[發明專利]淺層X射線皮膚治療裝置及系統

在審

• 申請號: 201811247191.6
• 申請日: 2018-10-24
• 公開（公告）號: CN109157766A
• 公開（公告）日: 2019-01-08
• 發明（設計）人: 梁棟;洪序達;葛永帥;石偉;胡戰利;鄭海榮
• 申請（專利權）人: 深圳先進技術研究院
• 主分類號: A61N5/10
• 分類號: A61N5/10
• 代理公司: 北京超凡志成知識產權代理事務所(普通合伙) 11371
• 代理人: 逯恒

本發明實施例提供的一種淺層X射線皮膚治療裝置及系統。其中，上述淺層X射線皮膚治療裝置包括X光源陣列組件及主控組件；所述X光源陣列組件包括基座和多個均勻分布于所述基座的冷陰極X光源；所述冷陰極X光源與所述主控組件電性連接；所述冷陰極X光源在所述主控組件的控制下工作。降低輻射劑量，確保使用安全；射線分布均勻，提高效果；輻射能量可控制，避免產生高能輻射。改善長時間使用過程中光源本身的熱量積累，在確保光源使用壽命的同時，延遲單次治療的持續使用時長，提高治療效率。

技術領域

本發明涉及醫療設備技術領域，具體而言，涉及淺層X射線皮膚治療裝置及系統。

背景技術

隨著我國經濟發展快速發展，人們生活的環境也隨之快速變化。包括皮膚癌、角化性疾病、各類皮膚炎癥、病毒性皮膚病等在內的皮膚疾病的發病率也逐年升高。另外，人們對美容健康越來越重視，對手術、意外傷害造成的皮膚瘢痕(例如增生性瘢痕、瘢痕疙瘩、瘢痕腫瘤等)的治療需求也越來越大。

目前，淺層X射線治療已成為治療瘢痕和各種皮膚疾病的最重要的治療方法。現有的淺層X射線治療設備利用單個熱陰極光源發射出的X射線。然而，為了滿足治療需求，往往需要給熱陰極光源施加50–100kV的陽極高壓，而熱陰極光源在50–100kV的陽極高壓下會產生一定數量的高能射線，這些高能射線有穿透皮膚造成輻射傷害的風險。且由于熱陰極光源自身熱容量限制等原因，可持續工作時間短，大大增加了治療時間。

發明內容

本發明的目的在于提供一種淺層X射線皮膚治療裝置及系統，其旨在改善上述問題。

第一方面，本發明實施例提供的一種淺層X射線皮膚治療裝置，所述淺層X射線皮膚治療裝置包括X光源陣列組件及主控組件；所述X光源陣列組件包括基座和多個均勻分布于所述基座的冷陰極X光源；所述冷陰極X光源與所述主控組件電性連接；所述冷陰極X光源在所述主控組件的控制下工作。

進一步地，所述主控組件包括驅動控制單元，所述驅動控制單元與所述X光源陣列組件電性連接；所述驅動控制單元用于周期性地控制所述X光源陣列組件的工作狀態。

進一步地，所述淺層X射線皮膚治療裝置還包括高壓源組件，所述驅動控制單元包括脈沖驅動模塊和電路開關控制模塊，所述脈沖驅動模塊與冷陰極X光源電性連接，所述高壓源組件與所述冷陰極X光源之間通過電路開關控制模塊電性連接；所述高壓源組件用于向每一所述冷陰極X光源供電，所述脈沖驅動模塊用于通過發出周期性的脈沖信息控制所述冷陰極X光源的工作狀態；所述電路開關控制模塊用于控制每一個所述冷陰極X光源與所述高壓源組件之間的通斷。

進一步地，所述冷陰極X光源設置于所述基座的真空腔內，且朝向所述基座上的一射線窗口；所述冷陰極X光源包括場發射冷陰極、柵極、聚焦極和陽極，所述場發射冷陰極、柵極、聚焦極和陽極依次間隔設置；所述陽極與場發射冷陰極之間呈指定角度，所述陽極面向所述射線窗口；所述柵極、聚焦極和陽極均與所述高壓源組件電性連接；所述柵極用于在所述高壓源組件的控制下提供所述場發射冷陰極發射出電子所需的電場；所述聚焦極通過對應的聚焦孔聚焦所述場發射冷陰極發射出的所述電子形成的電子束；所述陽極對接收到所述電子束進行加速，以獲得高能電子并反射出所述高能電子轟擊產生的X射線，以使所述X射線從對應的所述射線窗口射出。

進一步地，所述高壓源組件包括中低壓電源和高壓電源；所述中低壓電源分別與所述柵極和聚焦極電性連接，所述高壓電源與所述陽極電性連接。

進一步地，所述淺層X射線皮膚治療裝置還包括射線濾波器；所述射線濾波器設置于所述射線窗口；所述主控組件還包括能量劑量控制單元，所述能量劑量控制單元分別與所述射線濾波器及所述高壓源組件連接；所述高壓源組件及所述射線濾波器用于在所述能量劑量控制單元的控制下調節所述X射線的能量水平；所述高壓源組件還用于在所述能量劑量控制單元的控制下調節所述X射線的劑量值。