[發(fā)明專利]確定光刻光源的方法、裝置及模型訓(xùn)練方法、裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201811259558.6
• 申請日: 2018-10-26
• 公開（公告）號(hào): CN109143796B
• 公開（公告）日: 2021-02-12
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 馬樂;韋亞一;張利斌
• 申請（專利權(quán)）人: 中國科學(xué)院微電子研究所
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20
• 代理公司: 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 趙秀芹;王寶筠

本申請公開了一種確定光刻光源的方法、裝置及模型訓(xùn)練方法、裝置，該方法中，首先將待光刻版圖按照特定尺寸進(jìn)行切分，形成多個(gè)版圖塊，然后利用訓(xùn)練好的卷積神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)模型對各個(gè)版圖塊進(jìn)行處理，分別得到各個(gè)版圖塊的對應(yīng)光源；最后，根據(jù)所述各個(gè)版圖塊的對應(yīng)光源確定所述待光刻版圖的光刻光源。因此，在本申請?zhí)峁┑姆椒ㄖ校瑹o需每次采用仿真軟件計(jì)算版圖中各個(gè)代表圖形的光刻工藝窗口，而是利用卷積神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)模型即可確定出待光刻版圖的光刻光源。該方法在確定待光刻版圖的光刻光源過程中，提高了確定光刻光源的效率。

技術(shù)領(lǐng)域

本申請涉及半導(dǎo)體光刻技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種確定光刻光源的方法、裝置及模型訓(xùn)練方法、裝置。

背景技術(shù)

半導(dǎo)體光刻工藝中，為了確保光刻工藝窗口較大，需要根據(jù)版圖來選擇合適的光源。

目前，已有的確定光刻工藝的最佳光源的方法通常采用仿真軟件對版圖中代表性圖形的工藝窗口進(jìn)行計(jì)算，然后根據(jù)工藝窗口的計(jì)算結(jié)果確定出版圖的光刻光源。然而，整個(gè)版圖中所包含的圖形數(shù)量巨大，仿真軟件對版圖中代表性圖形進(jìn)行工藝窗口計(jì)算的計(jì)算量巨大，該計(jì)算過程需要消耗太多的計(jì)算時(shí)間，從而導(dǎo)致確定光刻光源的效率較低。

發(fā)明內(nèi)容

有鑒于此，本申請?zhí)峁┝艘环N確定光刻光源的方法和裝置，以提高確定光刻光源的效率。

為了解決上述技術(shù)問題，本申請采用了如下技術(shù)方案：

一種確定光刻光源的方法，包括：

獲取待光刻版圖；

將所述待光刻版圖按照特定尺寸進(jìn)行切分，形成M個(gè)版圖塊；所述特定尺寸為卷積神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)模型訓(xùn)練時(shí)用到的版圖尺寸；

根據(jù)訓(xùn)練好的卷積神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)模型對m個(gè)所述版圖塊進(jìn)行處理，分別得到各個(gè)版圖塊的對應(yīng)光源；

根據(jù)所述各個(gè)版圖塊的對應(yīng)光源確定所述待光刻版圖的光刻光源；

其中，2≤m≤M，且m與M均為整數(shù)。

可選地，根據(jù)所述各個(gè)版圖塊的對應(yīng)光源確定所述待光刻版圖的光刻光源，具體包括：

確定所述各個(gè)版圖塊的對應(yīng)光源中的相同光源，并確定各種相同光源中的光源數(shù)量，將光源數(shù)量最多的相同光源作為所述待光刻版圖的光刻光源。

可選地，所述方法還包括：

訓(xùn)練卷積神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)模型，

所述訓(xùn)練卷積神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)模型，具體包括：

構(gòu)建卷積神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)模型；

獲取所述卷積神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)模型的訓(xùn)練集，所述訓(xùn)練集包括特定尺寸版圖及其對應(yīng)光源；

學(xué)習(xí)所述特定尺寸版圖及其對應(yīng)光源之間的映射關(guān)系；

根據(jù)所述映射關(guān)系確定所述卷積神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)模型的模型參數(shù)。

可選地，所述獲取所述卷積神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)模型的訓(xùn)練集，包括：

對特定尺寸版圖進(jìn)行仿真計(jì)算，得到所述特定尺寸版圖對應(yīng)的光刻工藝窗口；

根據(jù)所述光刻工藝窗口確定所述特定尺寸版圖的初始對應(yīng)光源；

根據(jù)預(yù)設(shè)離散化光源對所述特定尺寸版圖的初始對應(yīng)光源進(jìn)行歸類，以得到所述特定尺寸版圖的最終對應(yīng)光源；

其中，所述特定尺寸版圖和所述特定尺版圖的最終對應(yīng)光源為所述卷積神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)模型的訓(xùn)練集。

可選地，所述方法還包括：

對預(yù)知類型的光刻光源進(jìn)行參數(shù)離散化，以得到多個(gè)所述預(yù)設(shè)離散化光源。