[發明專利]含銀薄膜蝕刻液組合物、利用其制造的顯示裝置用陣列基板及其制造方法

有效

• 申請號: 201811245657.9
• 申請日: 2018-10-24
• 公開（公告）號: CN110359049B
• 公開（公告）日: 2021-11-23
• 發明（設計）人: 張晌勛;權五柄;崔亨燮
• 申請（專利權）人: 東友精細化工有限公司
• 主分類號: C23F1/30
• 分類號: C23F1/30;H01L21/77
• 代理公司: 北京市中倫律師事務所 11410
• 代理人: 楊黎峰;鐘錦舜

本發明提供含銀薄膜蝕刻液組合物、利用其制造的顯示裝置用陣列基板及其制造方法，相對于組合物總重量，所述蝕刻液組合物包含：40.0重量％至60.0重量％的磷酸；5.0重量％至9.0重量％的硝酸；0.1重量％至4.0重量％的硝酸鐵；0.1重量％至5.0重量％的有機酸鹽；以及余量的水。

技術領域

本發明涉及含銀薄膜蝕刻液組合物、利用其制造的顯示裝置用陣列基板及其制造方法。

背景技術

隨著正式步入信息化時代，處理并顯示大量信息的顯示裝置領域得到急速發展，應對于此，開發了多種多樣的平板顯示器并受到關注。作為這樣的平板顯示裝置的例子，可以舉出液晶顯示裝置(Liquid Crystal Display device：LCD)、等離子體顯示裝置(PlasmaDisplay Panel device：PDP)、場發射顯示裝置(Field Emission Display device：FED)、有機發光二極管(Organic Light Emitting Diodes：OLED)等。

例如，OLED由于元件本身發光且在低電壓下也能夠被驅動，因此已被快速地應用于便攜設備等小型顯示裝置市場，而且隨著顯示裝置的大畫面化的趨勢，當前狀況是在大型TV等中商用化。隨著顯示裝置大畫面化，配線等變長而配線電阻增大，因此要求能夠降低電阻而實現顯示裝置的大型化和高分辨率的方法。

為了解決電阻增加所引起的信號延遲等問題，需要由使上述配線具有盡可能小電阻率的材料來形成。作為這樣的努力中的一環，關注通過將與其他金屬相比具有低電阻率和高亮度、高導電率的銀(Ag：電阻率約1.59μΩcm)膜、銀合金膜或包含銀膜或銀合金膜的多層膜用于濾色器的電極、配線和反射膜等中來實現平板顯示裝置的大型化和高分辨率及低耗電等，并且要求用于這樣的材料的蝕刻液。

在利用含銀薄膜的情況下，雖然在低分辨率顯示裝置中銀的再吸附的發生沒有成為問題，但是在高分辨率顯示裝置技術中，實際情況是銀的再吸附突顯問題。與此關聯，以往開發了用包含磷酸、乙酸、硝酸的蝕刻液組合物(韓國授權專利第10-0579421號)等將包含銀的薄膜蝕刻的方法，但是在包含乙酸的情況下，存在因乙酸的強揮發性而經時穩定性下降的問題，且發生了產生斑紋的問題等。

[現有技術文獻]

[專利文獻]

(專利文獻1)：韓國授權專利第10-0579421號

發明內容

技術問題

本發明是為了解決上述以往技術問題而提出的，其目的在于，提供一種在蝕刻包含銀的金屬膜時經時穩定性問題得到改善，幾乎沒有銀殘渣和再吸附而顯示優異的效果，且直進性優異的含銀薄膜的蝕刻液組合物。

此外，本發明的目的在于，提供使用上述蝕刻液組合物而制造的顯示裝置用陣列基板及其制造方法。

技術方案

本發明提供一種含銀薄膜的蝕刻液組合物，相對于組合物總重量，所述蝕刻液組合物包含：40.0重量％至60.0重量％的磷酸；5.0重量％至9.0重量％的硝酸；0.1重量％至4.0重量％的硝酸鐵；0.1重量％至5.0重量％的有機酸鹽；以及余量的水。

此外，本發明提供一種顯示裝置用陣列基板的制造方法，其特征在于，包括：

步驟a)在基板上形成柵極配線；

步驟b)在包含所述柵極配線的基板上形成柵極絕緣層；

步驟c)在所述柵極絕緣層上形成氧化物半導體層；

步驟d)在所述氧化物半導體層上形成源電極和漏電極；以及

步驟e)形成與所述漏電極連接的像素電極，