開口，且大于上述背面開口。
5.如權利要求3所述的蒸鍍用金屬掩模，其中，
上述含鎳金屬片為因瓦合金片。
6.一種蒸鍍用金屬掩?；牡闹圃旆椒ǎㄈ缦虏襟E：
通過電解而在電極面上形成含鎳金屬片；以及
從上述電極面分離上述含鎳金屬片，
構成上述含鎳金屬片的材料為含有30質量％以上的鎳的鐵鎳合金，
上述含鎳金屬片具備表面以及與上述表面相反側的面即背面，
上述表面以及上述背面的至少一方是抗蝕劑層所位于的對象面，
上述電解使上述對象面的表面粗糙度Sa為0.019μm以下，并且，使上述對象面的表面粗糙度Sz為0.308μm以下，
從鹵素燈射出的光相對于上述對象面的法線方向以45°±0.2°的入射角度入射到上述對象面的光的鏡面反射的反射率為53.0％以上97.0％以下，
在上述對象面中相互正交的兩個方向分別為上述光所入射的方向，上述兩個方向上的上述反射率之差為3.6％以下。
7.一種蒸鍍用金屬掩模的制造方法，包括如下步驟：
在蒸鍍用金屬掩模基材的對象面上形成抗蝕劑掩模；以及
通過使用了上述抗蝕劑掩模的濕式蝕刻對上述對象面進行蝕刻，
上述蒸鍍用金屬掩模基材為權利要求1或2所述的蒸鍍用金屬掩?；?。
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