[發(fā)明專利]光掩模及其制作方法和制作顯示器件的方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201811260306.5
• 申請日: 2018-10-26
• 公開（公告）號: CN109407461B
• 公開（公告）日: 2022-04-12
• 發(fā)明（設計）人: 謝昌翰;舒適
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: G03F1/38
• 分類號: G03F1/38;G09F9/30
• 代理公司: 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙) 11201
• 代理人: 趙天月

1.一種光掩模，其特征在于，包括：

基板；

圖案化遮光層，所述圖案化遮光層設置在所述基板的表面上；

平坦化層，所述平坦化層與所述圖案化遮光層位于所述基板的同一表面上，且覆蓋所述圖案化遮光層；以及

準直結構，所述準直結構設置在所述平坦化層遠離所述基板的表面上；

所述準直結構包括光子晶體層。

2.根據(jù)權利要求1所述的光掩模，其特征在于，形成所述光子晶體層的材料包括壓印膠或無機材料。

3.根據(jù)權利要求1所述的光掩模，其特征在于，所述光子晶體層滿足以下條件的至少之一：

厚度為30nm～1mm；

光子晶體單元之間的間隔為10nm～5μm。

4.一種制作權利要求1～3中任一項所述的光掩模的方法，其特征在于，包括：

在基板的表面上形成圖案化遮光層；

在所述基板與所述圖案化遮光層同一側的表面上形成平坦化層；

在所述平坦化層遠離所述基板的表面上形成準直結構，以便得到所述光掩模；其中，所述準直結構為光子晶體層。

5.根據(jù)權利要求4所述的方法，其特征在于，形成所述光子晶體層的步驟包括：

在所述平坦化層遠離所述基板的表面上形成第一壓印膠層；

對所述第一壓印膠層進行第一納米壓印處理，以便得到所述光子晶體層。

6.根據(jù)權利要求5所述的方法，其特征在于，在形成所述第一壓印膠層之后，進行所述第一納米壓印處理之前，進一步包括：

將所述第一壓印膠層進行第一預固化處理。

7.根據(jù)權利要求4所述的方法，其特征在于，形成所述光子晶體層的步驟包括：

在所述平坦化層遠離所述基板的表面上形成無機材料層；

在所述無機材料層遠離所述平坦化層的表面上形成第二壓印膠層；

將所述第二壓印膠層進行第二納米壓印處理，得到刻蝕保護層；

以所述刻蝕保護層為掩膜版，對所述無機材料層進行刻蝕處理，以便得到所述光子晶體層；

去除所述刻蝕保護層。

8.根據(jù)權利要求7所述的方法，其特征在于，在形成所述第二壓印膠層之后，進行所述第二納米壓印處理之前，進一步包括：

將所述第二壓印膠層進行第二預固化處理。

9.一種制作顯示器件的方法，其特征在于，所述顯示器件中的聚合物墻是利用權利要求1～3中任一項所述的光掩模制作形成的。