[發(fā)明專(zhuān)利]確定光刻光源的方法、裝置及模型訓(xùn)練方法、裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201811259558.6
• 申請(qǐng)日: 2018-10-26
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN109143796B
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-02-12
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 馬樂(lè);韋亞一;張利斌
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 中國(guó)科學(xué)院微電子研究所
• 主分類(lèi)號(hào): G03F7/20
• 分類(lèi)號(hào): G03F7/20
• 代理公司: 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 趙秀芹;王寶筠

1.一種確定光刻光源的方法，其特征在于，包括：

獲取待光刻版圖；

將所述待光刻版圖按照特定尺寸進(jìn)行切分，形成M個(gè)版圖塊；所述特定尺寸為卷積神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)模型訓(xùn)練時(shí)用到的版圖尺寸；

根據(jù)訓(xùn)練好的卷積神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)模型對(duì)m個(gè)所述版圖塊進(jìn)行處理，分別得到各個(gè)版圖塊的對(duì)應(yīng)光源；

根據(jù)所述各個(gè)版圖塊的對(duì)應(yīng)光源確定所述待光刻版圖的光刻光源；

其中，2≤m≤M，且m與M均為整數(shù)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，根據(jù)所述各個(gè)版圖塊的對(duì)應(yīng)光源確定所述待光刻版圖的光刻光源，具體包括：

確定所述各個(gè)版圖塊的對(duì)應(yīng)光源中的相同光源，并確定各種相同光源中的光源數(shù)量，將光源數(shù)量最多的相同光源作為所述待光刻版圖的光刻光源。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法還包括：

訓(xùn)練卷積神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)模型；

所述訓(xùn)練卷積神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)模型，具體包括：

構(gòu)建卷積神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)模型；

獲取所述卷積神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)模型的訓(xùn)練集，所述訓(xùn)練集包括特定尺寸版圖及其對(duì)應(yīng)光源；

學(xué)習(xí)所述特定尺寸版圖及其對(duì)應(yīng)光源之間的映射關(guān)系；

根據(jù)所述映射關(guān)系確定所述卷積神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)模型的模型參數(shù)。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，所述獲取所述卷積神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)模型的訓(xùn)練集，包括：

對(duì)特定尺寸版圖進(jìn)行仿真計(jì)算，得到所述特定尺寸版圖對(duì)應(yīng)的光刻工藝窗口；

根據(jù)所述光刻工藝窗口確定所述特定尺寸版圖的初始對(duì)應(yīng)光源；

根據(jù)預(yù)設(shè)離散化光源對(duì)所述特定尺寸版圖的初始對(duì)應(yīng)光源進(jìn)行歸類(lèi)，以得到所述特定尺寸版圖的最終對(duì)應(yīng)光源；

其中，所述特定尺寸版圖和所述特定尺寸版圖的最終對(duì)應(yīng)光源為所述卷積神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)模型的訓(xùn)練集。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于，所述方法還包括：

對(duì)預(yù)知類(lèi)型的光刻光源進(jìn)行參數(shù)離散化，以得到多個(gè)所述預(yù)設(shè)離散化光源。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法，其特征在于，當(dāng)所述預(yù)知類(lèi)型的光刻光源為環(huán)形光源時(shí)，所述對(duì)預(yù)知類(lèi)型的光刻光源進(jìn)行參數(shù)離散化，以得到多個(gè)所述預(yù)設(shè)離散化光源，具體包括：

將所述環(huán)形光源的外角半徑和內(nèi)角半徑分別離散化，離散化后的外角半徑和內(nèi)角半徑組合成多個(gè)所述預(yù)設(shè)離散化光源。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，將所述環(huán)形光源的外角半徑和內(nèi)角半徑分別離散化，離散化后的外角半徑和內(nèi)角半徑組合成多個(gè)所述預(yù)設(shè)離散化光源，具體包括：

設(shè)定所述環(huán)形光源的外角半徑σ_out的范圍為[a,b]，步長(zhǎng)為第一步長(zhǎng)s1，則根據(jù)以下公式(1)將所述外角半徑σ_out離散化地劃分為N個(gè)外角半徑，記為[k₁，k₂…k_i…k_N-1，k_N，1≤i≤N]；

設(shè)定離散化后的外角半徑k_i所對(duì)應(yīng)的內(nèi)角半徑σ_in的范圍為[x_i,y_i]，步長(zhǎng)為第二步長(zhǎng)s2，則根據(jù)以下公式(2)將所述內(nèi)角半徑σ_in離散化地劃分為n_i個(gè)內(nèi)角半徑；

離散化后的外角半徑和內(nèi)角半徑組合成個(gè)所述預(yù)設(shè)離散化光源；

其中，公式(1)為：

公式(2)如下：

表示向上取整。

8.一種確定光刻光源的裝置，其特征在于，包括：

第一獲取單元，用于獲取待光刻版圖；

切分單元，用于將所述待光刻版圖按照特定尺寸進(jìn)行切分，形成M個(gè)版圖塊；所述特定尺寸為卷積神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)模型訓(xùn)練時(shí)用到的版圖尺寸；

處理單元，用于根據(jù)訓(xùn)練好的卷積神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)模型對(duì)m個(gè)所述版圖塊進(jìn)行處理，分別得到各個(gè)版圖塊的對(duì)應(yīng)光源；

第一確定單元，用于根據(jù)所述各個(gè)版圖塊的對(duì)應(yīng)的光源確定所述待光刻版圖的光刻光源；

其中，2≤m≤M，且m與M均為整數(shù)。