[發(fā)明專利]低熔點(diǎn)金屬墨道及灌墨系統(tǒng)及打印系統(tǒng)

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201811289329.9
• 申請(qǐng)日: 2018-10-31
• 公開（公告）號(hào): CN111112622A
• 公開（公告）日: 2020-05-08
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張玉星
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 北京夢(mèng)之墨科技有限公司
• 主分類號(hào): B22F3/115
• 分類號(hào): B22F3/115;B33Y10/00;B33Y30/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種低熔點(diǎn)金屬墨道，其特征在于，包括：輸送熔融態(tài)的低熔點(diǎn)金屬的管路；設(shè)置在所述管路中、與管路連通的至少一個(gè)腔室；所述至少一個(gè)腔室中至少存在一個(gè)清洗室，用于去除所述低熔點(diǎn)金屬中的氧元素。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低熔點(diǎn)金屬墨道，其特征在于，所述清洗室通過第一進(jìn)料口和第一出料口與管路連通，其第一進(jìn)料口位于所述清洗室的頂部，其第一出料口位于所述清洗室的底部；

所述清洗室中容納有浮于所述低熔點(diǎn)金屬表面上的過濾液，所述過濾液與所述低熔點(diǎn)金屬中夾帶的金屬氧化物產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的低熔點(diǎn)金屬墨道，其特征在于，所述第一出料口向所述清洗室的內(nèi)部延伸出一定高度，避免粘附于清洗室內(nèi)壁上的過濾液通過第一出料口進(jìn)入管路。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的低熔點(diǎn)金屬墨道，其特征在于，所述清洗室的底部還開設(shè)有第二出料口，與所述清洗室的底面齊平，與廢液池連通。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低熔點(diǎn)金屬墨道，其特征在于，所述至少一個(gè)腔室中還包括位于所述管路的起始段的熔煉室；

所述熔煉室由連續(xù)的熔煉腔體和散熱腔體構(gòu)成，并且所述熔煉腔體和散熱腔體之間通過隔熱擋板實(shí)現(xiàn)連通或關(guān)斷；

所述低熔點(diǎn)金屬在具有第一溫度的所述熔煉腔體內(nèi)形成，通過流經(jīng)所述散熱腔體，經(jīng)過所述散熱腔體的熱傳遞作用降低至第二溫度，再進(jìn)入所述管路。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的低熔點(diǎn)金屬墨道，其特征在于，所述至少一個(gè)腔室中還包括位于所述清洗室之后的管路上的儲(chǔ)液室，用于存儲(chǔ)經(jīng)過所述清洗室提純后的所述低熔點(diǎn)金屬。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的低熔點(diǎn)金屬墨道，其特征在于，

所述熔煉室與所述清洗室之間的管路上設(shè)置有第一流量控制組件，用于控制低熔點(diǎn)金屬通過管路從所述熔煉室向所述清洗室轉(zhuǎn)移；

所述清洗室與所述儲(chǔ)液室之間的管路上設(shè)置有第二流量控制組件，用于控制低熔點(diǎn)金屬通過管路從所述清洗室向所述儲(chǔ)液室轉(zhuǎn)移；

所述儲(chǔ)液室與所述管路的末尾段之間的管路上設(shè)置有第三流量控制組件，用于控制低熔點(diǎn)金屬通過管路從所述儲(chǔ)液室向所述管路的末尾段轉(zhuǎn)移。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低熔點(diǎn)金屬墨道，其特征在于，所述管路中連通有真空泵和惰性氣壓平衡組件；

所述真空泵用于抽離所述管路中的空氣，所述惰性氣壓平衡組件用于向管路中灌注惰性氣體平衡氣壓。

9.一種低熔點(diǎn)金屬灌墨系統(tǒng)，其特征在于，包括如權(quán)利要求1-8任一項(xiàng)所述的低熔點(diǎn)金屬墨道；

還包括：與所述低熔點(diǎn)金屬墨道的末尾段連通的灌墨管；以及，位于所述灌墨管下方的傳送帶，用于帶動(dòng)墨盒移動(dòng)至所述灌墨管的正下方；

其中，所述灌墨管與所述管路之間通過軟管連接，并在豎直移動(dòng)機(jī)構(gòu)的驅(qū)動(dòng)下伸入所述墨盒的底部或脫離所述墨盒。

10.一種低熔點(diǎn)金屬打印系統(tǒng)，其特征在于，包括如權(quán)利要求1-8任一項(xiàng)所述的低熔點(diǎn)金屬墨道，作為所述低熔點(diǎn)金屬打印系統(tǒng)的供墨系統(tǒng)，其末尾段連通打印系統(tǒng)的打印頭。