[發(fā)明專(zhuān)利]在部件承載件中嵌入具有預(yù)連接柱的部件有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201811253212.5 | 申請(qǐng)日: | 2018-10-25 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN109712894B | 公開(kāi)(公告)日: | 2023-04-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 漢內(nèi)斯·施塔爾;漢內(nèi)斯·沃拉貝格爾;安德里亞斯·茲魯克;舒斯特·貝蒂納 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 奧特斯奧地利科技與系統(tǒng)技術(shù)有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01L21/48 | 分類(lèi)號(hào): | H01L21/48;H01L23/498;H05K1/18 |
| 代理公司: | 北京超凡志成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11371 | 代理人: | 王暉;李丙林 |
| 地址: | 奧地利*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 部件 承載 嵌入 具有 連接 | ||
1.一種制造部件承載件(100)的方法,其中,所述方法包括:
在部件(102)上電沉積至少一個(gè)導(dǎo)電柱(104)的至少一部分;
將所述至少一個(gè)導(dǎo)電柱(104)和電絕緣層結(jié)構(gòu)(106)插入到彼此中并可選地固定到彼此中,所述方法包括將所述至少一個(gè)導(dǎo)電柱(104)插入所述電絕緣層結(jié)構(gòu)(106)中足夠深,使得所述至少一個(gè)導(dǎo)電柱(104)的自由端部(132)突出到所述電絕緣層結(jié)構(gòu)(106)以外并且因此露出;
在所述插入之前將臨時(shí)承載件(114)附接到所述電絕緣層結(jié)構(gòu)(106);以及
在所述插入之后從所述電絕緣層結(jié)構(gòu)(106)移除所附接的所述臨時(shí)承載件(114)的至少一部分。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,包括下述特征中的至少一個(gè):
其中,所述方法包括提供具有多個(gè)導(dǎo)電柱(104)的所述部件(102),所述部件的多個(gè)導(dǎo)電柱特別地以規(guī)則圖案布置;
其中,所述至少一個(gè)導(dǎo)電柱(104)具有至少為0.2、特別是至少為2的縱橫比;
其中,所述至少一個(gè)導(dǎo)電柱(104)包括銅或由銅構(gòu)成,特別地包括銅-鈦基部部分(140)和在所述銅-鈦基部部分上的銅頂部部分(142);
其中,通過(guò)在所述部件(102)上濺射第一材料特別是銅-鈦的基部部分(140)并通過(guò)在所述基部部分(140)上電沉積第二材料特別是銅的頂部部分(142),來(lái)形成所述至少一個(gè)導(dǎo)電柱(104);
其中,所述部件(102)包括至少一個(gè)焊盤(pán)(144),所述焊盤(pán)特別地包括鋁或由鋁構(gòu)成,所述至少一個(gè)導(dǎo)電柱(104)形成在所述焊盤(pán)上;
其中,所述方法包括:為晶圓級(jí)的多個(gè)一體化連接的部件(102)電沉積所述至少一個(gè)導(dǎo)電柱(104)的至少一部分,所述多個(gè)一體連接的部件特別地實(shí)施為半導(dǎo)體芯片;然后將所述部件(102)單個(gè)化,每個(gè)所述部件都設(shè)置有至少一個(gè)相應(yīng)的導(dǎo)電柱(104);
其中,所述方法包括:提供至少部分未固化的材料的電絕緣層結(jié)構(gòu)(106),并且在插入和/或固定期間使所述電絕緣層結(jié)構(gòu)(106)的所述至少部分未固化的材料至少部分地固化;
其中,所述電絕緣層結(jié)構(gòu)(106)包括樹(shù)脂、預(yù)浸料或高溫穩(wěn)定光致抗蝕劑,或者由樹(shù)脂、預(yù)浸料或高溫穩(wěn)定光致抗蝕劑構(gòu)成;
其中,所述方法包括將至少一個(gè)導(dǎo)電層結(jié)構(gòu)(108)和/或至少一個(gè)另外的電絕緣層結(jié)構(gòu)(106)與所述部件(102)連接,特別是層疊,所述至少一個(gè)另外的電絕緣層結(jié)構(gòu)特別地由至少部分未固化的材料制成;
其中,所述方法包括:鉆出穿過(guò)所述電絕緣層結(jié)構(gòu)(106)和所述至少一個(gè)另外的電絕緣層結(jié)構(gòu)(106)中的至少一個(gè)的至少一個(gè)孔(110),特別是通過(guò)激光鉆孔和機(jī)械鉆孔中的至少一種來(lái)進(jìn)行;以及
至少部分地用導(dǎo)電材料(112)填充至少一個(gè)鉆出的孔(110),從而接觸所述至少一個(gè)導(dǎo)電柱(104)中的至少一個(gè)和所述部件(102)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法,包括下述特征中的至少一個(gè):
其中,所述承載件(114)包括由下述構(gòu)成的組中的至少一種:芯(120);用至少一個(gè)導(dǎo)電層結(jié)構(gòu)(108)覆蓋的芯(120);在較厚的導(dǎo)電層(118)上的較薄的導(dǎo)電層(116);以及塑料層(122),特別是聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯層;
其中,所述承載件(114)包括與所述至少一個(gè)導(dǎo)電柱(104)對(duì)齊的至少一個(gè)凹部(124),使得在插入期間,所述至少一個(gè)柱(104)插入所述至少一個(gè)凹部(124)中。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法,包括下述特征中的至少一個(gè):
其中,所述方法包括:提供具有腔體(128)的容納結(jié)構(gòu)(126),并在插入程序期間將所述部件(102)布置在所述腔體(128)中;
其中,所述至少一個(gè)導(dǎo)電柱(104)在插入方向上具有在5μm至80μm之間的范圍內(nèi)的延伸部;
其中,所述電絕緣層結(jié)構(gòu)(106)具有在5μm至80μm之間的范圍內(nèi)的厚度;
其中,所述電絕緣層結(jié)構(gòu)(106)是部分或全部被所述至少一個(gè)導(dǎo)電柱(104)穿過(guò)的連續(xù)電絕緣層結(jié)構(gòu)(106)。
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H01L21-67 .專(zhuān)門(mén)適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專(zhuān)門(mén)適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





