[發明專利]基于ZnO納米棒/Si異質結的自驅動光電探測器及制備方法有效
| 申請號: | 201811254652.2 | 申請日: | 2018-10-26 |
| 公開(公告)號: | CN109360862B | 公開(公告)日: | 2020-09-01 |
| 發明(設計)人: | 凌翠翠;郭天超;祝磊;李小芳;薛慶忠;侯志棟 | 申請(專利權)人: | 中國石油大學(華東) |
| 主分類號: | H01L31/0328 | 分類號: | H01L31/0328;H01L31/10;H01L31/18 |
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| 地址: | 266580 山*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 基于 zno 納米 si 異質結 驅動 光電 探測器 制備 方法 | ||
1.一種基于ZnO納米棒/Si異質結的自驅動光電探測器的制備方法,其特征在于包括以下步驟:
(1)選取Si基底,對其進行清洗;
(2)對清洗完成后的Si基底進行干燥;
(3)將干燥完成的Si基底放入真空腔,在氬氣環境下,采用射頻磁控濺射技術,利用電離出的氬離子轟擊ZnO靶材,在Si基底表面沉積ZnO薄膜層;所述ZnO靶材為ZnO陶瓷靶,靶材純度為99.9%,所述氬氣氣壓維持1.2帕斯卡不變,靶基距為50毫米,薄膜的沉積溫度為20~25攝氏度,薄膜層厚度為40-100納米;
(4)將覆蓋有ZnO薄膜層的Si基底放入管式電阻爐,在溫度為100~400攝氏度下空氣氣氛中熱處理,溫度上升速率為5攝氏度每分鐘,至100~400攝氏度時保持60分鐘,然后自然冷卻至室溫;
(5)將0.3~0.5克六水合硝酸鋅、0.15~0.25克烏洛托品和0.5~2毫升25%的氨水溶解于65毫升去離子水中,充分攪拌10分鐘,制得ZnO納米棒的生長液,將步驟(4)退火后的樣品放入溶液中,在85攝氏度環境下反應1~2小時,從溶液中取出來后將樣品充分吹干;
(6)將步驟(5)得到的樣品放入管式電阻爐,在溫度為200~400攝氏度下氫氣氣氛中熱處理,溫度上升速率為5攝氏度每分鐘,至200~400攝氏度時保持60分鐘,然后自然冷卻至室溫;
(7)將0.1~0.4克二甲基咪唑、45毫升N,N-二甲基甲酰胺和15毫升去離子水混合,充分攪拌20分鐘,將步驟(6)得到的樣品放入溶液中,在70攝氏度環境下反應0.5~1.5小時,將樣品從溶液中取出來后用乙醇清洗,25攝氏度下真空干燥5小時;
(8)將步驟(7)得到的樣品取出,并在表面修飾有ZIF-8的ZnO納米棒薄膜層的表面覆蓋掩膜片,然后將樣品放入真空腔;采用直流磁控濺射技術,利用電離出的氬離子轟擊金屬Pd靶材,在表面修飾有ZIF-8的ZnO納米棒薄膜層表面沉積金屬Pd前電極;所述Pd靶材為Pd金屬靶,靶材純度為99.9%;所述氬氣氣壓維持5.0帕斯卡不變,靶基距為50毫米,金屬Pd薄膜的沉積溫度為20~25攝氏度,金屬Pd前電極厚度為5~15納米;
(9)分別在金屬Pd前電極和Si基底上完成金屬In電極的壓制,并引出金屬Cu導線,完成器件的制備。
2.根據權利要求1所述的一種基于ZnO納米棒/Si異質結的自驅動光電探測器的制備方法,其特征在于:步驟(1)中,所述Si基底為p型Si單晶基底,尺寸為10毫米×10毫米,電阻率為0.1~1歐姆·厘米;清洗過程如下:將Si基底依次在高純酒精和丙酮溶液中多次超聲清洗,每次清洗的時間長度為180秒。
3.根據權利要求1所述的一種基于ZnO納米棒/Si異質結的自驅動光電探測器的制備方法,其特征在于:步驟(8)中,所述掩膜 片材料為不銹鋼,厚度為0.1毫米,尺寸為12毫米×12毫米,孔徑尺寸為5毫米×5毫米。
4.根據權利要求1所述的一種基于ZnO納米棒/Si異質結的自驅動光電探測器的制備方法,其特征在于:步驟(9)中,所述金屬In電極所用原料In的純度為99.5%,金屬Pd前電極上金屬In電極大小和厚度分別為1毫米×1.5毫米和1毫米,Si基底上金屬In電極大小和厚度均分別為10毫米×10毫米和2毫米,Cu導線直徑為0.1毫米。
5.采用權利要求1所述方法制備的一種基于ZnO納米棒/Si異質結的自驅動光電探測器,其特征在于:包括金屬In點電極、金屬Pd前電極、表面修飾有ZIF-8的ZnO納米棒薄膜層、Si單晶基底和金屬In背電極,表面修飾有ZIF-8的ZnO納米棒薄膜層設置在Si基底表面,金屬Pd前電極在表面修飾有ZIF-8的ZnO納米棒薄膜層表面,金屬In電極分別壓制于金屬Pd前電極和Si基底表面。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





