[發(fā)明專利]一種投影物鏡及曝光系統(tǒng)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201811311756.2
• 申請(qǐng)日: 2018-11-06
• 公開（公告）號(hào): CN111142337B
• 公開（公告）日: 2021-04-02
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 侯寶路
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 上海微電子裝備(集團(tuán))股份有限公司
• 主分類號(hào): G02B13/00
• 分類號(hào): G02B13/00;G03F7/20;G02B1/00
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 孟金喆

1.一種投影物鏡，其特征在于，

包括從物面開始沿光軸依次設(shè)置的具有正光焦度的第一透鏡組、具有負(fù)光焦度的第二透鏡組、具有正光焦度的第三透鏡組、孔徑光闌、具有正光焦度的第四透鏡組、具有負(fù)光焦度的第五透鏡組以及具有正光焦度的第六透鏡組；其中，具有屈光度的透鏡組的組數(shù)為6個(gè)；

所述第一透鏡組和所述第六透鏡組基于所述孔徑光闌對(duì)稱，所述第二透鏡組和所述第五透鏡組基于所述孔徑光闌對(duì)稱，所述第三透鏡組和所述第四透鏡組基于所述孔徑光闌對(duì)稱；

所述第一透鏡組用于校正場分布相關(guān)的球差、像散和場曲，所述第二透鏡組用于匹配補(bǔ)償所述第一透鏡組和所述第三透鏡組產(chǎn)生的像差，所述第三透鏡組用于校正色差、常數(shù)項(xiàng)球差和像散，所述第四透鏡組用于補(bǔ)償所述第三透鏡組產(chǎn)生的彗差和畸變，所述第五透鏡組用于補(bǔ)償所述第二透鏡組產(chǎn)生的彗差和畸變，所述第六透鏡組用于補(bǔ)償所述第一透鏡組產(chǎn)生的彗差和畸變；

所述投影物鏡滿足以下關(guān)系式：

-0.7f1/f2-0.3

-1.1f2/f3-0.6

-1.1f5/f4-0.6

-0.7f6/f5-0.3

其中，f1是第一透鏡組的焦距，f2是第二透鏡組的焦距，f3是第三透鏡組的焦距，f4是第四透鏡組的焦距，f5是第五透鏡組的焦距，f6是第六透鏡組的焦距；

所述第三透鏡組包括沿所述光軸依次設(shè)置的第七透鏡、第八透鏡、第九透鏡和第十透鏡；所述第七透鏡為雙凹透鏡，由低色散材料構(gòu)成；所述第八透鏡為雙凸透鏡，由高色散材料構(gòu)成；所述第九透鏡為彎月透鏡，由低色散材料構(gòu)成；所述第十透鏡為雙凸透鏡，由高色散材料構(gòu)成。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的投影物鏡，其特征在于，所述投影物鏡的適用波長范圍為360-440nm。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的投影物鏡，其特征在于，所述投影物鏡的像方視場的直徑最大值為72mm。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的投影物鏡，其特征在于，所述第一透鏡組包括沿所述光軸依次設(shè)置的第一透鏡、第二透鏡、第三透鏡和第四透鏡；所述第一透鏡為雙凹透鏡，由高色散材料構(gòu)成；所述第二透鏡為彎月透鏡，由低色散材料構(gòu)成；所述第三透鏡為彎月透鏡，由低色散材料構(gòu)成；所述第四透鏡為雙凸透鏡，由高色散材料構(gòu)成；

所述第二透鏡組包括沿所述光軸依次設(shè)置的第五透鏡和第六透鏡；所述第五透鏡為雙凸透鏡，由低色散材料構(gòu)成；所述第六透鏡為雙凹透鏡，由高色散材料構(gòu)成。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的投影物鏡，其特征在于，所述高色散材料選自CAF2、SILICA和SFSL5Y。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的投影物鏡，其特征在于，所述低色散材料選自PBL35Y、PBL6Y和PBL1Y。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的投影物鏡，其特征在于，各所述透鏡組內(nèi)的所有所述透鏡均為球面鏡。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的投影物鏡，其特征在于，所述投影物鏡的放大倍率為-1。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的投影物鏡，其特征在于，所述投影物鏡的共軛距為900mm。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的投影物鏡，其特征在于，所述投影物鏡的物距和像距均大于40mm。

11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的投影物鏡，其特征在于，所述投影物鏡的像方數(shù)值孔徑為0.18。

12.一種曝光系統(tǒng)，其特征在于，包括上述權(quán)利要求1-11任一項(xiàng)所述的投影物鏡。