[發(fā)明專利]處理液供給裝置、基板處理裝置以及處理液供給方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201811250812.6
• 申請(qǐng)日: 2018-10-25
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN109712910B
• 公開(kāi)（公告）日: 2023-07-14
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 巖畑翔太;樋口鲇美;藤田惠理;藤谷佳禮;真野雅子;竹松佑介;奧谷洋介
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 株式會(huì)社斯庫(kù)林集團(tuán)
• 主分類號(hào): H01L21/67
• 分類號(hào): H01L21/67
• 代理公司: 北京銀龍知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11243
• 代理人: 張敬強(qiáng);金成哲

1.一種處理液供給裝置，向處理基板的處理單元供給處理液，其特征在于，包括：

供給配管，其輸送貯存處理液的處理液箱內(nèi)的處理液，將從上述處理液箱輸送的處理液供給至上述處理單元；

返回配管，其與上述供給配管分支連接，使上述供給配管內(nèi)的處理液返回上述處理液箱；

第一加熱單元，其對(duì)在上述供給配管中設(shè)定于比連接有上述返回配管的分支位置靠上游側(cè)的上游側(cè)被加熱部分內(nèi)的處理液進(jìn)行加熱；

第二加熱單元，其對(duì)在上述供給配管中設(shè)定于比上述分支位置靠下游側(cè)的下游側(cè)被加熱部分內(nèi)的處理液進(jìn)行加熱；

冷卻單元，其對(duì)設(shè)定于上述返回配管的被冷卻部分內(nèi)的處理液進(jìn)行冷卻，在由上述第一加熱單元加熱并輸送至上述返回配管的處理液經(jīng)由上述返回配管返回上述處理液箱之前對(duì)該處理液進(jìn)行冷卻；以及

第一過(guò)濾器，其在比上述上游側(cè)被加熱部分靠上游側(cè)夾裝于上述供給配管，對(duì)從上述處理液箱輸送的處理液中的顆粒進(jìn)行去除。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的處理液供給裝置，其特征在于，

還包括第二過(guò)濾器，該第二過(guò)濾器在比上述分支位置靠下游側(cè)夾裝于上述供給配管，對(duì)處理液中的顆粒進(jìn)行去除。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的處理液供給裝置，其特征在于，

還包括開(kāi)閉閥，該開(kāi)閉閥在比上述分支位置靠下游側(cè)夾裝于上述供給配管，上述第二過(guò)濾器在比上述開(kāi)閉閥靠上游側(cè)夾裝于上述供給配管。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的處理液供給裝置，其特征在于，

還包括開(kāi)閉閥，該開(kāi)閉閥在比上述分支位置靠下游側(cè)夾裝于上述供給配管，上述第二過(guò)濾器在比上述開(kāi)閉閥靠下游側(cè)夾裝于上述供給配管。

5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的處理液供給裝置，其特征在于，

還包括第三過(guò)濾器，該第三過(guò)濾器在比上述上游側(cè)被加熱部分靠下游側(cè)、而且比上述分支位置靠上游側(cè)夾裝于上述供給配管，對(duì)處理液中的顆粒進(jìn)行去除。

6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的處理液供給裝置，其特征在于，

還包括第四過(guò)濾器，該第四過(guò)濾器在比上述被冷卻部分靠上游側(cè)夾裝于上述返回配管，對(duì)處理液中的顆粒進(jìn)行去除。

7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的處理液供給裝置，其特征在于，

還包括第五過(guò)濾器，該第五過(guò)濾器在比上述被冷卻部分靠下游側(cè)夾裝于上述返回配管，對(duì)處理液中的顆粒進(jìn)行去除。

8.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的處理液供給裝置，其特征在于，

上述第一加熱單元包括：具有與上述上游側(cè)被加熱部分的外周面對(duì)置的內(nèi)周面的第一筒狀配管；以及向上述上游側(cè)被加熱部分的外周面與上述第一筒狀配管的內(nèi)周面之間供給加熱流體的第一加熱流體供給單元。

9.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的處理液供給裝置，其特征在于，

上述第二加熱單元包括：具有與上述下游側(cè)被加熱部分的外周面對(duì)置的內(nèi)周面的第二筒狀配管；以及向上述下游側(cè)被加熱部分的外周面與上述第二筒狀配管的內(nèi)周面之間供給加熱流體的第二加熱流體供給單元。

10.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的處理液供給裝置，其特征在于，

上述第一加熱單元包括配置于上述供給配管的上述上游側(cè)被加熱部分的第一加熱器，

上述第二加熱單元包括配置于上述供給配管的上述下游側(cè)被加熱部分的第二加熱器。

11.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的處理液供給裝置，其特征在于，

上述冷卻單元包括：具有與上述返回配管的上述被冷卻部分的外周面對(duì)置的內(nèi)周面的第三筒狀配管；以及向上述被冷卻部分的外周面與上述第三筒狀配管的內(nèi)周面之間供給冷卻流體的冷卻流體供給單元。