[發明專利]一種煉油裝置用高溫緩蝕阻垢劑

在審

• 申請號: 201811259035.1
• 申請日: 2018-10-26
• 公開（公告）號: CN109233904A
• 公開（公告）日: 2019-01-18
• 發明（設計）人: 李有金;林向陽;程文武;付鑫;楊闖;孔凡龍
• 申請（專利權）人: 浙江杭化科技股份有限公司
• 主分類號: C10G75/02
• 分類號: C10G75/02
• 代理公司: 杭州豐禾專利事務所有限公司 33214
• 代理人: 王靜

1.一種煉油裝置用高溫緩蝕阻垢劑，其特征在于：所述高溫緩蝕阻垢劑按如下方法制備：

步驟1)：將有機胺類化合物溶于芳烴類溶劑中，攪拌條件下緩慢加入水楊酸類化合物和噻唑類化合物，待全部加入后，升溫至70～150℃反應1～3小時，產物冷卻后備用；

其中：所述的有機胺類化合物的重量百分比為18-28％，所述的水楊酸類化合物的重量百分比為2-12％；所述的噻唑類化合物的重量百分比為5-15％，所述的芳烴類溶劑的重量百分比為75～45％；

所述有機胺類化合物選自二丁基胺、正辛基伯胺、異辛基伯胺、十二烷基伯胺、椰油烷基伯胺、十二烷基二甲基叔胺、十四烷基二甲基叔胺、雙十八烷基甲基叔胺、三辛烷基叔胺，三癸烷基叔胺、三-十二烷基叔胺、三-十六烷基叔胺中的一種或兩種以上混合物；

所述的水楊酸類化合物選自水楊酸、水楊酸鈉、乙酰水楊酸、氨基水楊酸、羥基水楊酸中的一種或兩種以上混合物；

所述的噻唑類化合物選自苯并噻唑、甲基苯并噻唑、乙基苯并噻唑、環己基苯并噻唑、苯基苯并噻唑、巰基苯并噻唑、硫醇基苯并噻唑、羥基苯并噻唑、氨基苯并噻唑中的一種或兩種以上的混合物，

所述的芳烴類溶劑選自苯、甲苯、二甲苯和/或重芳烴類溶劑油；

步驟2)：在芳烴類溶劑中加入步驟1)的產物、聚醚類化合物、磷酸酯類化合物、乙二胺四乙酸類化合物，攪拌均勻；

其中：所述的步驟1)的產物重量百分比為25～55％；所述的聚醚類化合物的重量百分比為8～18％；所述的磷酸酯類化合物的重量百分比為5～15％；所述的乙二胺四乙酸類化合物的重量百分比為1～6％；余下為芳烴類溶劑；

所述的聚醚類化合物選自十二醇聚氧乙烯醚、十二醇聚氧丙烯醚、十二醇聚氧乙烯聚氧丙烯醚、十四醇聚氧乙烯醚、十四醇聚氧丙烯醚、十四醇聚氧乙烯聚氧丙烯醚、十六醇聚氧乙烯醚、十六醇聚氧丙烯醚、十六醇聚氧乙烯聚氧丙烯醚、十八醇聚氧乙烯醚、十八醇聚氧丙烯醚、十八醇聚氧乙烯聚氧丙烯醚、十二-十四醇聚氧乙烯醚、十二-十四醇聚氧丙烯醚、十二-十四醇聚氧乙烯聚氧丙烯醚、十六-十八醇聚氧乙烯醚、十六-十八醇聚氧丙烯醚、十六-十八醇聚氧乙烯聚氧丙烯醚中的一種或兩種以上混合物；

所述的磷酸酯類化合物選自亞磷酸一苯二異辛酯、亞磷酸二苯一異辛酯、亞磷酸三苯酯、亞磷酸三辛酯、磷酸乙酯、磷酸三丁酯、磷酸三異辛酯、磷酸三苯酯、亞磷酸三苯酯、亞磷酸三辛酯中的一種或兩種以上的混合物；

所述的乙二胺四乙酸類化合物選自乙二胺四乙酸、乙二胺四乙酸二鈉、乙二胺四乙酸二鉀、乙二胺四乙酸三鈉、二胺四乙酸三鉀、乙二胺四乙酸四鈉、乙二胺四乙酸四鉀中的一種或兩種以上的混合物；

所述芳烴類溶劑選自苯、甲苯、二甲苯和/或重芳烴類溶劑油。

2.根據權利要求1所述的煉油裝置用高溫緩蝕阻垢劑，其特征在于：所述步驟1)中的有機胺類化合物選自異辛基伯胺、十二烷基伯胺、十二烷基二甲基叔胺、十四烷基二甲基叔胺中的一種或兩種以上混合物。

3.根據權利要求1所述的煉油裝置用高溫緩蝕阻垢劑，其特征在于：所述步驟1)中的水楊酸類化合物選自水楊酸、乙酰水楊酸、羥基水楊酸中的一種或兩種以上混合物。

4.根據權利要求1所述的煉油裝置用高溫緩蝕阻垢劑，其特征在于：所述步驟1)中的噻唑類化合物選自苯基苯并噻唑、巰基苯并噻唑、硫醇基苯并噻唑、羥基苯并噻唑、氨基苯并噻唑中的一種或兩種以上的混合物。

5.根據權利要求1所述的煉油裝置用高溫緩蝕阻垢劑，其特征在于：所述步驟1)和步驟2)中的芳烴類溶劑各自獨立地為二甲苯和/或重芳烴類溶劑油。

6.根據權利要求1所述的煉油裝置用高溫緩蝕阻垢劑，其特征在于：所述步驟2)中的聚醚類化合物選自十二醇聚氧乙烯聚氧丙烯醚、十四醇聚氧乙烯聚氧丙烯醚、十二-十四醇聚氧乙烯聚氧丙烯醚、十六-十八醇聚氧乙烯聚氧丙烯醚中的一種或兩種以上混合物。

7.根據權利要求1所述的煉油裝置用高溫緩蝕阻垢劑，其特征在于：所述步驟2)中的磷酸酯類化合物選自優選為亞磷酸二苯一異辛酯、亞磷酸三苯酯和/或磷酸三苯酯中的一種或兩種以上混合物。