[發明專利]一種蒸鍍系統及相應的蒸鍍及掩膜板清洗方法

在審

• 申請號: 201811234189.5
• 申請日: 2018-10-23
• 公開（公告）號: CN109182976A
• 公開（公告）日: 2019-01-11
• 發明（設計）人: 黃建寧
• 申請（專利權）人: 黃建寧
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C14/04;C23C14/12
• 代理公司: 北京尚鉞知識產權代理事務所(普通合伙) 11723
• 代理人: 王海榮

本發明涉及一種蒸鍍系統及蒸鍍及掩膜板清洗方法，所述蒸鍍系統包括第一蒸鍍模塊、第二蒸鍍模塊和清洗模塊，其中，第一蒸鍍模塊包括第一掩膜板、第一對位室、有機蒸鍍室和第一分離平臺；第二蒸鍍模塊包括第二掩膜板、第二對位室、金屬蒸鍍室和第二分離平臺；清洗模塊包括加熱室、冷卻室、轉換平臺、清洗單元、卸載臺和掩膜板儲藏室；清洗模塊中轉換平臺與第一分離平臺連接、加熱室與第二分離平臺連接、掩膜板儲藏室與第一對位室連接。與現有技術相比，根據本發明的蒸鍍系統及相應的蒸鍍及掩膜板清洗方法，可以顯著提高蒸鍍工藝效率和清洗效果，并在保護環境的同時顯著降低清洗成本。

技術領域

本發明涉及顯示技術領域，更加具體地，涉及蒸鍍系統及相應的蒸鍍及掩膜板清洗方法。

背景技術

OLED，即有機發光二極管(Organic Light-Emitting Diode)，具有全固態結構、高亮度、全視角、響應速度快、工作溫度范圍寬、可實現柔性顯示等優點，是新一代顯示技術的重要組成，極具發展前景。

目前主要采用蒸鍍法制造OLED，即將鍍膜材料加熱后配合掩膜板沉積在玻璃基板上的預定區域，以此實現有機層和金屬層的鍍膜。而用于大尺寸蒸鍍的掩膜板都是使用開口式掩膜板，一種是用于蒸鍍有機層的有機掩膜板，另一種是用于蒸鍍陰極的金屬掩膜板。在蒸鍍過程中，掩膜板的掩膜框和掩膜條上會堆積大量的有機材料和金屬材料，為防止材料增厚而產生的掩膜精度偏差和剝落污染蒸鍍室，掩膜板需要定期清洗。

現有蒸鍍工藝中，蒸鍍后的有機掩膜板和金屬掩膜板需要用不同的藥劑和設備進行清洗，藥劑使用量大，費用高昂，生產成本高，生產效率低。已有專利(專利公開號CN104614933A)將鍍完有機物和金屬層的金屬掩膜板直接放入在有機掩膜板清洗機，通過清洗掩膜條和金屬層間的有機物，達到金屬層直接剝落的目的來清洗掩膜板的金屬層。

在實際生產中此方法無法解決兩個問題：一是金屬層蒸鍍后完全包覆有機層，清洗劑不能溶解有機層或溶解效率低；另一方面，少量剝落的金屬層長期殘留在藥液槽里，清理困難，不利于長期生產需要。

發明內容

為解決現有技術的不足，本發明提供一種蒸鍍系統及相應的蒸鍍及掩膜板清洗方法。

根據本發明的一方面，一種蒸鍍系統，包括第一蒸鍍模塊、第二蒸鍍模塊和清洗模塊；其中，第一蒸鍍模塊包括第一掩膜板、第一對位室、有機蒸鍍室和第一分離平臺；第二蒸鍍模塊包括第二掩膜板、第二對位室、金屬蒸鍍室和第二分離平臺；清洗模塊包括加熱室、冷卻室、轉換平臺、清洗單元、卸載臺和掩膜板儲藏室；清洗模塊中轉換平臺與第一分離平臺連接、真空加熱室與第二分離平臺連接、掩膜板儲藏室與第一對位室連接。

根據本發明的示例性實施例，所述第一掩膜板為掩膜板基體；所述第二掩膜板包括掩膜板基體及依次包覆在基體外側的有機層和金屬層，其中，有機層厚度為10μm-30μm，可以為蒸鍍有機材料如酞菁銅或芳香胺等的一種或多種，金屬層材料可以為Al或Mg。

根據本發明的示例性實施例，所述加熱室包括腔室、掩膜板加熱板(或加熱框)、真空泵、閥門、傳送裝置、清潔刷、回收盤、氣氛感應器和真空探測器。

根據本發明的示例性實施例，所述冷卻室包括腔室、真空閥門、傳送裝置、風槍、水冷管、回收盤和溫度感應器。

根據本發明的示例性實施例，所述清洗單元包括清洗室和浸潤室。

根據本發明的另一方面，一種蒸鍍及掩膜板清洗方法，所述方法包括：

一、第一對位

玻璃基板與儲藏室中的第一掩膜板在第一對位室完成第一對位，確保玻璃基板需要蒸鍍的區域與第一掩膜板開口區域重合，對位誤差不大于50μm；

二、有機蒸鍍

玻璃基板從入口處與儲藏室的第一掩膜板在第一對位室完成第一對位后，傳送至有機蒸鍍室進行有機層蒸鍍；