[發明專利]一種蒸鍍設備及蒸鍍方法

有效

• 申請號: 201811296070.0
• 申請日: 2018-11-01
• 公開（公告）號: CN109112489B
• 公開（公告）日: 2021-01-15
• 發明（設計）人: 金明洙
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;綿陽京東方光電科技有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C14/04;H01L51/56
• 代理公司: 北京潤澤恒知識產權代理有限公司 11319
• 代理人: 莎日娜

1.一種蒸鍍設備，其特征在于，所述蒸鍍設備包括：蒸鍍腔室，以及位于所述蒸鍍腔室內部的供應裝置、加熱裝置、壓合裝置和蒸鍍裝置，

所述供應裝置，用于提供掩膜板和基板；

所述加熱裝置，用于對所述掩膜板進行加熱，以使所述掩膜板膨脹；

所述壓合裝置，用于將膨脹的掩膜板與所述基板進行壓合；

所述蒸鍍裝置，用于對完成壓合后的基板進行蒸鍍；

所述蒸鍍設備還包括位于所述蒸鍍腔室內部的蒸鍍源，所述供應裝置包括：

掩膜板支撐部，用于支撐所述掩膜板；

掩膜板運動部，與所述掩膜板支撐部連接，位于所述掩膜板支撐部背離所述掩膜板的一側，用于移動所述掩膜板支撐部；

基板支撐部，位于所述掩膜板支撐部背離所述蒸鍍源的一側，用于支撐所述基板；

所述掩膜板支撐部分別與所述掩膜板運動部以及所述掩膜板電連接，所述加熱裝置包括：

通電單元，與所述掩膜板運動部電連接，用于通過所述掩膜板運動部和所述掩膜板支撐部，在所述掩膜板上通電，對所述掩膜板進行加熱。

2.根據權利要求1所述的蒸鍍設備，其特征在于，所述壓合裝置包括：

移動單元，用于驅動所述基板支撐部帶動所述基板朝向膨脹的掩膜板移動，使膨脹的掩膜板與所述基板之間對位貼合。

3.根據權利要求1至2任一項所述的蒸鍍設備，其特征在于，所述蒸鍍設備還包括：

冷卻裝置，設置在所述蒸鍍腔室內部，用于對膨脹的掩膜板進行冷卻。

4.一種蒸鍍方法，其特征在于，應用于權利要求1至3任一項所述的蒸鍍設備，所述蒸鍍方法包括：

提供掩膜板和基板；

對所述掩膜板進行加熱，以使所述掩膜板膨脹；

將膨脹的掩膜板與所述基板進行壓合；

對完成壓合后的基板進行蒸鍍；

所述對所述掩膜板進行加熱的步驟，包括：

通過在所述掩膜板上通電，對所述掩膜板進行加熱。

5.根據權利要求4所述的蒸鍍方法，其特征在于，所述提供掩膜板和基板的步驟，包括：

將所述掩膜板放置到所述掩膜板支撐部上，將所述基板放置到所述基板支撐部上，其中，所述基板位于所述掩膜板背離所述掩膜板支撐部的一側。

6.根據權利要求4所述的蒸鍍方法，其特征在于，所述將膨脹的掩膜板與所述基板進行壓合的步驟，包括：

控制所述基板朝向膨脹的掩膜板移動，使膨脹的掩膜板與所述基板之間對位貼合。

7.根據權利要求4至6任一項所述的蒸鍍方法，其特征在于，在所述將膨脹的掩膜板與所述基板進行壓合的步驟之后，在所述對完成壓合后的基板進行蒸鍍的步驟之前，所述蒸鍍方法還包括：

對膨脹的掩膜板進行冷卻。