[發明專利]淺層X射線皮膚治療裝置及系統

在審

• 申請號: 201811247191.6
• 申請日: 2018-10-24
• 公開（公告）號: CN109157766A
• 公開（公告）日: 2019-01-08
• 發明（設計）人: 梁棟;洪序達;葛永帥;石偉;胡戰利;鄭海榮
• 申請（專利權）人: 深圳先進技術研究院
• 主分類號: A61N5/10
• 分類號: A61N5/10
• 代理公司: 北京超凡志成知識產權代理事務所(普通合伙) 11371
• 代理人: 逯恒

1.一種淺層X射線皮膚治療裝置，其特征在于，所述淺層X射線皮膚治療裝置包括X光源陣列組件及主控組件；所述X光源陣列組件包括基座和多個均勻分布于所述基座的冷陰極X光源；所述冷陰極X光源與所述主控組件電性連接；所述冷陰極X光源在所述主控組件的控制下工作。

2.如權利要求1所述的淺層X射線皮膚治療裝置，其特征在于，所述主控組件包括驅動控制單元，所述驅動控制單元與所述X光源陣列組件電性連接；所述驅動控制單元用于周期性地控制所述X光源陣列組件的工作狀態。

3.如權利要求2所述的淺層X射線皮膚治療裝置，其特征在于，所述淺層X射線皮膚治療裝置還包括高壓源組件，所述驅動控制單元包括脈沖驅動模塊和電路開關控制模塊，所述脈沖驅動模塊與冷陰極X光源電性連接，所述高壓源組件與所述冷陰極X光源之間通過電路開關控制模塊電性連接；

所述高壓源組件用于向每一所述冷陰極X光源供電，所述脈沖驅動模塊用于通過發出周期性的脈沖信息控制所述冷陰極X光源的工作狀態；

所述電路開關控制模塊用于控制每一個所述冷陰極X光源與所述高壓源組件之間的通斷。

4.如權利要求3所述的淺層X射線皮膚治療裝置，其特征在于，所述冷陰極X光源設置于所述基座的真空腔內，且朝向所述基座上的一射線窗口；

所述冷陰極X光源包括場發射冷陰極、柵極、聚焦極和陽極，所述場發射冷陰極、柵極、聚焦極和陽極依次間隔設置；所述陽極與場發射冷陰極之間呈指定角度，所述陽極面向所述射線窗口；所述柵極、聚焦極和陽極均與所述高壓源組件電性連接；

所述柵極用于在所述高壓源組件的控制下提供所述場發射冷陰極發射出電子所需的電場；

所述聚焦極通過對應的聚焦孔聚焦所述場發射冷陰極發射出的所述電子形成的電子束；

所述陽極對接收到所述電子束進行加速，以獲得高能電子并反射出所述高能電子轟擊產生的X射線，以使所述X射線從對應的所述射線窗口射出。

5.如權利要求4所述的淺層X射線皮膚治療裝置，其特征在于，所述高壓源組件包括中低壓電源和高壓電源；所述中低壓電源分別與所述柵極和聚焦極電性連接，所述高壓電源與所述陽極電性連接。

6.如權利要求5所述的淺層X射線皮膚治療裝置，其特征在于，所述淺層X射線皮膚治療裝置還包括射線濾波器；所述射線濾波器設置于所述射線窗口；所述主控組件還包括能量劑量控制單元，所述能量劑量控制單元分別與所述射線濾波器及所述高壓源組件連接；

所述高壓源組件及所述射線濾波器用于在所述能量劑量控制單元的控制下調節所述X射線的能量水平；

所述高壓源組件還用于在所述能量劑量控制單元的控制下調節所述X射線的劑量值。

7.如權利要求6所述的淺層X射線皮膚治療裝置，其特征在于，所述能量劑量控制單元包括劑量感知探頭、能量控制器及劑量控制器，所述能量控制器分別與所述射線濾波器、連接所述陽極的高壓電源電性連接，所述劑量控制器分別與所述劑量感知探頭及連接所述柵極的中低壓電源電性連接；

所述能量控制器用于通過控制所述射線濾波器的設置和所述高壓電源施加于所述陽極的高壓值來調節所述X射線的能量水平；

所述劑量感知探頭用于感知從所述射線窗口射出的所述X射線的劑量值，并反饋至所述劑量控制器，所述劑量控制器基于接收到的所述劑量值控制所述中低壓電源施加于所述柵極的電壓值，以調整從所述射線窗口射出的所述X射線的劑量值。

8.如權利要求1所述的淺層X射線皮膚治療裝置，其特征在于，所述淺層X射線皮膚治療裝置還包括箱體和機械臂，所述主控組件還包括機械臂控制單元；所述主控組件設置于所述箱體內，所述機械臂一端連接所述箱體，另一端與所述X光源陣列組件活動連接，所述機械臂控制單元與所述機械臂電性連接，所述機械臂控制單元用于控制所述機械臂的工作狀態，以調整所述X光源陣列組件的位置。

9.如權利要求1所述的淺層X射線皮膚治療裝置，其特征在于，所述基座為環形基座或對稱多邊形基座。

10.一種淺層X射線皮膚治療系統，其特征在于，包括主機、顯示器及如權利要求1-9任意一項所述的淺層X射線皮膚治療裝置，所述主機和所述主控組件均設置于所述淺層X射線皮膚治療裝置的箱體內，且所述主機分別與所述主控組件及顯示器均電性連接；所述主機用于控制所述主控組件的工作狀態，所述顯示器用于向用戶提供與所述主機之間的交互界面。