[發明專利]基于ZnO納米棒/Si異質結的自驅動光電探測器及制備方法有效
| 申請號: | 201811254652.2 | 申請日: | 2018-10-26 |
| 公開(公告)號: | CN109360862B | 公開(公告)日: | 2020-09-01 |
| 發明(設計)人: | 凌翠翠;郭天超;祝磊;李小芳;薛慶忠;侯志棟 | 申請(專利權)人: | 中國石油大學(華東) |
| 主分類號: | H01L31/0328 | 分類號: | H01L31/0328;H01L31/10;H01L31/18 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 基于 zno 納米 si 異質結 驅動 光電 探測器 制備 方法 | ||
本發明屬于光探測技術領域,具體涉及一種自驅動光電探測器,該自驅動光電探測器,由上至下依次包括金屬In點電極、金屬Pd前電極、表面修飾有ZIF?8的ZnO納米棒薄膜層、Si單晶基底和金屬In背電極。表面修飾有ZIF?8的ZnO納米棒薄膜層是利用磁控濺射、水熱法、氫氣退火處理等方法制備的。測試結果顯示,所制備薄膜器件表現出良好的自驅動光探測性能,具有性能穩定等優點。
技術領域
本發明屬于光探測技術領域,具體涉及一種自驅動光電探測器及其制備方法。
背景技術
光電探測器是指一種能將光信號轉變為電信號的電子器件。光電探測器已被廣泛地應用于生物成像、無損檢測、通訊、環境監測等領域。但是目前報道的大部分光電探測器需要電源驅動,這嚴重阻礙了光電探測器在實際生活中的應用。[Small,2017,13(45):1701687] 因此,開發自驅動光電探測器具有重要的意義。
氧化鋅(ZnO)是一種無毒、直接帶隙的半導體,其結晶溫度較低、易刻蝕、加工方便,且具有很高的化學穩定性和耐高溫性質,使得其在發光二極管、激光器、光電探測器等領域有著非常廣泛的應用。另外,由于平面薄膜結構會帶來不必要的光反射,不利于光電探測器性能的提高,因此具有優異光吸收特性的ZnO納米棒陣列已受到越來越多的關注。[Journal of Materials Chemistry C,2018,6,7077-7084]但是利用水熱方法制備的ZnO納米棒陣列中存在許多缺陷,不利于載流子的傳輸;而對ZnO進行氫氣退火處理可以有效改變ZnO納米棒陣列中的缺陷種類,提高光電探測器性能。[Thin Solid Films,2017,628:101-106]盡管如此,氫氣退火處理同時又會引入很多表面缺陷,影響光電探測器性能的進一步提高。 [Current Applied Physics,2012,12:S164-S167]ZIF-8,作為一種金屬有機框架材料,可以原位生長于ZnO納米棒表面,并且在其生長過程中可以有效減少ZnO納米棒表面的缺陷 [Advanced Energy Materials,2018:1800101],因此可以進一步提高光電探測器的性能。
發明內容
本發明的目的在于提供一種基于ZnO納米棒/Si異質結的自驅動光電探測器及其制備方法,可以解決目前ZnO納米棒基自驅動光電探測器的性能一般的問題。
本發明為實現上述目的所要解決的技術問題是,通過磁控濺射、水熱法、氫氣退火處理等方法,提高光電探測器的性能;即通過磁控濺射、水熱法和氫氣退火處理方法在硅基底表面制備表面修飾有ZIF-8的ZnO納米棒薄膜層,以獲得具有優異性能的自驅動光電探測器。
本發明為實現上述目的所采用的技術方案是,一種基于ZnO納米棒/Si異質結的自驅動光電探測器,其特征在于,為層狀結構,由上至下依次包括金屬In點電極、金屬Pd前電極、表面修飾有ZIF-8的ZnO納米棒薄膜層、Si單晶基底和金屬In背電極;其中:
優選的,所述Si單晶基底是單面拋光,晶面取向為(100)面,導電類型為p型,電阻率為0.1~1歐姆·厘米;
一種基于ZnO納米棒/Si異質結的自驅動光電探測器的制備方法,包括以下步驟:
(1)選取Si基底,對其進行清洗;
(2)對清洗完成后的Si基底進行干燥;
(3)將干燥完成的Si基底放入真空腔,在氬氣環境下,采用射頻磁控濺射技術,利用電離出的氬離子轟擊ZnO靶材,在Si基底表面沉積ZnO薄膜層;所述ZnO靶材為ZnO陶瓷靶,靶材純度為99.9%,所述氬氣氣壓維持1.2帕斯卡不變,靶基距為50毫米,薄膜的沉積溫度為20~25攝氏度,薄膜層厚度為40-100納米;
(4)將覆蓋有ZnO薄膜層的Si基底放入管式電阻爐,在溫度為100~400攝氏度下空氣氣氛中熱處理,溫度上升速率為5攝氏度每分鐘,至100~400攝氏度時保持60分鐘,然后自然冷卻至室溫;
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





