[發明專利]含銀薄膜蝕刻液組合物、用其制造的用于顯示裝置的陣列基板及其制造方法

有效

• 申請號: 201811267385.2
• 申請日: 2018-10-29
• 公開（公告）號: CN110359050B
• 公開（公告）日: 2021-08-10
• 發明（設計）人: 張晌勛;權五柄;崔亨燮
• 申請（專利權）人: 東友精細化工有限公司
• 主分類號: C23F1/30
• 分類號: C23F1/30;H01L27/12
• 代理公司: 北京市中倫律師事務所 11410
• 代理人: 楊黎峰;鐘錦舜

本發明提供一種含銀薄膜蝕刻液組合物、利用它制造的用于顯示裝置的陣列基板及其制造方法，相對于組合物的總重量，該含銀薄膜蝕刻液組合物包含40.0至60.0重量％的磷酸、5.0至9.0重量％的硝酸、0.1至4.0重量％的硝酸鐵、0.5至5.0重量％的無機酸鹽及余量的水。

技術領域

本發明涉及一種含銀薄膜蝕刻液組合物、利用它制造的用于顯示裝置的陣列基板及其制造方法。

背景技術

隨著步入真正的信息化時代，用于處理及顯示大量信息的顯示器領域急速發展，與此相應地開發了多種平板顯示器并受到關注。作為這種平板顯示裝置的示例，可列舉液晶顯示器裝置(Liquid crystal display device：LCD)、等離子體顯示裝置(PlasmaDisplay Panel device：PDP)、場致發射顯示裝置(Field Emission Display device：FED)、有機發光元件(Organic Light Emitting Diodes：OLED)等。

作為一示例，由于OLED元件自身發出光且在低電壓下也能夠被驅動，因此OLED目前不僅在便攜設備等小型顯示裝置市場中迅速應用，而且隨著顯示裝置的大屏幕化趨勢，在大型TV等中得到商用化。隨著實現顯示裝置的大屏幕化，布線等被加長而導致布線電阻增加，因此需要能夠降低電阻以實現顯示裝置的大型化及高分辨率的方法。

為了解決因電阻增加而導致的信號延遲等問題，有必要利用具有最低比電阻的材料來形成上述布線。作為這種努力的一環節，正在致力于通過將與其他金屬相比具有較低的比電阻、較高的亮度和導電率的銀(Ag：比電阻為約1.59μΩcm)膜、銀合金膜或包含銀膜或銀合金膜的多層膜應用到濾色器的電極、布線及反射膜等中來實現平板顯示裝置的大型化、高分辨率及低電耗等，因此需要用于應用到這種材料的蝕刻液。

在利用含銀(Ag)薄膜的情況下，雖然在低分辨率顯示裝置中銀再吸附現象不會造成問題，但在高分辨率顯示裝置技術中銀再吸附現象顯著造成問題。與此相關聯地，以往開發了利用包含磷酸、醋酸或硝酸的蝕刻液組合物(韓國授權專利公報第10-0579421號)等來對含銀薄膜進行蝕刻的方法，但在包含醋酸的情況下因醋酸的強揮發性而存在經時穩定性下降的問題，并且發生直進性控制效果降低的問題等。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：韓國授權專利公報第10-0579421號

發明內容

技術問題

本發明是為了解決上述現有技術的問題而提出的，其目的是提供一種含銀薄膜蝕刻液組合物，該蝕刻液組合物在蝕刻含銀金屬膜時改善經時穩定性問題，并且由于幾乎不存在銀殘渣及銀再吸附現象而呈現出優異的效果，而且具有優異的直進性。

此外，本發明的目的是提供一種使用所述蝕刻液組合物制造的用于顯示裝置的陣列基板及其制造方法。

技術手段

本發明提供一種含銀薄膜蝕刻液組合物，該蝕刻液組合物相對于組合物的總重量，包含40.0至60.0重量％的磷酸、5.0至9.0重量％的硝酸、0.1至4.0重量％的硝酸鐵、0.5至5.0重量％的無機酸鹽及余量的水。

此外，本發明提供一種制造用于顯示裝置的陣列基板的方法，包括：

a)步驟：在基板上形成柵極布線；

b)步驟：在包含所述柵極布線的基板上形成柵極絕緣層；

c)步驟：在所述柵極絕緣層上形成氧化物半導體層；

d)步驟：在所述氧化物半導體層上形成源極電極和漏極電極；以及