[發明專利]一種投影物鏡及曝光系統

有效

• 申請號: 201811311756.2
• 申請日: 2018-11-06
• 公開（公告）號: CN111142337B
• 公開（公告）日: 2021-04-02
• 發明（設計）人: 侯寶路
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備(集團)股份有限公司
• 主分類號: G02B13/00
• 分類號: G02B13/00;G03F7/20;G02B1/00
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 孟金喆

本發明公開了一種投影物鏡及曝光系統。所述投影物鏡包括從物平面開始沿光軸依次設置的具有正光焦度的第一透鏡組、具有負光焦度的第二透鏡組、具有正光焦度的第三透鏡組、孔徑光闌、具有正光焦度的第四透鏡組、具有負光焦度的第五透鏡組以及具有正光焦度的第六透鏡組；第一透鏡組和第六透鏡組基于孔徑光闌對稱，第二透鏡組和第五透鏡組基于孔徑光闌對稱，第三透鏡組和第四透鏡組基于孔徑光闌對稱，且滿足以下關系式：?0.7f1/f2?0.3，?1.1f2/f3?0.6，?1.1f5/f4?0.6，?0.7f6/f5?0.3，其中，f1、f2、f3、f4、f5以及f6分別是第一透鏡組、第二透鏡組、第三透鏡組、第四透鏡組、第五透鏡組以及第六透鏡組的焦距。本發明實施例提供的技術方案，提升了投影物鏡的兼容性，提高了曝光系統的模塊化水平。

技術領域

本發明實施例涉及一種投影物鏡光學系統，尤其涉及一種投影物鏡及曝光系統。

背景技術

光學光刻是一種用光將掩模圖案投影復制的技術，應用光學光刻技術的裝置為曝光系統，借助于投影曝光系統，具有不同掩模圖案的圖形被成像至基底上，如硅片或LCD板，用于制造集成電路、薄膜磁頭、液晶顯示板，或微機電(MEMS)等一系列結構。

曝光系統的光源包括汞燈光源和LED光源，LED光源又分為i線光源和igh三線光源，此外，曝光系統基礎的曝光方式包括步進式和掃描式。其中，汞燈光源和LED光源的光譜寬度不同，i線光源和igh三線光源的波長范圍不同，步進式曝光和掃描式曝光的物方視場尺寸不同，現有技術中的曝光系統通常僅針對某一種光源或曝光方式進行投影物鏡設計，進而使得投影物鏡無法兼容上述三種不同的參數，導致曝光系統的兼容性較差。

發明內容

本發明提供一種投影物鏡及曝光系統，以提升投影物鏡的兼容性。

第一方面，本發明實施例提供了一種投影物鏡，包括從物平面開始沿光軸依次設置的具有正光焦度的第一透鏡組、具有負光焦度的第二透鏡組、具有正光焦度的第三透鏡組、孔徑光闌、具有正光焦度的第四透鏡組、具有負光焦度的第五透鏡組以及具有正光焦度的第六透鏡組；所述第一透鏡組和所述第六透鏡組基于所述孔徑光闌對稱，所述第二透鏡組和所述第五透鏡組基于所述孔徑光闌對稱，所述第三透鏡組和所述第四透鏡組基于所述孔徑光闌對稱；

所述第一透鏡組用于校正場分布相關的球差、像散和場曲，所述第二透鏡組用于匹配補償所述第一透鏡組和所述第三透鏡組產生的像差，所述第三透鏡組用于校正色差、常數項球差和像散，所述第四透鏡組用于補償所述第三透鏡組產生的彗差和畸變，所述第五透鏡組用于補償所述第二透鏡組產生的彗差和畸變，所述第六透鏡組用于補償所述第一透鏡組產生的彗差和畸變；

所述投影物鏡滿足以下關系式：

-0.7f1/f2-0.3

-1.1f2/f3-0.6

-1.1f5/f4-0.6

-0.7f6/f5-0.3

其中，f1是第一透鏡組的焦距，f2是第二透鏡組的焦距，f3是第三透鏡組的焦距，f4是第四透鏡組的焦距，f5是第五透鏡組的焦距，f6是第六透鏡組的焦距。

第二方面，本發明實施例還提供了一種曝光系統，包括上述第一方面所述的投影物鏡。