[發明專利]超精細圖案沉積設備、使用其的超精細圖案沉積法及由該沉積法制造的發光顯示裝置

有效

• 申請號: 201811257713.0
• 申請日: 2018-10-26
• 公開（公告）號: CN109722636B
• 公開（公告）日: 2021-04-09
• 發明（設計）人: 方炯錫;樸漢善;林亨俊
• 申請（專利權）人: 樂金顯示有限公司
• 主分類號: C23C14/28
• 分類號: C23C14/28;C23C14/12;C23C14/04;H01L51/00;H01L51/56
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 蔡勝有;冷永華

1.一種超精細圖案沉積設備，包括：

基底基板；

光熱轉換器，所述光熱轉換器容置在所述基底基板中并將光能轉換為熱能；

光反射器，所述光反射器包括具有側向凹入的下部和從所述下部突出的上部的開口，以基于所述光反射器與所述基底基板之間的折射率差而反射輸入到所述光反射器的外部光；以及

涂層，所述涂層設置成覆蓋所述光反射器的上部和側部以阻止源施加至所述光反射器，

所述光反射器還包括用于補充其反射功能的反射金屬層，所述反射金屬層埋置在所述基底基板的凹部中。

2.根據權利要求1所述的超精細圖案沉積設備，其中所述光反射器由單層或至少兩層形成。

3.根據權利要求2所述的超精細圖案沉積設備，其中所述光反射器的折射率與所述基底基板的折射率不同。

4.根據權利要求1所述的超精細圖案沉積設備，其中所述開口還包括形成在所述側向凹入的下部與所述基底基板的表面之間的空間，形成所述空間的側壁和頂板具有直線、非直線、斜線、圓形、橢圓形或多邊形形狀。

5.根據權利要求1所述的超精細圖案沉積設備，其中所述光反射器還包括用于補充其反射功能的反射金屬層，所述反射金屬層設置在所述光反射器之上或之下。

6.根據權利要求1所述的超精細圖案沉積設備，其中所述基底基板還包括抗反射層，所述抗反射層設置在所述基底基板的光所輸入的表面上。

7.根據權利要求1所述的超精細圖案沉積設備，其中所述基底基板還包括用于促進光的輸入的光柵層。

8.根據權利要求1所述的超精細圖案沉積設備，其中所述光熱轉換器位于所述基底基板的一側上或埋置在所述基底基板的凹部中。

9.根據權利要求1所述的超精細圖案沉積設備，還包括設置在所述光熱轉換器上的源部以將從所述源部發射的源引導至目標區域。

10.根據權利要求9所述的超精細圖案沉積設備，還包括設置在所述光熱轉換器與所述源部之間的功能層以改善導熱性。

11.根據權利要求7所述的超精細圖案沉積設備，其中所述光柵層形成為在特定角度具有光路的結構、具有波形圖案的結構和具有不同折射率的多層結構中的一者。

12.一種使用超精細圖案沉積設備的超精細圖案沉積法，所述超精細圖案沉積設備包括：光熱轉換器，其容置在基底基板中并將光能轉換為熱能；設置在所述光熱轉換器上的源部；光反射器，所述光反射器包括具有側向凹入的下部和從所述下部突出的上部的開口，以基于所述光反射器與所述基底基板之間的折射率差而反射輸入到所述光反射器的外部光并且將從所述源部發射的源引導至目標區域，以及涂層，所述涂層設置成覆蓋所述光反射器的上部和側部以阻止所述源施加至所述光反射器，所述超精細圖案沉積法包括：

布置所述超精細圖案沉積設備和目標基板并且將所述超精細圖案沉積設備和目標基板對準；以及

使激光束輻射到所述基底基板以沉積圖案，使得所述源沉積在所述目標基板的子像素的發光區上，

其中所述光反射器還包括用于補充其反射功能的反射金屬層，所述反射金屬層埋置在所述基底基板的凹部中。

13.根據權利要求12所述的超精細圖案沉積法，其中所述激光束相對于所述基底基板沿向上、向下和側向方向中的至少一者進行輻射。

14.一種發光顯示裝置，其通過根據權利要求12和13中任一項所述的超精細圖案沉積法制造。