[發(fā)明專利]蒸鍍設(shè)備及其調(diào)磁裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811256677.6 | 申請日: | 2018-10-26 |
| 公開(公告)號: | CN109295421B | 公開(公告)日: | 2020-10-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 楊濤 | 申請(專利權(quán))人: | 武漢華星光電半導(dǎo)體顯示技術(shù)有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/24 | 分類號: | C23C14/24;C23C14/12 |
| 代理公司: | 深圳翼盛智成知識產(chǎn)權(quán)事務(wù)所(普通合伙) 44300 | 代理人: | 黃威 |
| 地址: | 430079 湖北省武漢市東湖新技術(shù)*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 設(shè)備 及其 裝置 | ||
1.一種調(diào)磁裝置,用于一蒸鍍設(shè)備,其特征在于:所述調(diào)磁裝置包括:
一板體;
數(shù)個(gè)電磁件,均勻分布于所述板體的一表面;及
數(shù)個(gè)電驅(qū)動組件,將所述數(shù)個(gè)電磁件可移動地結(jié)合于所述板體,所述各電驅(qū)動組件為一電動二維移動平臺,所述電動二維移動平臺結(jié)合于所述數(shù)個(gè)電磁件中的一個(gè)與所述板體之間,使所述各電磁件在一平面上沿二維方向移動。
2.如權(quán)利要求1所述的調(diào)磁裝置,其特征在于:所述調(diào)磁裝置還包括:
一控制器,電性連接所述電磁件及所述電驅(qū)動組件,所述控制器傳輸數(shù)個(gè)控磁信號到所述數(shù)個(gè)電磁件,所述控磁信號由一軟件調(diào)節(jié)。
3.如權(quán)利要求2所述的調(diào)磁裝置,其特征在于:所述控制器傳輸數(shù)個(gè)移控信號到所述數(shù)個(gè)電驅(qū)動組件,所述移控信號由所述軟件調(diào)節(jié)。
4.如權(quán)利要求1所述的調(diào)磁裝置,其特征在于:所述數(shù)個(gè)電磁件陣列分布于所述板體的所述表面。
5.如權(quán)利要求1所述的調(diào)磁裝置,其特征在于:所述電動二維移動平臺具有一固定座、二螺桿、二馬達(dá)及一滑臺,所述固定座結(jié)合于所述板體,所述二螺桿設(shè)置在所述固定座且分別沿所述二維方向延伸,所述二馬達(dá)分別轉(zhuǎn)動地耦合所述二螺桿,所述二螺桿與所述滑臺螺紋地耦合,所述滑臺結(jié)合所述數(shù)個(gè)電磁件中的一個(gè)。
6.如權(quán)利要求1所述的調(diào)磁裝置,其特征在于:所述數(shù)個(gè)電磁件中的一個(gè)與相鄰的另一電磁件之間的一間距,且所述數(shù)個(gè)電磁件中的一個(gè)在所述平面上具有一定位點(diǎn),所述定位點(diǎn)移向所述相鄰的另一電磁件的一最大行程距離小于所述間距。
7.如權(quán)利要求1所述的調(diào)磁裝置,其特征在于:所述電磁件具有一鐵芯及數(shù)個(gè)線圈繞組,所述線圈繞組纏繞于所述鐵芯。
8.如權(quán)利要求1所述的調(diào)磁裝置,其特征在于:所述板體為用于所述蒸鍍設(shè)備中的一軛板。
9.一種蒸鍍設(shè)備,包括一腔體,其特征在于:包括如權(quán)利要求1至8任一項(xiàng)所述的調(diào)磁裝置,所述調(diào)磁裝置設(shè)置于所述腔體內(nèi)。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
- 傳感設(shè)備、檢索設(shè)備和中繼設(shè)備
- 簽名設(shè)備、檢驗(yàn)設(shè)備、驗(yàn)證設(shè)備、加密設(shè)備及解密設(shè)備
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