[發明專利]含銀薄膜蝕刻液組合物、用其制造的用于顯示裝置的陣列基板及其制造方法

有效

• 申請號: 201811267385.2
• 申請日: 2018-10-29
• 公開（公告）號: CN110359050B
• 公開（公告）日: 2021-08-10
• 發明（設計）人: 張晌勛;權五柄;崔亨燮
• 申請（專利權）人: 東友精細化工有限公司
• 主分類號: C23F1/30
• 分類號: C23F1/30;H01L27/12
• 代理公司: 北京市中倫律師事務所 11410
• 代理人: 楊黎峰;鐘錦舜

1.一種含銀薄膜蝕刻液組合物，相對于組合物的總重量，包含40.0重量%至60.0重量%的磷酸、5.0重量%至9.0重量%的硝酸、0.1重量%至4.0重量%的硝酸鐵、0.5重量%至5.0重量%的無機酸鹽及余量的水，其中所述含銀薄膜蝕刻液組合物不包含醋酸，

其中，所述無機酸鹽為選自由硝酸、硫酸或磷酸的鉀鹽、鈉鹽及銨鹽組成的組中的一種以上。

2.根據權利要求1所述的含銀薄膜蝕刻液組合物，其特征在于，

所述含銀薄膜包括銀或銀合金的單層膜、或者由所述單層膜和透明傳導膜構成的多層膜。

3.根據權利要求2所述的含銀薄膜蝕刻液組合物，其特征在于，

所述透明傳導膜為選自由氧化銦錫、氧化銦鋅、氧化銦錫鋅和氧化銦鎵鋅組成的組中的一種以上。

4.根據權利要求2所述的含銀薄膜蝕刻液組合物，其特征在于，

所述銀合金包含銀、以及選自由鎳、銅、鋅、錳、鉻、錫、鈀、釹、鈮、鉬、鎂、鎢、鏷、鋁及鈦組成的組中的一種以上。

5.根據權利要求2所述的含銀薄膜蝕刻液組合物，其特征在于，

由所述單層膜和透明傳導膜構成的多層膜為透明傳導膜/銀、透明傳導膜/銀合金、透明傳導膜/銀/透明傳導膜、或透明傳導膜/銀合金/透明傳導膜。

6.一種制造用于顯示裝置的陣列基板的方法，包括：

a）步驟：在基板上形成柵極布線；

b）步驟：在包括所述柵極布線的基板上形成柵極絕緣層；

c）步驟：在所述柵極絕緣層上形成氧化物半導體層；

d）步驟：在所述氧化物半導體層上形成源極電極和漏極電極；以及

e）步驟：形成與所述漏極電極連接的像素電極或反射膜，

其特征在于，所述e）步驟包括以下步驟：在基板上形成含銀薄膜，并且利用權利要求1所述的含銀薄膜蝕刻液組合物進行蝕刻而形成像素電極或反射膜。

7.根據權利要求6所述的制造用于顯示裝置的陣列基板的方法，其特征在于，

所述用于顯示裝置的陣列基板用于液晶顯示裝置或用于有機發光元件。

8.一種用于顯示裝置的陣列基板，所述陣列基板使用權利要求1至5中的任一項所述的蝕刻液組合物來進行蝕刻而成。