[發(fā)明專利]芯片貼裝的工藝在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201811308607.0 | 申請(qǐng)日: | 2018-11-05 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN109560034A | 公開(kāi)(公告)日: | 2019-04-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 施陳;姜金平 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 紫光宏茂微電子(上海)有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/683 | 分類號(hào): | H01L21/683;H01L21/304;H01L21/52 |
| 代理公司: | 上海市嘉華律師事務(wù)所 31285 | 代理人: | 黃琮;傅云 |
| 地址: | 201700 上海市*** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 保護(hù)膜 芯片 芯片貼裝 去除 背面 研磨 打薄 蘸膠 基板表面 基板設(shè)置 加工工序 加工周期 加熱軌道 芯片背面 晶圓 貼設(shè) 貼裝 預(yù)設(shè) 固化 切割 加工 | ||
本發(fā)明實(shí)施例公開(kāi)了一種芯片貼裝的工藝,包括以下步驟:S1對(duì)晶圓進(jìn)行切割并得到多個(gè)芯片。S2在已得到的多個(gè)芯片的正面貼設(shè)第一保護(hù)膜。S3對(duì)已貼有第一保護(hù)膜的芯片的背面進(jìn)行研磨打薄至預(yù)設(shè)厚度。S4將已研磨打薄后的芯片背面貼上第二保護(hù)膜。S5去除已貼有第二保護(hù)膜的芯片上的第一保護(hù)膜。S6將已去除第一保護(hù)膜的芯片上的第二保護(hù)膜去除。S7使已去除第二保護(hù)膜的芯片的背面蘸膠,膠的固化溫度為60~80℃。S8將已背面蘸膠的芯片的背面貼裝到基板表面,基板設(shè)置在加熱軌道上。S9完成芯片貼裝。本發(fā)明的芯片貼裝的工藝可以減少加工工序、縮短加工周期以及降低產(chǎn)品的加工成本。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明實(shí)施例涉及半導(dǎo)體封裝工序技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種芯片貼裝的工藝。
背景技術(shù)
早期的芯片厚度較厚,通常采用環(huán)氧樹(shù)脂作為芯片與基板或框架之間的粘結(jié)劑。隨著產(chǎn)品工藝的發(fā)展,產(chǎn)品的體積要求越來(lái)越小,厚度越來(lái)越薄,當(dāng)芯片厚度低于150um之后,存在環(huán)氧樹(shù)脂從側(cè)面爬到芯片表面的風(fēng)險(xiǎn)。因此,厚度低于150um芯片貼裝采用DAF膜(Die attach film芯片粘結(jié)薄膜)將芯片和基板或框架粘結(jié)在一起,DAF膜具有雙層膜結(jié)構(gòu),比普通膜的表面多了一層膠膜,當(dāng)芯片被拾取后,這層膠膜會(huì)與普通膜脫離,粘附在芯片背面,在芯片完成貼裝后,通過(guò)加熱使膠膜融化,從而實(shí)現(xiàn)芯片與基板的緊密粘接。傳統(tǒng)厚芯片的工藝流程是先進(jìn)行晶圓背面研磨減薄,再進(jìn)行晶圓切割,但是當(dāng)芯片的厚度低于60um之后,減薄后晶圓的拿取存在破片風(fēng)險(xiǎn)。因此,傳統(tǒng)薄芯片的工藝流程調(diào)整為DBG(dicing before Grinding)工藝,即先進(jìn)行晶圓切割,再進(jìn)行晶圓背面研磨減薄,然后再采用一次激光切割工序。
本申請(qǐng)的發(fā)明人發(fā)現(xiàn),現(xiàn)有技術(shù)中,傳統(tǒng)厚芯片的工藝只能單層作業(yè),一次不能貼裝多塊芯片,傳統(tǒng)薄芯片的DBG工藝需要采用DAF膜和激光切割工序,增加了加工成本,并且延長(zhǎng)了加工周期,導(dǎo)致生產(chǎn)效率低。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種芯片貼裝的工藝,以減少加工工序、縮短加工周期以及降低產(chǎn)品的加工成本。
本發(fā)明實(shí)施例提供一種芯片貼裝的工藝,包括以下步驟:
S1對(duì)晶圓進(jìn)行切割并得到多個(gè)芯片;
S2在已得到的多個(gè)芯片的正面貼設(shè)第一保護(hù)膜;
S3對(duì)已貼有第一保護(hù)膜的芯片的背面進(jìn)行研磨打薄至預(yù)設(shè)厚度;
S4將已研磨打薄后的芯片背面貼上第二保護(hù)膜;
S5去除已貼有第二保護(hù)膜的芯片上的第一保護(hù)膜;
S6將已去除第一保護(hù)膜的芯片上的第二保護(hù)膜去除;
S7使已去除第二保護(hù)膜的芯片的背面蘸膠,所述膠的固化溫度為60~80℃;
S8將已背面蘸膠的芯片的背面貼裝到基板表面,所述基板設(shè)置在加熱軌道上;
S9完成芯片貼裝;
通過(guò)上述芯片貼裝的工藝,減少傳統(tǒng)的激光切割步驟和避免使用價(jià)格昂貴的DAF膜,從而減少加工工序、縮短加工周期以及降低產(chǎn)品的加工成本。
在一種可行的方案中,所述步驟S6具體包括:利用吸嘴吸抓已去除第一保護(hù)膜的芯片正面,使芯片的背面與第二保護(hù)膜脫離;
去除第二保護(hù)膜,從而便于進(jìn)行后續(xù)的芯片背面蘸膠工序。利用吸嘴吸抓芯片的方式,可以保證不損害芯片的表面,且能順利完成芯片的運(yùn)輸。
在一種可行的方案中,所述步驟S7具體包括:將吸抓的芯片移動(dòng)至蘸膠工位,所述蘸膠工位上設(shè)有盛膠容器,所述盛膠容器包括:板形主體,所述板形主體的上側(cè)設(shè)有盛膠槽,所述盛膠槽用于存放所述膠,將吸抓的芯片移動(dòng)至所述盛膠槽的底部,完成芯片的背面蘸膠;
使芯片背面充分蘸膠,以便后續(xù)的貼裝工序。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門(mén)適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門(mén)適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門(mén)適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門(mén)適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





