[發明專利]一種晶片位置校準方法及裝置在審
| 申請號: | 201811309625.0 | 申請日: | 2018-10-31 |
| 公開(公告)號: | CN111128821A | 公開(公告)日: | 2020-05-08 |
| 發明(設計)人: | 武文杰 | 申請(專利權)人: | 北京中科信電子裝備有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/677 | 分類號: | H01L21/677;H01L21/68 |
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| 地址: | 101111 北京市通*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 晶片 位置 校準 方法 裝置 | ||
1.一種晶片位置校準方法及裝置,包括:Finger(1)、Wafer導向板(2)、Wafer(3)和Casset托盤(4)。本發明主要介紹了Wafer位置校準的方法及校準裝置,提高了Wafer位置的準確性,提高了Wafer校準的效率。其主要特征在于通過Finger(1)、Wafer導向板(2)將Wafer(3)快速并準確傳送到Casset托盤(4)。
2.如權利要求1所示一種晶片位置校準方法及裝置,Finger(1)主要包括單爪及五爪Finger,其主要特征在于實現Wafer(3)的定位與傳送。
3.如權利要求1所示一種晶片位置校準方法及裝置,Wafer導向板(2),其主要特征在于實現Wafer(3)在傳送過程中的定位,實現Wafer(3)的精準傳送。
4.如權利要求1所示一種晶片位置校準方法及裝置,Wafer(3)其主要特征在于傳送中的被運載體。
5.如權利要求1所示一種晶片位置校準方法及裝置,Casset托盤(4)其主要特征在于作為Wafer(3)的傳送位置,實現Wafer位置的準確定位。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





